Nanocrystalline Zn$Fe_2O_4$ oxide-semiconductor with spinel structure was synthesized by the polymerized complex (PC) method and investigated for its photocatalytic and photoelectric properties. The observation of a highly pure phase and a lower crystallization temperature in Zn$Fe_2O_4$ made by PC method is in total contrast to that was observed in Zn$Fe_2O_4$ prepared by the conventional solid-state reaction (SSR) method. The band gap of the nanocrystalline Zn$Fe_2O_4$ determined by UV-DRS was 1.90 eV (653 nm). The photocatalytic activity of Zn$Fe_2O_4$ prepared by PC method as investigated by the photo-decomposition of isopropyl alcohol (IPA) under visible light (${\geq}$ 420 nm) was much higher than that of the Zn$Fe_2O_4$ prepared by SSR as well as Ti$O_{2-x}N_x$. High photocatalytic activity of Zn$Fe_2O_4$ prepared by PC method was mainly due to its surface area, crystallinity and the dispersity of platinum metal over Zn$Fe_2O_4$.
A PFA lined ball valve, which is machined with fluorinated resin PFA to its inner part for improving corrosion resistance, non-stickness, heat-resistance, has been widely used in semiconductor/LCD manufacturing processes with the high purity chemicals as working fluid. Due to the safety concerns, the experiments for measuring the flow coefficient of a PFA lined ball valve should be conducted with water at room temperature according to IEC standards. However, it is required to know the real flow coefficient with the real working fluid, because the flow coefficient is critical to correctly design valves in piping system. In this study, we calculated the flow coefficient of a PFA lined ball valve 40A with hydrochloric acid ($40^{\circ}C$ 36% HCl) as the working fluid using a commercial CFD package, ANSYS CFX v15. The computational results had a good agreement with the measured data and showed a little difference between water and hydrochloric acid as the working fluid of a PFA lined ball valve.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2009.05a
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pp.13.1-13.1
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2009
Transparent electronics has attracted many interests, for it can open new applications for consumer electronics, transportation, business, and military. Among them, display backplane, thin film transistor (TFT) array would be the most attractive application. Many researchers have been investigating oxide semiconductors for transparent channel material of TFT since the report for transparent amorphous oxide semiconductor (TAOS) TFT by Hosono group and ZnO TFT by Wager group. Especially, oxide TFTs have been intensively investigated during a couple of years since the first demonstration of ZnO-TFT driving AM-OLED. Many papers regarding the fabrication and performance of oxide TFTs, and active matrix display driven by oxide TFTs have been reported. Now lots of people have confidence in the competitiveness of oxide TFTs for the backplane of AM-Display. Especially, high mobility, uniformity, fairly good stability, and low cost process make oxide TFTs applied even to a large size AM-OLED. Last year, Samsung mobile display, former SID, reported 12" AM-OLED driven by IZGO-TFT and it seems that the remained issue for the mass production is the bias temperature stability. Here, we will introduce the application of oxide TFT and important issue for oxide TFT to be used for the direct printing.
$SmCoO_3$ system was investigated for their application to themoelectric materials. All specimens showed p-type semiconducting behavior and their electrical conductivity ($\sigma$), Seebeck coefficient (S) and power factor were measured at high temperature. And the effect of dopant ions on their thermoelectrical properties were also investigated. $Fe^{3+}$ ion doped into $Co^{3+}$ site enhanced the Seebeck coefficient and decreased the electrical conductivity simultaneously. The maximum Seebeck coefficient value for 60% doping case reached to 780 ${\mu}V$/K at $240^{\circ}C$. However $Fe^{3+}$ doped system cause an negative effect on power factor value. In case of the pure phase, the maximum Seebeck coefficient value reached to 290 ${\mu}V$/K at $240^{\circ}C$ and the maximum electrical conductivity was obtained 748 1/(ohm$\times$cm) at $960^{\circ}C$. As a result, the maximum power factor was obtained $1.49\times10^{-4}$ W/$mK^2$ at $550^{\circ}C$.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.16
no.2
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pp.1555-1562
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2015
Metal oxide semiconductors have been applied in several areas, such as solar cells, sensor, optical elements and displays, due to the high surface area, unique electrical and optical characteristics. Zinc oxide among the metal oxide has excellent physicochemical properties. Zinc oxide is a n-type semiconductor with a wide direct transition band gap of 3.37 eV at room temperature and large exciton binding energy of 60 meV. Cation-doped zinc oxide studies were conducted to complement the electrical and optical characteristics. In this paper, Al-doped ZnO was synthesized by hydrothermal synthesis using microwaves. ZnO was synthesized by adjusting the precursor ratio and using different dopants. The optimal ZnO synthesis conditions for crystal shape and optical properties were determined. The optical properties of aluminum doped zinc oxide were then examined by SEM, XRD, PL, UV-vis absorbance spectrum, and EDS.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.111-111
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2007
Further scaling the semiconductor devices down to low dozens of nanometer needs the extremely shallow depth in junction and the intentional counter-doping in the silicon gate. Conventional ion beam ion implantation has some disadvantages and limitations for the future applications. In order to solve them, therefore, plasma source ion implantation technique has been considered as a promising new method for the high throughputs at low energy and the fabrication of the ultra-shallow junctions. In this paper, we study about the effects of DC bias and base pressure as a process parameter. The diluted mixture gas (5% $PH_3/H_2$) was used as a precursor source and chamber is used for vacuum pressure conditions. After ion doping into the Si wafer(100), the samples were annealed via rapid thermal annealing, of which annealed temperature ranges above the $950^{\circ}C$. The junction depth, calculated at dose level of $1{\times}10^{18}/cm^3$, was measured by secondary ion mass spectroscopy(SIMS) and sheet resistance by contact and non-contact mode. Surface morphology of samples was analyzed by scanning electron microscopy. As a result, we could accomplish the process conditions better than in advance.
