Fabrication of sub-100nm sized Hydrogen Silsequioxane patterns using reversal imprint lithography (역 임프린팅을 이용한 sub-100nm급 Hydrogen Silsequioxane 패턴 형성에 대한 연구)

• Yang, K.Y.;Lee, H.;Kim, J.W.;Yun, K.M.;Bae, B.J.
• • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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  • 2007.11a
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  • pp.153-154
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  • 2007
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Fabrication of sub-micron double patterned structure using reversal imprint (역 임프린트 공정을 이용한 양면 다층 나노 구조물 제작)

• Han, Kang-Soo;Hong, Sung-Hoon;Lee, Heon
• • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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  • 2006.10a
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  • pp.489-490
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  • 2006
• PDF

역 임프린트를 이용한 sub micron급 2차원 나노 패턴의 적층 구조물 제작

• Han, Gang-Su;Hong, Seong-Hun;Lee, Heon
• • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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  • 2006.11a
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  • pp.28.1-28.1
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  • 2006
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나노임프린트 리소그래피를 통한 sub micron급 2차원 나노 패턴의 다층 구조물 제작에 관한 연구

• Han, Kang-Su;Hong, Seong-Hun;Lee, Jong-Hwa;Lee, Heon
• • Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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  • 2006.05a
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  • pp.40.2-40.2
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  • 2006
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