The field emission lamps have the advantages to their cold cathode-characteristic and the eco-friendly, We realized that the dual emitter system showed very simple structure which gate and cathode electrodes are formed on the same glass surface. In this paper, we reported the properties of dual emitters depended on variation of gate width and spacing for optimum panel structure. In combination of dual emitter structure and bi-polar driving, electron beam spreads more than normal gate structure or diode structure, and emission uniformity increased in dual emitter structure at 5"-diagonal.
The growth of carbon nanotubes(CNTs) in anodic aluminum oxide(AAO) template and their application to a field emitter are described. AAO templates were fabricated by anodizing bulk aluminum and sputtered thin Al film on Nb-coated Si wafers. After Co catalyst had been electrochemically deposited into the bottom of the pores in AAO template, CNTs were grown by pyrolyzing $C_2H_2$. Depending on the reaction conditions, CNTs grew up to or over the top of the pores in AAO template with different structures. The morphology and structure of CNTs were observed with a scanning electron microscope and a transmission electron microscope. The diameter of CNTs strongly depended on the size of the pores in AAO template and the growing conditions. The electron field emission measurement of the samples resulted in the turn-on field of 1.9-2.2 $V/{\mu}m$ and the field enhancement factor of 2450-5200. The observation of high field enhancement factors is explained in terms of low field screening effect.
비저항이 10Ω-cm, 두께가 13∼15mi1인 <111> oriented, p형 Si기판을 이용하여 N+PP+ BSF 전지와 에미터 영역이 N+N 고저 접합으로 이루어진 N+NPP+ HELEBSF(high low emitter bach surface field) 전지를 설계 제작하였다. 접합형 태양전지의 에미터 영역에서 고저 접합구조가 효율 개선에 미치는 영향을 검토하기 위해 HLEBSF 전지의 N영역을 제외하고는 같은 마스크와 동시 공정을 통해 N+PP-전지와 N+NPP+ 전지의 가영역에서 물리적 파라미터들(불순물 농도, 두께)을 동일하게 만들었다. 100mW/㎠의 인공조명에서 측정한 결과 N+PP+ 전지들의 전면적 (유효 수광면적) 평균 변환효율이 10.94%(12.16%)이었고, N+NPP+ 전지들의 평균 변환효율은 12.07% (13.41%)로 나타났다. N+NPP+ 전지의 효율개선은 N+N-고저 접합 에미터 구조가 N+ 에미터 영역에서 나타나는 heavy doping effects를 제거함으로써 에미터 재결합 전류의 증가를 억제하고 나아가 개방전압(Voc)과 단락전류(Ish)의 값을 증가시켜 준 결과로 볼 수 있다.
한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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pp.1591-1593
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2008
The tubular field emission lamp (FEL) was developed using a wire type carbon-nano-structure emitter called CNX The luminous efficiency of the tubular FEL (diode type, diameter: ${\varphi}15.5mm$, length: 200mm) has already achieved around 45lm/W and we expect to achieve over 60lm/W within the year.
FED(Field emission display)의 FEAs(Field emitter arrays)에 형성되어 있는 micro-tip 은 tip 표면의 오염이나 진공내부의 잔류가스에 대단히 민감하다. 특히, emitter 물질의 일함수 및 겉모양 같은 기하학적 요소에 민감한 전계방출 소자의 특성상 tip 선단이 oxidation 될 경우 일함수가 증가하여 전자방출에 필요한 구동전압이 증가하고 전자 방출의 불균일성이 커지는 문제점이 발생한다. 이에 고진공의 동작 환경 및 FEAs 제작과정이나 공기의 노출에 발생하는 tip 표면의 오염물질 제거가 요구된다. 따라서 본 연구에서는 40$\times$40mm2 FEAs에 laser power, scan speed을 달리하며 laser(cw Nd-YAG, 1064nm)을 조사하였다. laser cleaning 효과를 보기 위해 laser irradiation 전, 후에 진공도 5$\times$10-7torr irradiation 후에 emitter tip의 뚜렷한 기하학적 모양의 변화를 볼 수는 없었지만, I-V 특성이 향상 되는 것을 볼 수 있었다.
