In this study, the static and dynamic characteristics of endmilling process was modelled and the analytic realization of chatter mechanism was discussed. In this regard, We have discussed on the comparative assessment of recursive time series modeling algorithms that can represent the machining process and detect the abnormal machining behaviors in precision endmilling operation. In this study, simulation and experimental work were performed to show the malfunctional behaviors. For this purpose, new recursive(RLSM) were adopted for the on-line system identification and monitoring of a machining process, we can apply these new algorithms in real process for detection of abnormal chatter. Also, the stability lobe of chatter was analysed by varying parameter of cutting dynamices in regenerative chatter mechanics.
This paper investigates the dehydration and RDF (Refuse Derived Fuel) production of organic wastes, livestock manure and sewerage sludge with pressurized hydrothermal treatment process. The renewable technology for the organic wastes must involve short treatment time required, reusable energy source, anti-odor and viruses, low cost for the treatment, and well-fertilization. The pressurized hydrothermal treatment process promotes to evaporate moisture in the waste after being shortly treated in a reactor, which uses steam and heat supplied by an external boiler. By the pressurized steam, the cell walls of the waste break and effectively release the internal moisture. Then, the dried waste can be mixed with waste vinyls to produce RDF with a higher heating value as high as 6,700 kcal/kg.
Huang, Chi-Yuan;Tsao, Keng-Yu;Chou, Ruei-Shu;Chiang, Wen-Yen;Mo, Chi-Neng;Lyu, Robert
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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pp.660-663
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2008
In this study, it was mainly focused on the mechanism and reliability performances of PI/PET composites after many times of curving. We developed a new process of spacer for flexible display to improve the maintenance of cell gap. This new process used the laser carving technology, which is widely applied on printing press, to produce the pattern of spacers and shaped both of the alignment film and spacers simultaneously by press of pattern. Assembling the spacer-shaped film and plastic substrates together well and it shows an excellent performance on the maintenance of cell gap and reliability of curving.
Journal of Information Technology Applications and Management
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제15권1호
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pp.243-260
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2008
To prevent low yields in the semiconductor industry is crucial to the success of that industry. However, to prevent low yields is difficult because of too many factors to affect yield variation and their complex relation in the semiconductor manufacturing process. This study presents a new efficient detection methodology for detecting abnormal yields including high and low yields, which can forecast the yield level of a production unit (namely a lot) based on yield-related feature variables' behaviors. In the methodology, we use C5.0 to identify the yield-related feature variables that are the combination of correlated process variables associated with yield, use SOM (Self-Organizing Map) neural networks to extract and classify significant patterns of past abnormal yield lots and finally use C5.0 to generate classification rules for detecting abnormal yield lot. We illustrate the effectiveness of our methodology using a semiconductor manufacturing company's field data.
Korea has been took the top ranking in the global shipbuilding industry in terms of new orders, order backlogs and the volume of vessels for several years. However, the domestic small- and medium-scale shipbuilders currently face imminent threat from China and new challenge to focus on development of high value-added ships. So far, the marine leisure industry of Korea has been showed weak global competitiveness and there were few attempts to design and develop leisure boats and yachts. We describe the digital design process of leisure boat exterior that could reflect user's sensibilities and feelings of entire forms of the products. This design process contains stepwise sensibility evaluation via web and provides designers with various and fast feedbacks about their design outputs in each design stage.
Regarding project management, many organizations have developed and distributed general project management knowledge systems, and application fields use the knowledge systems to apply the process suitable for characteristics of a project. This study suggests project management process models to apply to product development projects and introduces the application cases. This product development project management process model is composed of five top processes of initiation and preparation, planning, implementation management, control, and termination and transfer. The five processes are re-divided into 18 bottom processes. These processes are expressed as input, control, output, and mechanism by using the IDEF0 model. This model is applied to the new car development project of a Korean automobile company and introduces the cases, which shows a project charter, a work breakdown structure, a project schedule, a progress s-curve, a risk register, and a performance report.
Mutual Exclusion is one of the most studied topics in distributed systems where processes communicate by asynchronous message passing. It is often necessary for multiple processes at different sites to access a shared resource or data called a critical section (CS) in distributed systems. A number of algorithms have been proposed to solve the mutual exclusion problem in distributed systems. In this paper, we propose the new algorithm which is modified from Garg's algorithm[1] thus works properly in a fault-tolerant system. In our algorithm, after electing the token generator, the elected process generates a new token based on the information of the myreqlist which is kept by every process and the reqdone which is received during election. Consequently, proposed algorithm tolerates any number of process failures and also does even when only one process is alive.
This paper deals with a new approach to tolerance optimization problems. Optimal tolerance allotment problems can be formulated as stochastic optimization problems. Most schemes to solve the stochastic optimization problems have been found to exhibit difficulties in multivariate integration of the probability density function. As a typical example of stochastic optimization the optimal tolerance allotment problem has the same difficulties. In this stochastic model, manufacturing system is represented by Gauss-Markov stochastic process and the manufacturing unit availability is characterized for realistic optimization modeling. The new algorithm performed robustly for a large deviation approximation. A significant reduction in computation time was observed compared to the results obtained in previous studies.
Process capability indices (PCI) $C_p\;C_{pk},\;C_m,\;and\;C_{pmk}$ are widely used to evaluate the process performance. The PCI's have been evolved to consider the 'off targetness' more adequately. However, all of these indices are found to be inconsistent with the proportion of nonconforming items, in some cases. That is, the PCI for a process may result in higher value even when the proportion of defectives increases. For these reasons, we propose a new capability index, $c_{pd}$, which is consistent with the defect rate. The characteristics of the new PCI, $c_{pd}$ are investigated with respect to the existing PCI's. Some statistical properties of an estimator for $c_{pd}$ are also investigated by a Monte Carlo simulation. Sensitivity study under minor deviation from normality is also performed to show the robustness of $c_{pd}$. A good estimator for $c_{pd}$ is under study.
The subject of the simultaneous measuring system of base pattern and deposition pattern is a new research topic on a defect inspection of OLED. In this paper, we propose a new OLED inspection method that simultaneously measures standard and deposition pattern images. This method reduces unnecessary processes and tac time during OLED inspection. For an additional reduction of the tac time during pattern measurement, the ROI was configured to measure only in the designated ROI area instead of measuring the entire area of an image. During the ROI set-up, the value of effective deposition pattern area is included so that if the deposition pattern is out of the ROI zone, it would be treated as a defect before measuring the size and center point of the pattern. As a result, the tac time and inspection process could be shortened. The proposed method also could be applied to the OLED manufacturing process. Production of OLED could be increased by reducing tac time and inspection process.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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