$ZrO_2$ and Al-Zr composite oxide film was prepared by vacuum assisted sol-gel dip coating method and anodizing. $ZrO_2$ films annealed above $400^{\circ}C$ have tetragonal structure. $ZrO_2$ layers inside etch pits were successfully coated from the $ZrO_2$ sol. The double layer structures of samples were obtained after being anodized at 100 V to 600 V. From the TEM images, it was found that the outer layer was $Al_2O_3$, the inner layer was multi-layer of $ZrO_2$, Al-Zr composite oxide and Al hydrate. The capacitance of $ZrO_2$ coated foil exhibited about 28.3% higher than that of non-coating foil after being anodized at 100 V. The high capacitance of $ZrO_2$ coated foils anodized at 100 V can be attributed to the relatively high percentage of inner layer in total thickness. The electrical properties, such as withstanding voltage and leakage current of coated and non-coated Al foils showed similar values. From the results, $ZrO_2$ and Al-Zr composite oxide is promising to be used as the partial dielectric of high voltage capacitor to increase the capacitance.
Yun, Young Hoon;Park, Ki Cheol;Choi, Gyu Man;Kim, Ki Wan
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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v.23
no.5
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pp.699-705
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1986
Sb2S3 thin films were fabricated by vacuum evaporation of compound Sb2S3 at a pressure of 10**-5 torr. and in argon ambient. Then, their electrical and photoconductive properties were investigated. The Sb2S3 glass-layer showed maximum photosensitivity at the deposition rate of 250\ulcornersec, and Sb2S3 porous layer had mininum dielectric constant of 1.5 at the deposition rate of 0.3 um/sec and argon partial pressure of 0.2torr. Sb2S3 multi-layers were prepared at the different thickness ratio (B/A) to find the proper structural property suited for camera pick-up tube. Here, A is the sum of the thickness of Sb2S3 porous layer and Sb2S3 fine grain layer, and B is the thickness of Sb2S3 fine grain layer. As a result, photosensitivity had a peak value at the thickness ratio (B/A) of 60%.
Journal of the Institute of Electronics and Information Engineers
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v.50
no.3
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pp.16-22
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2013
A general characterization procedure based on the extraction of a 2n-port admittance matrix corresponding to n uniform coupled lines on the multi-layered substrate using the Finite-Difference Time-Domain (FDTD) technique is presented. In this paper, the frequency-dependent normal mode parameters are obtained from the 2n-port admittance matrix to analyze multi-layered asymmetric coupled line structure, which in turn provides the frequency-dependent propagation constant, effective dielectric constant, and line-mode characteristic impedances. To illustrate the technique, several practical coupled line structures on multi-layered substrate have been simulated. Especially, embedded conductor structures have been simulated. Comparisons with Spectral Domain Method are given, and their results agree well. It is shown that the FDTD based time domain characterization procedure is an excellent broadband simulation tool for the design of multiconductor coupled lines on multilayered PCBs as well as thick or thin hybrid structures.
Kim, Byung-Mun;Yun, Lee-Ho;Lee, Sang-Min;Park, Young-Ja;Hong, Jae-Pyo
The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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v.16
no.4
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pp.763-770
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2021
In this paper, in order to exclude the influence of BAN(Body Area Network) signals operating in the ISM band, the design and optimization process of an on-body microstrip patch antenna operating at 4.567 GHz is presented. The antenna for the monitoring of the lower legs with cancellous osteoporosis is designed to be lightweight and compact with improved return loss and bandwidth. The structure around the applied lower leg consisted of a five-layer dielectric plane. Taking into account losses, the complex dielectric constant of each layer is calculated using multi Cole-Cole model parameters, whereas a unipolar model is used for normal or osteoporotic cancellous bones. The return loss of the coaxial feed antenna on the phantom is -67.26 dB at 4.567 GHz, and in the case of osteoporosis, at the same frequency the return loss difference is 35.88 dB, and the resonance frequency difference is about 7 MHz.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.14
no.7
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pp.567-571
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2001
We investigated the structural and electrical properties of Ba(Zr$_{x}$Ti$_{1-x}$ )O$_3$(BZT) thin films with a mole fraction of x=0.2 and a thickness of 150 nm. BZT films were prepared on Pt/SiO$_2$/Si substrate with the various substrate temperature by a RF magnetron sputtering system. When the substrate temperature was above 50$0^{\circ}C$, we obtained multi-crystalline BZT films oriented to (110), (111), and (200) directions. As the substrate temperature increases, the films are crystallized and their dielectric constants become high. C-V characteristic curve of the film deposited at high temperature is more sensitive than that of the film deposited at low temperature. The parameters of the BZT film are as follows; the dielectric constants(dissipation factors) at 1 MHz are 95(0.021), 140(0.024), and 240(0.033) deposited at 400, 500, $600^{\circ}C$, respectively; the leakage currents at 666.7 kV/cm are 5.73, 23.5, and 72.8x10$^{-8}$ A/$\textrm{cm}^2$ fo the films deposited at 400, 500, and 600 $^{\circ}C$, respectively; the leakage currents at 666.7kV/cm are 5.73, 23.5, and 72.8x10$^{-8}$ A/$\textrm{cm}^2$ for the films deposited at 400, 500, $600^{\circ}C$, respectively. The BZT film deposited at 40$0^{\circ}C$ shows stable electrical properties, but dielectric constant for application is a little small.ll.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1997.04a
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pp.217-221
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1997
We have investigated the ferroelectric properties of multi-layered SrBi$_2$Ta$_2$$O_{9}$Pb(Zr,Ti)O$_3$, SBT/PZT, thin film capacitors. Specimens were prepared onto Pt-coated Si wafer by sol-gel method. Ferroelectric properties of these finns could be obtained only for thin SBT layers below 50nm in thickness. The values of dielectric constant and remnant polarization depend mainly on the thickness of SBT layer, which arises from the paraelectric interface layer between SBT and PZT due to the thermal diffusion of Pb. The value of remnant poarization of PZT/SBT is greater than that of SBT, and the plarization fatigue behaviors of PZT/SBT/Pt capacitors are somewhat improved as compared with those of PZT/Pt.t.
