자성박막의 미세패턴 소자 제작을 위해 전자 사이크로트론 공명(electron cyclotron resonance; ECR) Ar 이온밀링 시스템을 제작하였다. 소자 식각에 적용한 ECR 이온밀링 시스템에서 주파수 2.45 GHz 파장 12.24 cm의 마이크로파 소스인 마그네트론은 전력 600 W에 의해 가동되어 파장의 정수배에 맞추어 만든 도파관을 통하여 전달되도록 설계하였다. 마이크로파 주파수와 공명시키기 위해 전자석으로 908 G의 자기장을 인가하였고, 알곤 개스를 cavity에 유입시켜서 방전된 이온들은 그리드 사이에 인가한 약 1000 V의 가속전압에 의한 에너지를 갖고 표면을 밀링한다. 이것을 이용하여 다층구조 GMR-SV(giant magnetoresistance-spin valve) 자성박막에 광 리소그래피, 이온밀링 및 전극제작 공정과정을 마치고 폭이 $1{\mu}m$에서 $9{\mu}m$까지의 소자들을 제작하여 광학현미경으로 소자 크기를 관찰하였다.
근접장의 특성과 근접장 마이크로파 현미경의 배경이론을 설명하였고 유전체 공진기 제작에 앞서 HFSS (high frequency structure simulator)를 이용한 모의 시뮬레이션을 기술하였다. 이것을 바탕으로 원통형 유전체 공진기를 제작하여 금속탐침과 결합한 근접장 마이크로파 현미경(near field scanning microwave microscope : NSMM)을 구성하였다. 제작한 유전체 공진기의 특성은 HFSS를 이용하여 모의 실험한 결과와 비교하였다 Tip의 기하학적 모양에 따른 공간분해능과 감도(sensitivity)를 연구하였고 contrast가 가장 좋은 hybrid tip을 개발하였다. 전도도가 서로 다른 금속시료에 따른 NSMM의 반사계수의 변화를 측정하였고 실험결과와 이론적 시료의 임피던스를 비교하였다. 마지막으로 유전체 공진기를 이용한 NSMM으로 공간 분해능이 $1{\mu}m$의 Cr과 NiFe 패턴의 이미지를 비접촉, 비파괴방법으로 얻었다.
엽납석광석에 Fe-성분이 불순물로 작용하여 엽납석의 최종 산업제품의 품위를 저하시키고 있다. 엽납석광석에 존재하는 불순물을 광물-화학적으로 확인하고 마이크로웨이브와 자력선별을 이용하여 Fe 함량을 건식방법으로 감소시키고자 하였다. 광학현미경, XRD, XRF, SEM/EDS 및 EPMA 분석을 통하여 엽납석에 황철석과 적철석이 포함되어 있는 것을 확인하였다. 엽납석에 포함된 자형의 황철석은 열수용액에 의하여 형성되고, 용해 공동 구조는 황철석이 산성수에 의하여 부분적으로 용해되어 형성되는 것으로 사료된다. 그리고 퇴적 기원 구조를 보이는 동심원 구조의 적철석은 산성수에 포함되어 있는 $Fe^{3+}$가 침전되어 형성된 것으로 사료된다. 마이크로웨이브 가열과 자력선별 실험을 수행한 결과 Fe 제거율은 성산광산이 96%, 완도광산이 93%로 나타났다. 마이크로웨이브 가열과 자력선별은 저 품위 엽납석을 품위 향상시킬 수 있는 친환경적 방법이라 사료된다.
In ahigh power amplifier design, power combiner/divider is used to connect low power amplifiers in parallel. The raidal structure of the powe combiner/divider has not only a good characteristics of port-to-port isolation but also an advantage of giving a redundancy to the structure itself by using RF switches. The parastics of a power resistor, that would be a problem in design process, are removed by both slot lines and cavity resonators, and the comon node in the circuit is rdesigned as a planar topology, and thus a new type of 4-way radial power combiner/divider is accomplished at 1840 ~ 1870 MH PCS frequency band. The insertion loss, reflection, and isolation characteristics of 40way radial power combiner/divider which can be adaptable to PCS system in this thesis are -0.3dB, -24dB,a dn -27dB respectively.
