Fabrication of dot-patterned carbon nanotube (CNT) emitters with excellent field emission properties using photo-sensitive CNT paste is described. The photosensitive CNT paste showed good photo-patternability, which led us to easily form $10-{\mu}m$-diameter dot arrays. We presented a parametric study on formulating the photo-sensitive paste and their resultant field emission characteristics.
Fabrication of photosensitive carbon nanotubes paste and its post-treatment has been developed for high resolution with good electron emission uniformity. We report novel post-treatment techniques including rubber-rolling and multiple field emission cycling from which we could improve the field emission properties of printed carbon nanotubes. These techniques would be easily applicable to large area field emission display using paste of carbon nanotubes
In this study, two important requirements for the home production of a robot to detect and remove improvised explosive devices (IEDs) are presented in terms of the total cost for robot system development and the performance improvement of the mine detection technology. Firstly, cost analyses were performed in order to provide a reasonable solution following an engineering estimate method. As a result, the total cost for a mass production system without the mine detection system was estimated to be approximately 396 million won. For the case including the mine detection system, the total cost was estimated to be approximately 411 million won, in which labor costs and overhead charges were slightly increased and the material costs for the mine detection system were negligible. Secondly, a method for fabricating the carbon nanotube (CNT) based gas detection sensor was studied. The detection electrodes were formed by a photolithography process using a photosensitive CNT paste. As a result, this method was shown to be a scalable and expandable technology for producing excellent mine detection sensors. In particular, it was found that surface treatments by using adhesive taping or ion beam bombardment methods are effective for exposing the CNTs to the ambient air environment. Fowler-Nordheim (F-N) plots were obtained from the electron-emission characteristics of the surface treated CNT paste. The F-N plot suggests that sufficient electrons are available for transport between CNT surfaces and chemical molecules, which will make an effective chemiresistive sensor for the advanced IED detection system.
후막 리소그라피 기술은 기판 위에 감광성 페이스트를 도포한 후 자외선과 패턴마스크를 사용하는 광식각(photolithography) 방법을 이용하여 세부 패턴을 형성시키는 기술이다, 이 기술은 후막기술로서는 높은 해상도인 선폭 $30{\mu}m$ 이하의 미세도선을 구현할 수 있어, 후막기술을 이용한 고주파 모듈의 제조에 있어서 새로운 대안으로 주목받고 있다. 본 연구에서는 알루미나 기판 상에 수십 ${\mu}m$ 이하의 마이크로 비아를 가지는 유전체 층을 형성시킬 수 있는 저온소결용 감광성 유전체 페이스트를 개발하였다. 저온소결용 유전체 파우더와 폴리머, 모노머, 광개시제 등의 양을 조절하여 마이크로 비아를 형성할 수 있는 최적 페이스트 조성을 연구하였으며, 노광량 및 현상시간과 같은 공정변수가 마이크로 비아의 해상도에 미치는 영향을 평가하였다. 알루미나 기판에 전면 프린팅 한 후 건조, 노광, 현상, 소성 과정을 거쳐 소결전 $37{\mu}m$, 소결후 $49{\mu}m$의 해상도를 가지는 마이크로 비아를 형성할 수 있었다.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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pp.1466-1469
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2005
We report effects of electrical aging on the emission stability of carbon nanotube (CNT) paste for low cost and high low-cost and large area field emission devices or displays. Photosensitive carbon nanotube paste was formulated by using of spin on glass (SOG) as an inorganic binder and investigated emission properties and stability depending on electrical aging condition.
In fabricating plasma display panels, the photolithographic process is used to form patterns of barrier ribs with high accuracy and high aspect ratio. It is important in the photolithographic process to control the refractive index of the photosensitive paste. The composition of this paste for photolithography is based on the $B_2O_3-SiO_2-Al_2O_3$ glass system, including additives of alkali oxides and rare earth oxides. In this work, we investigated the density, structure and refractive index of glasses based on the $B_2O_3-SiO_2-Al_2O_3$ system with the addition of $Li_2O$, $K_2O$, $Na_2O$, CaO, SrO, and MgO. The refractive index of the glasses containing K2O, Na2O and CaO was similar to that of the [BO3] fraction while that of the SrO, MgO and Li2O containing glasses were not correlated with the coordination fraction. The coordination number of the boron atoms was measured by MAS NMR. The refractive index increased with a decrease of molar volume due to the increase in the number of non-bridging oxygen atoms and the polarizability. The lowest refractive index (1.485) in this study was that of the $B_2O_3-SiO_2-Al_2O_3-K_2O$ glass system due to the larger ionic radius of $K^+$. Based on our results, it has been determined that the refractive index of the $B_2O_3-SiO_2-Al_2O_3$ system should be controlled by the addition of alkali oxides and alkali earth oxides for proper formation of the photosensitive paste.
Park, Seong-Dae;Yoo, Myong-Jae;Kang, Nam-Kee;Park, Jong-Chul;Lim, Jin-Kyu;Kim, Dong-Kook
Macromolecular Research
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제12권4호
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pp.391-398
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2004
Thick-film photolithography is a new technology that combines lithography processes, such as exposure and development, with the conventional thick-film process applied to screen-printing. In this study, we developed a low-temperature cofireable silver paste applicable for thick-film processing to form fine lines using photolitho-graphic technologies. The optimum paste composition for forming fine lines was investigated. The effect of processing parameters, such as the exposing dose, had on the fine-line resolution was also investigated. As the result, we found that the type of polymer and monomer, the silver powder loading, and the amount of photoinitiator were the main factors affecting the resolution of the fine lines. The developed photoimageable silver paste was printed on a low-temperature cofireable green sheet, dried, exposed, developed in an aqueous process, laminated, and then fired. Our results demonstrate that thick-film fine lines having widths < 20 $\mu\textrm{m}$ can be obtained after cofiring.
We propose the method which is possible to fabricate the electrodes with the fine pattern and low resistance by photolithography and electroplating. The widths of pattern fabricated were 30, 50, 70 and 100um and the thickness could be up to $10{\mu}m$. The resistivity of the copper electrode electroplated was below $2.0{\mu}{\Omega}$ cm which is about half of photosensitive silver electrode. Dielectric layer was coated on the electrodes by screen printing and the pores harmful to the discharge were not formed after heat treatment. In the viewpoint of resistance and patterning, this method has much higher potential for large area display than other methods like screen printing, photosensitive conductive paste method and sputtering.
Park, Lee-Soon;Paek, Sin-Hye;Yun, Sang-Won;Choi, Hyung-Suk
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.989-993
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2002
Barrier ribs in the color plasma display panel(PDP) function to maintain the discharge space between to glass plates as well as to prevent optical crosstalk. Patterning of barrier ribs is one of unique processes for making PDP. In this work photosensitive barrier rib pastes were prepared by incorporating binder polymer, solvent, functional monomers photoinitiator, mid barrier rib powder. Study on the function of materials for the barrier rib paste were undertaken. After optimization of paste formulation, both photolithographic and transparent soft molding method resulted in fine pattern of barrier ribs with high aspect ratio.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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