Nb silicide was formed on the Si micro-tip arrays in order to improve field emission properties of Si-tip field emitter array. After silicidization of the tips, the etch-back process, by which gate insulator, gate electrode and photoresist were deposited sequentially and gate holes were defined by removing gradually the photoresist by $O_2$ plasma from the surface, was applied. Si nitride film was used as a protective layer in order to prevent oxygen from diffusion into Nb silicide layer and it was identified that the NbSi2 was formed through annealing in $N_2$ ambient at $1100^{\circ}C$ for 1 hour. By the Nb silicide coating on Si tips, the turn-on voltage was decreased from 52.1 V to 32.3 V and average current fluctuation for 1 hour was also reduced from 5% to 2%. Also, the fabricated Nb silicide-coated Si tip FEA emitted electrons toward the phosphor and light emission was obtained at the gate voltage of 40~50 V.
본 논문에서는 산화된 다공질 폴리실리콘을 이용하여 전계 방출 소자를 제작하여, 각각의 픽셀에 따른 전기적 특성과 형광체의 발광 특성을 조사하였다. 실제 대면적 디스플레이 소자에 적용하기 위해서 PM 방식을 이용해서 소자를 픽셀별로 동작하였고, 상부금속 전극의 어레이에 따른 두께와 폭의 공정조건을 확립하였다. 산화된 다공질 폴리실리콘의 미세 구조를 분석하고, 각각의 픽셀에 따른 전계방출 특성을 조사해 보았다. 상부금속 전극의 두께와 폭에 따른 전자방출 특성을 조사해 본 결과 Ti/pt(2nm/7nm)가 가장 적절한 두께라는 것을 확인 할 수 있었고, 2.5 mm 이상 폭에서 전자방출 효율이 증가하는 모습을 확인 할 수 있었다. 각 픽셀에 따른 소자의 전기적 특성은 픽셀마다 조금씩의 차이는 있지만 거의 동일한 누설 전류와 방출 전류가 나타남을 확인할 수 있었고, 동일한 크기의 효율도 관찰할 수 있었다. 누설 전류와 방출 전류는 시간이 증가함에 따라 감소하는 모습이 나타나긴 하였으나, 모든 픽셀이 거의 동일하게 감소하였다. 각각의 픽셀에 따른 휘도는 큰 차이가 없음을 확인할 수 있었고, 20 V에서 $700cd/m^2$ 이상의 높은 휘도를 나타내었으므로 실제 디스플레이 소자로도 응용이 가능할 것이다.
In this study the fabrication technique of the planner field emission device structure with a DLC layer were studied. The bottom Mo electrode using electrochemical method on the DLC layer deposited using assist sputtering.
In order to improve both the level and the stability of electron emission, Mo and Co silicides were formed from Mo mono-layer and Ti/Co bi-layers on single crystal silicon field emitter arrays (FEAs), respectively. Using the slope of Fowler-Nordheim curve and tip radius measured from scanning electron microscopy (SEM), the effective work function of Mo and Co silicide FEAs were calculated to be 3.13 eV and 2.56 eV, respectively. Compared with silicon field emitters, Mo and Co silicide exhibited 10 and 34 times higher maximum emission current, 10 V and 46 V higher device failure voltage, and 6.1 and 4.8 times lower current fluctuation, respectively. Moreover, the emission currents of the silicide FEAs depending on vacuum level were almost the same in the range of $10^{-9}{\sim}10^{-6}$ torr. This result shows that silicide is robust in terms of anode current degradation due to the absorption of air molecules.
Park, Kyung-Ho;Seo, Woo-Jong;Lee, Soon-Il;Koh, Ken-Ha
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.309-312
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2002
Triode field emitters with planar-carbon-nanopaticle (CNP) cathodes were successfully fabricated using the conventional photolithography and the hotfilament chemical vapor deposition. Electron emission from a CNP triode emitter with a 12-${\mu}m$-diameter gate hole started at the gate voltage of 45 V, and the anode current reached the level of ${\sim}120$ nA at the gate voltage of 60 V, respectively. For the quantitative analysis of the Fowler-Nordheim (F-N) type emission from a CNP triode emitter, we carried out 2dimensional numerical calculation of electrostatic potential using the finite element method. As it turned out, a radial variation of electric field was very important to account for the emission from a planar emitting layer. By assuming the graphitic work function of 5 eV for CNPs, we were able to extract a consistent set of F-N parameters, together with the radial position of emitting sites.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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