The short-term AC breakdown strength of laminated polypropylene insulating Paper (PPLP) has been studied for cold dielectric of high temperature superconductivity power cables. The design and operating conditions of the electrode system for studying of short-term breakdown strength of one-layer and multi-layer PPLP samples are discussed in liquid nitrogen(LN2) state. The influence of various operating factors (geometry and dimension of electrodes, speed of tested voltage, thickness of test sample) on the value of short-term AC breakdown strength at cryogenic temperature has been established.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.21
no.7
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pp.22-29
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2004
As a result of high integration of semiconductor device, the global planarization of multi-layer structures is necessary. So the chemical mechanical polishing(CMP) is widely applied to manufacturing the dielectric layer and metal line in the semiconductor device. CMP process is under influence of polisher, pad, slurry, and process itself, etc. In comparison with the general CMP which uses the slurry including abrasives, fixed abrasive pad takes advantage of planarity, resulting from decreasing pattern selectivity and defects such as dishing & erosion due to the reduction of abrasive concentration especially. This paper introduces the manufacturing technique of fixed abrasive pad using hydrophilic polymers with swelling characteristic in water and explains the self-conditioning phenomenon. And the tungsten CMP using fixed abrasive pad achieved the good conclusion in terms of the removal rate, non-uniformity, surface roughness, material selectivity, micro-scratch free contemporary with the pad life-time.
Using an in-situ ellipsometer, we monitored the growth curve of optical recording media in real time. For confirmation of the thickness control using in-situ ellipsometry, we analyzed the deposited multi-layer sample made of Ge-Sb-Te alloy film and ZnS-Si0$_2$ dielectric films using an exsitu spectroscopic ellipsometer. The target material in the first sputtering gun is ZnS-SiO$_2$ as the protecting dielectric layer and that in the second gun is Ge$_2$sb$_2$Te$_{5}$ as the receding layer. While depositing ZnS-SiO$_2$, Ge$_2$Sb$_2$Te$_{5}$ and ZnS-SiO$_2$ films on c-Si substrate in sequence, we measured Ψ $\Delta$ in real time. Utilizing the complex refractive indices of Ge$_2$Sb$_2$Te$_{5}$ and ZnS-SiO$_2$ obtained from the analysis of spectroscopic ellipsometry data, the evolution of ellipsometric constants Ψ, $\Delta$ with thickness is calculated. By comparing the calculated evolution curve of ellipsometric constants with the measured one, and by analyzing the effect of density variation of the Ge$_2$Sb$_2$Te$_{5}$ recording layer on ellipsometric constants with thickness, we precisely monitored the growth rate of the Ge-Sb-Te multilayer and controlled the growth process. The deviation of the real thicknesses of Ge-Sb-Te multilayer obtained under the strict monitoring is post confirmed to be less than 1.5% from the target structure of ZnS-SiO$_2$(1400 $\AA$)IGST(200 $\AA$)$\mid$ZnS-SiO$_2$(200$\AA$).(200$\AA$).
Electro-optical characteristics of new multi-domain vertical-alignment (MVA) liquid crystal displays (LCDs) with negative dielectric anisotropy on a homeotropic photopolymer were studied. Good voltage-transmittance (V-T) curves by the new MVA-LCD on the homeotropic photo-polymer were obtained. Also, the stable response time of MVA-LCD on the homeotropic photopolymer can be achieved. The viewing angle of the new MVA-LCD could be improved by the grating groove with UV exposure and development on the photo-polymer.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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