원통형 타겟 타입 Pulsed DC Magnetron Sputtering에서 두께 변화에 따른 Al-doped ZnO 박막의 특성 변화 (Thickness Dependent Properties of Al-doped ZnO Film Prepared by Using the Pulsed DC Magnetron Sputtering with Cylindrical Target)
-
- 한국재료학회지
- /
- 제20권1호
- /
- pp.47-50
- /
- 2010