Park, So-Yeon;Song, Min-Yeong;Hong, Seok-Man;Kim, Hui-Dong;An, Ho-Myeong;Kim, Tae-Geun
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.410-410
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2013
Next-generation nonvolatile memory (NVM) has attracted increasing attention about emerging NVMs such as ferroelectric random access memory, phase-change random access memory, magnetic random access memory and resistance random access memory (RRAM). Previous studies have demonstrated that RRAM is promising because of its excellent properties, including simple structure, high speed and high density integration. Many research groups have reported a lot of metal oxides as resistive materials like TiO2, NiO, SrTiO3 and ZnO [1]. Among them, the ZnO-based film is one of the most promising materials for RRAM because of its good switching characteristics, reliability and high transparency [2]. However, in many studies about ZnO-based RRAMs, there was a problem to get lower current level for reducing the operating power dissipation and improving the device reliability such an endurance and an retention time of memory devices. Thus in this paper, we investigated that highly reproducible bipolar resistive switching characteristics of W doped ZnO RRAM device and it showed low resistive switching current level and large ON/OFF ratio. This may be caused by the interdiffusion of the W atoms in the ZnO film, whch serves as dopants, and leakage current would rise resulting in the lowering of current level [3]. In this work, a ZnO film and W doped ZnO film were fabricated on a Si substrate using RF magnetron sputtering from ZnO and W targets at room temperature with Ar gas ambient, and compared their current levels. Compared with the conventional ZnO-based RRAM, the W doped ZnO ReRAM device shows the reduction of reset current from ~$10^{-6}$ A to ~$10^{-9}$ A and large ON/OFF ratio of ~$10^3$ along with self-rectifying characteristic as shown in Fig. 1. In addition, we observed good endurance of $10^3$ times and retention time of $10^4$ s in the W doped ZnO ReRAM device. With this advantageous characteristics, W doped ZnO thin film device is a promising candidates for CMOS compatible and high-density RRAM devices.
A single phase perovskite relaxor ferroelectric PMN-PT-BT was prepared by a single calcination and the modified mixed oxide process. It was accomplished by ball-milling PbO, $Nb_2O_5,\;Ti(OC_3H_7)_4,\;BaCO_3,\;and\;Mg(NO_3)_2$ instead of MgO, removing the solvent, and then followed by calcination at 900$^{\circ}C$ for 2h. The specimen sintered at 1100$^{\circ}C$/2h showed the sintered density of 7.83 g/$cm^3$, room temperature dielectric constant of 22000, and dielectric loss of 2.5%. Addition of 1.0 mole% (0.3 wt%) of Ag as $AgNO_3$ and followed by calcination at 550$^{\circ}C$/2h lowered the sintering temperature to 900$^{\circ}C$. It still showed the sintered density of 7.88 g/$cm^3$, room temperature dielectric constant of 20000 and dielectric loss of 2.4%.
p-Phenylenediamine dihydroperchlorate, $C_6H_4N_2H_4{\cdot}2HC1O_4$, crystallizes in space group $P\={1}$ with $a=4.79{\pm}0.02,\;b=9.03{\pm}0.02,\;c=7.12{\pm}0.03{\AA},\;{\alpha}=109.4{\pm}0.2,\;{\beta}=79.6{\pm}0.2,\;r=104.6{\pm}0.2^{\circ},\;Z=1$. The structure has been solved by the Patterson and Fourier methods. The refinement by block-diagonal least-squares cycles gives R = 0.13 for 387 observed reflexions collected on equi-inclination Weissenberg photographs with CuK${\alpha}$ radiation. There are two different types of five hydrogen bonds. The first type consists of one trifurcated N${\cdot}{\cdot}{\cdot}$O hydrogen bond and the second of two normal N${\cdot}{\cdot}{\cdot}$O hydrogen bonds, both of which exist between the amino group and the perchlorate, groups. A p-phenylenediamine group is approximately planar within an experimental error and bonded to twelve perchlorates: ten perchlorates forming hydrogen bonds and two being contacted with the van der Waals forces. A perchlorate group is surrounded by six p-phenylenediamines and four perchlorates; among the six p-phenylenediamines, five of them are hydrogen-bonded, and the rest contacted with the van der Waals force.ce anaysis of our samples and investigated the variarions in the values of parameters obtained through fitting the theoretical impedance to the experimental impedance. The characters of the dielectric constant and the impedance showed abnormal variations for the 0.2 at K-doped NSBN ceramics, which we were able to interpret in terms of the variations in the number A-site vacancies with the K doping ratio. From these results, A-site vacancies are thought to be space charges that influence the ferroelectric properties of NSBN ceramics.