유전체가 삽입된 공동 공진기는 유전체에 대부분의 전자계가 집속되어 있기 때문에, 도체 손실이 매우 적고 높은 Q값과 온도 안정성이 뛰어나다. 동일한 주파수에서 동작하는 다른 필터에 비해 상대적으로 작기 때문에 소형화에도 적합하다. 본 논문에서는 유전체가 삽입된 공동 공진기의 전자기 분포와 특성을 수치해석과 HFSS(High Frequency Structure Simulator)를 이용하여 분석하였고 이 결과를 토대로 HFSS를 이용한 순차적 방법을 도입하여 4-pole 이중모드 대역통과 필터를 설계, 제작하였다.
소자케비티 내에서의 스롯트진기의 공진주파수를 구하였으며, 마이크로스트립 회로기판의 마운트를 스롯트공진기의 케비티로 하여 IMPACT 다이오드를 스롯트 양쪽 도체면에 Shunt로 연결시켜 X-Band에서 발진시킨다. 발진전력을 마이크로스트립 기판 뒷면에서 개구에 의하여 마이크로스트립에 직접 결합시킬 수 있음을 실험적으로 확인한다.
한국초전도학회 2000년도 High Temperature Superconductivity Vol.X
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pp.21-21
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2000
The Josephson Plasma resonance in single crystalling Bi2Sr2CaCu2O8 has been investigated at a microwave frequency of 35 GHz in a cavity resonator. A sharp resonance is observed in a perpendicular oscillating magnetic field. The former is independent of the sample dimension, shile the latter shift to higher field as the sample size L is reduced, and it disappears when L becomes smaller than the critical length. The longitudinal plasma mode is a Nambu-Goldston mode in a superconductor, the experimental distinction between the longitudinal and the transverse mode leads to the conclusion that the existence of the Nambu-Goldston mod as predicted by Anderson was experimentally confirmed by direct observation of the Josephson plasma resonance with longitudinal excitations. The finite gap found in Josephson plasma resonance also provides a direct proof of the Anderson-Higgs mechanism within the context of the spontaneously broken phase symmetry of the Gauge-field theory in a superconductor.
A compact electron cyclotron resonance(ECR) plasma system composed of a microwave generator and a magnet coil was fabricated. A Langmuir single probe was used to investigate the plasma characteristics of the system through I-V measurements. The performance of the compact ECR plasma system was tested for the case of silicon etching reaction with $CF_{4}/O_{2}$(30%) mixed gas. Electron density and etch rate increased to maximum values and then decreased with increasing argon gas pressure, but electron temperature changed in the opposite way. The electron density and the electron temperature of argon gas plasma were 0.85${\times}~5.5{\times}10^{10}cm^{-3}$ and 4.5~6.0 eV, respectively, in the pressure range from $3{\times}10^{4}$ to 0.05Torr. The etch rate reached a maximum value at the position of 2.5cm from the bottom of plasma cavity. Etch rate uniformity was $\pm$6% across 6cm wafer. Anisotropic index was 0.75 at 1.5${\times}10^{-4}$Torr.
The method for the calaulation of the input impedanc of cavity with water is proposed in this paper the electric field and input impedance are calaulated for the water with high conductivity to verify this method. And the electric field and RCS (radar cross section) is calculated when the plane wave scattered by high permitivity and low conductivity material. The calculated results are compared with exact solution. Then this method is compared with the conventional method.
ECR 플라즈마 장치를 설계 제작하였다. ECR 플라즈마의 흐름을 얻기 위해 자기장 의 기울기를 조작할 수 있는 전자석계가 필요하였다. 요크를 사용하면 같은 전류로 자기장 을 1.5배 더 크게 할 수 있었다. 이 장치로 만든 ECR 플라즈마의 특성을 조사하기 위하여, 랑뮈르 탐침을 이용하여 챔버의 축방향을 따라 위치에 따른 전자온도 Te와 전자밀도 Ne의 공간분포를 실험적으로 구하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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