We have studied the structural and optical properties of the non-doped and Co 0.08 at.%, Co 0.02 at.%, and Co 0.11 at.% doped ZnO nanorods (NRs) synthesized using the simple low-temperature chemical bath deposition (CBD) method at 95℃ for 2 hours. The scanning electron microscope (SEM) images confirmed the morphology of the ZnO NRs are affected by Co incorporation. As observed, the Co 0.08 at.% doped ZnO NRs have a larger dimension with an average diameter of 153.4 nm. According to the International Centre for Diffraction Data (ICDD) number #00-036-1451, the x-ray diffraction (XRD) pattern of non-doped and Co-doped ZnO NRs with the preferred orientation of ZnO NRs in the (002) plane possess polycrystalline hexagonal wurtzite structure with the space group P63mc. Optical absorbance indicates the Co 0.08 at.% doped ZnO NRs have stronger and blueshift bandgap energy (3.104 ev). The room temperature photoluminescence (PL) spectra of ZnO NRs exhibited excitonicrelates ultraviolet (UV) and defect-related green band (GB) emissions. By calculating the UV/GB intensity, the Co 0.08 at.% is the proper atomic percentage to have fewer intrinsic defects. We predict that Co-doped ZnO NRs induce a blueshift of near band edge (NBE) emission due to the Burstein-Moss effect. Meanwhile, the redshift of NBE emission is attributed to the modification of the lattice dimensions and exchange energy.
GaN thin fan were grown by spin coated colloidal GaOOH precursor. Polycrystalline GaNs with crystalline size of $10{\sim}100nm$ were grown on $SiO_2$ substrate. The shape of crystallite above $900^{\circ}C$ had the hexagonal plate and column type. X-ray diffraction patterns for them correspond to those of the hexagonal wurtzite GaN. With increasing droplets. i.e, thickness of deposited layers, XRD intensity increased. PL (photoluminescence) spectrum consisted with an weak near band-edge emission at 3.45 eV and a broad donor-acceptor emission band at 3.32 eV. From the low temperature PL measurement on GaN grown at $800^{\circ}C$ that the shallow donor-acceptor recombination induced emission was more intense than the near band-edge excitonic emission.
In this study, CdS thin films were deposited onto glass substrates by radio frequency magnetron sputtering. The films were grown at various substrate temperatures in the range of 100 to $250^{\circ}C$. The effects of substrate temperatures on the structural and optical properties were examined. The XRD analysis revealed that CdS films were polycrystalline and retained the mixed structure of hexagonal wurtzite and cubic phase. The percentages of hexagonal structured crystallites in the films were seen to be increased by increasing substrate temperatures. The film grown at $250^{\circ}C$ showed a relatively high transmittance of 80% in the visible region, with an energy band gap of 2.45 eV. The transmittance date analysis indicated that the optical band gap was closely related to the substrate temperatures.
We present an excellent detection for nitrogen monoxide (NO) gas using polycrystalline ZnO wire-like films synthesized via a simple method combined with sputtering of Zn metallic films and subsequent thermal oxidation of the sputtered Zn nanowire films in dry air. Structural and morphological characterization revealed that it would be possible to synthesize polycrystalline hexagonal wurtzite ZnO films of a wire-like nanostructure with widths of 100-150 nm and lengths of several microns by controlling the sputtering conditions. It was found from the gas sensing measurements that the ZnO wire-like thin film gas sensor showed a significantly high response, with a maximum value of 29.2 for 2 ppm NO at $200^{\circ}C$, as well as a reversible fast response to NO with a very low detection limit of 50 ppb. In addition, the ZnO wire-like thin film gas sensor also displayed an NO-selective sensing response for NO, $O_2$, $H_2$, $NH_3$, and CO gases. Our results illustrate that polycrystalline ZnO wire-like thin films are potential sensing materials for the fabrication of NO-sensitive high-performance gas sensors.
CdS films have been prepared on polycarbonate, polyethylene terephthalate, and Coming 7059 substrates by r.f magnetron sputtering technique at room temperature. A comparison of the properties of the films deposited on polymer and glass substrates was performed. In addition, the influence of the sputter power on the structural and optical properties of these films was evaluated. The XRD measurements revealed that CdS films were polycrystalline and retained the mixed structure of hexagonal wurtzite and cubic phase, regardless of substrate types. As the sputter power was increased from 75 to 150 Watt, the structure of CdS films was converted from the mixed of hexagonal and cubic phase to hexagonal phase. The morphology of CdS films is found to be continuous and dense. Also, the grain of CdS films is larger with increasing the sputter power. The average transmittance exceeded 80 % in the visible spectrum for all films and decreases slightly with the sputter power.