$BiFeO_3/Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$(BFO/PZT) multilayer thin films have been prepared on a Pt/Ti/$SiO_2$/Si(100) substrate by chemical solution deposition. BFO single layer, BFO/PZT bilayer and multilayer thin films were studied for comparison. X-ray diffraction analysis showed that the crystal structure of all films was multi-orientated perovskite phase without amorphous and impurity phase. The leakage current density at 500 kV/cm was reduced by approximately four and five orders of magnitude by bilayer and multilayer structure films, compared with BFO single layer film. The low leakage current density leads to saturated P-E hysteresis loops of bilayer and multilayer films. In BFO/PZT multlayer film, saturated remanent polarization of $44.3{\mu}C/cm^2$ was obtained at room temperature at 1 kHz with the coercive field($2E_c$) of 681.4 kV/cm.
The influences of Na and K content on the crystal phase, the microstructure and the electrical property of $BaTiO_3$-based thermistors was found to show typical PTC effects. The crystal phase of powder calcined at $1000^{\circ}C$ for 4hrs showed a single phase with $BaTiO_3$, and the crystal structure was transformed from tetragonal to cubic phase according to added amounts of Na and K. In XRD results at $43^{\circ}\sim47^{\circ}$, the $(Ba_{0.858}Na_{0.071}K_{0.071})(Ti_{0.9985}Nb_{0.0015})O_{3-\delta}$ showed (002) and (200) peaks but the $(Ba_{0.762}Na_{0.119}K_{0.119})(Ti_{0.9975}Nb_{0.0025})O_{3-\delta}$ showed (002), (020) and (200) peaks. In sintered bodies, those calcined at $600^{\circ}C$ rather than at $1000^{\circ}C$ were dense, and for certain amounts of Na and K showed rapid decreases in grain size. In relative permittivity, the curie temperature due to the transformation of ferroelectric phase rose with added Na and K but decreased in terms of relative permittivity. In the result of the R-T curve, the sintered bodies have curie temperatures of about $140^{\circ}C$ and the resistivity of sintered bodies have scores of $\Omega{\cdot}cm$; the jump order of sintered bodies was shown to be more than $10^4$ in powder calcined at $1000^{\circ}C$.
We have investigated the crystal structure and electrical properties of Pt/SBT/$ZrO_2$/Si (MFIS) and Pt/SBT/Si (MFS) structures for the gate oxide of ferroelectric memory. XRD spectra and SEM showed that the SBT film of SBT/$ZrO_2$/Si structure had larger grain than that of SBT/Si structure. $ZrO_2$ film between SBT film and Si substrate is confirmed as a good candidate for a diffusion barrier by the analysis of AES. The remanent polarization decreased and coercive voltage increased in Pt/SBT/$ZrO_2$/Pt/$SiO_2$/Si structure. This effect may increase memory window of MFIS structure directly related to the coercive voltage. From the capacitance-volt-age characteristics, the memory windows of Pt/SBT (210 nm)/$ZrO_2$ (28 nm)/Si structure were in the range of 1~l.5 V at the applied voltage of 4~6 V. The current densities of Pt/SBT/ZrO$_2$/Si with as -deposited Pt electrode and annealed at $800^{\circ}C$ in $O_2$ambient were $8\times10^{-8} A/\textrm{cm}^2$ and $4\times10^{-8}A/\textrm{cm}^2$ , respectively.
