Remote PECVD 산화막의 증착특성 및 박막 특성 연구
(A Study of Deposition Properties and Characteristics of $SiO_2$ T film Grown by Remote Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)
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- 전자공학회논문지A
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- 제29A권8호
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- pp.63-70
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- 1992