In this report, the structural and optical properties of sol-gel derived $Mg_xZn_{1-x}O$ thin films upon changes in the composition and annealing temperature were investigated. The $Mg^{2+}$ content and the annealing temperature were varied in the range of $0{\leq}x{\leq}0.35$ and $400^{\circ}C{\leq}T{\leq}600^{\circ}C$, respectively. The films exhibited a hexagonal wurtzite structure of a polycrystalline nature. The optical transmittance exceeded 85% and the optical band gap of the film was tuned as high as 3.84 eV at a value of x = 0.35 (annealed at $400^{\circ}C$), which was evidently the maximum $Mg^{2+}$ content for the single-phase polycrystalline $Mg_xZn_{1-x}O$ thin films prepared in this experiment. The optical band gap and photoluminescence emission were tailored to the higher energy side while maintaining crystallinity without a significant change of the lattice constant.
Polycrystalline CdTe thin films -have been studied for photovoltaic application because of their high absorption coefficient and optimal band gap energy (1.54 eV) for solar energy conversion. In this study, we prepared CdTe films using RF-magnetron sputtering method and investigated structural, optical and electrical properties with spectrophotometer, XRD, EDX, and resistivity meter. CdTe films at $200\;^{\circ}C$ showed a mixture of zinc blend (Cubic) and wurtzite (hexagonal) phase. On the other hand, the films at $400\;^{\circ}C$ showed highly oriented structure having hexagonal structure. The resistivity of CdTe films deposited on $SiO_2$ substrates was about $10_7\;{\Omega}cm$. The value of resistivity decreased with the increase of the substrate temperature. CdTe were sputtered on CdS thin films prepared by chemical bath deposition for the formation of the heterojunction. I-V characteristics of these cells were measured at a light density of $100mw/cm^2$, AM. 1.0. The present thin film solar cells showed a conversion efficiency of about 5%.
Large-area graphene films produced by means of chemical vapor deposition (CVD) are polycrystalline and thus contain numerous grain boundaries that can greatly degrade their performance and produce inhomogeneous properties. A better grain boundary engineering in CVD graphene is essential to realize the full potential of graphene in large-scale applications. Here, we report a defect-selective atomic layer deposition (ALD) for stitching grain boundaries of CVD graphene with ZnO so as to increase the connectivity between grains. In the present ALD process, ZnO with hexagonal wurtzite structure was selectively grown mainly on the defect-rich grain boundaries to produce ZnO-stitched CVD graphene with well-connected grains. For the CVD graphene film after ZnO stitching, the inter-grain mobility is notably improved with only a little change in free carrier density. We also demonstrate how ZnO-stitched CVD graphene can be successfully integrated into wafer-scale arrays of top-gated field effect transistors on 4-inch Si and polymer substrates, revealing remarkable device-to-device uniformity.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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pp.1546-1549
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2005
Al-doped ZnO (ZnO:Al) thin films were grown on corning 1737 glass substrates by dc magnetron sputtering. The structural, electrical and optical properties of the films were investigated as a function of various discharge power. The obtained films were polycrystalline with a hexagonal wurtzite structure and preferentially oriented in the (002) crystallographic direction. The lowest resistivity is $6.0{\times}10^{-4}$ Ocm with the carrier concentration of $2.694{\times}10^{20}$$cm^{-3}$ and Hall mobility of $20.426cm^2/Vs$. The average transmittance in the visible range was above 90%.
Al-doped ZnO (AZO) thin films were grown on type of glass#1737 substrates by DC magnetron sputtering. The structural, electrical and optical properties of the films were investigated as a function of various plasma discharge power. The obtained films were polycrystalline with a hexagonal wurtzite structure and preferentially oriented in the (002) crystallographic direction. The lowest resistivity was $6.0{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ with the carrier concentration of $2.69{\times}10^{20}cm^{-3}$ and Hall mobility of 20.43 $cm^2/Vs$. The average transmittance in the visible range was above 90%.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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