Kim, Do-Kyeong;Hwang, Neung-Hwan;Kil, Tae-Hong;Lee, Soo-Hwa;Seo, Dae-Man;Kim, Min-Ho;Kim, Jong-Sick
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.27
no.10
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pp.623-629
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2014
For the semiconductor device safety from over current in the digital electronic circuit system must be surely designed that it's surface mount type micro fuse device. In this paper, We has analysed to the fusing character of micro fuse as a function changed thickness of thermosetting ink epoxy. To the change of thermosetting ink epoxy thickness with in production lot, in the electrically character (fusing test in the 2 multiple over current and 10 multiple over current, surface temperature test in the 1.25 multiple over current) of micro fuse has been tested. According to the electrically character result, changed thickness of thermosetting ink epoxy in designed micro fuse withheld direct effect in both end resistance changes. Also, because high thermal energy in the micro fuse test of over current was occurred to effect such as thermal runaway and explosion. Therefore, screen printing process in the design of micro fuse using thermosetting ink epoxy is very important for production quality improvement.
In semiconductor manufacturing, the circuit integrity of packaged BGA devices is tested by measuring electrical resistance using test sockets. Test sockets have been reported to often fail earlier than the expected life-time due to high contact resistance. This has been attributed to the formation of Sn oxide films on the Au coating layer of the probe pins loaded on the socket. Similar to contact failure, and known as "fretting", this process widely occurs between two conductive surfaces due to the continual rupture and accumulation of oxide films. However, the failure mechanism at the probe pin differs from fretting. In this study, the microstructural processes and formation mechanisms of Sn oxide films developed on the probe pin surface were investigated. Failure analysis was conducted mainly by FIB-FESEM observations, along with EDX, AES, and XRD analyses. Soft and fresh Sn was found to be transferred repeatedly from the solder bump to the Au surface of the probe pins; it was then instantly oxidized to SnO. The $SnO_2$ phase is a more stable natural oxide, but SnO has been proved to grow on Sn thin film at low temperature (< $150^{\circ}C$). Further oxidation to $SnO_2$ is thought to be limited to 30%. The SnO film grew layer by layer up to 571 nm after testing of 50,500 cycles (1 nm/100 cycle). This resulted in the increase of contact resistance and thus of signal delay between the probe pin and the solder bump.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.11
no.11
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pp.4121-4128
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2010
A probe card is used in testing semiconductor wafers. It must maintain a precise location tolerance for a fine pitch due to highly densified chips. However, high heat transferred from its lower chuck causes thermal deformations of the probe card. Vertical deformation due to the heat will bring contact problems to the pins in the probe card, while horizontal deformation will cause positional inaccuracies. Therefore, probe cards must be designed with proper materials and structures so that the thermal deformations are within allowable tolerances. In this paper, heat transfer analyses under realistic loading conditions are simulated using ANSYS$^{TM}$ finite element analysis program. Thermal deformations are calculated based on steady-state temperature gradients, and an optimal structure of the probe card is proposed by adjusting a set of relevant design parameters so that the deformations are minimized.
The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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v.13
no.6
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pp.1229-1234
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2018
In this paper, a fire prevention system based on a broadband powerline communication (PLC) system is implemented and a demonstration experiment is carried out to prevent from or promptly dealing with possible fires within the nacelle of a wind turbine generator system (WTGS). For this purpose, an inductive coupler having satisfactory attenuation characteristic in the frequency region for high-speed PLC is also manufactured. It is confirmed that the implemented system can monitor the environmental change inside the nacelle in real time by transmitting various information obtained by the sensors such as temperature, flame, and smoke sensor installed in the nacelle and thermal image recorded by a thermal camera to the ground control center through the PLC system. Therefore, it is, considered that the implemented system will significantly improve the reliability of the fire monitoring and prevention system of the WTGS in conjunction with the existing safety system.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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