Modified Principal Component Analysis for In-situ Endpoint Detection of Dielectric Layers Etching Using Plasma Impedance Monitoring and Self Plasma Optical Emission Spectroscopy
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- 한국진공학회:학술대회논문집
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- 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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- pp.182-182
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- 2012