Kim, Yu-Jin;Park, Seo-Kyu;Kwon, Soon-Bum;Lee, Ji-Hoon;Son, Ock-Soo;Lim, Tong-Kun
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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2005.07a
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pp.489-492
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2005
We report new polymer stabilized ferroelectric liquid crystal (PSFLC) cells with mechanical stability which is achievable by introducing photospacers in the cells. It was found that the mechanical st ability of the PSFLC cell was effected by introduction of photo spacers. We analyzed the dependence of mechanical stability and memory property on the density of photospacers in the PSFLC cell. The stability and memory properties of PSFLC Cells depending on photospacer density are discussed. 1. Introduction Recently, flexible displays have attracted much attention because they have remarkable advantages: thinner, lighter, non-breakable and conformable features. Flexible displays have various potential applications such as e-book and e-paper displays utilizing the distinct features. E-book and E-paper displays demand very low power consumption, so that bistable memory liquid crystal modes are required in case of flexible plastic LCDs for those application. Three kinds of memory LC modes have been developed; bistable nematic, bistable cholesteric and bistable FLC. Among them SSFLC as one of bistable FLC has big advantages such as low driving voltage, wide view angle and fast response time, SSFLC cells are, however, very weak against mechanical shock. Polymer stabilized FLC (PSFLC) has been developed to overcome the poor mechanical stability of SSFLC. PSFLC was known to have network structure that FLCs are oriented with smectic layer ordering in polymer network. The polymer network stabilizes the FLC orientation, which leads to improvement of mechanical stability of PSFLCD. A lot of studies have been done for the application of PSFLC to flexible $LCDs.^{[1{\sim}12]}$ However, it should be noted that PSFLC does not have sufficient mechanical stability for the particular applications such as smart card LCD, where LCD is highly bendable.Bead spacer was mainly used to maintain cell gap of conventional PSFLCDs. But the spacer density of it is not locally uniform in the cell, so that it is generally difficult that the PSFLCDs with bead spacers show sufficient mechanical stability. In order to more improve the mechanical stability of PSFLCDs, we introduced photospacers into PSFLCDs. In this paper, we describe the improvement of mechanical stability by introducing photospacers into PSFLCDs.
Kim, Yeong-Min;Gang, Il;Ryu, Seong-Rim;Gwon, Sun-Yong;Jang, Geon-Ik
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.11a
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pp.279-279
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2007
비휘발성 메모리 Fe-RAM은 빠른 정보처리 속도와 전원공급이 차단되었을 때도 계속 정보를 유지할 수 있는 비휘발성 특징과 더불어 저전압, 저전력 구동의 장점이 있어서, 차세대 메모리로 많은 주목을 받고 있다. FeRAM에 사용되는 강유전체는 주로 Pb(Zr,Ti)$O_3$가 적용되었는데, 최근에는 비납계 강유전체의 연구도 활발히 이루어지고 있다. 이러한 비납계 강유전체 중에서 가장 특성이 우수한 물질은 $(Bi,La)_4Ti_3O_{12}$ (BLT) 이다. 그런데 BLT는 결정 방향에 따른 강한 이방성의 강유전 특성을 나타내기 때문에 BLT 박막을 이용하여 Fe-RAM 소자 등을 제작하기 위해서는 결정의 방향성을 세심하게 제어하는 것이 매우 중요하다. 지금까지 연구된 BLT 박막의 방향성 조절결과를 보면, BLT 박막을 스핀 코팅 법 (spin coating method)으로 증착하고, 핵생성 열처리 단계를 조절하여 무작위 방향성을 갖는 박막을 제조하는 방법이 일반적이었다. 그런데 이러한 스핀 코팅법에서의 핵생성 단계의 제어는 공정 조건 확보가 너무 어려운 단점이 있다. 이러한 어려움을 극복할 수 있는 대안은 스퍼터링 증착법(sputtering deposition method), PLD (pulsed laser deposition)법 등과 같은 PVD (physical vapor deposition) 법의 증착방법을 적용하는 것이다. PVD 법으로 증착하는 경우에는 이미 박막 내에 무수한 결정핵이 존재하기 때문에 핵생성 단계가 필요가 없게 된다. PVD 증착법의 적용을 위해서는 타겟의 제조 및 평가 실험이 선행되어야 한다. 그런데 벌크 BLT 재료의 소결공정 조건과 전기적 특성에 관한 연구 결과는 거의 발표가 되지 않고 있다. 본 실험에서는 $Bi_2O_3,\;TiO_2,\;La_2O_3,\;Nb_2O_5\;and\;Al_2O_3$ 분말들을 이용하여 최적의 조성을 구하기 위하여 $Nb^{+5}$ 와 $Al^{+3}$을 $Ti^{+4}$ 자리에 소량 치환시켜 제조하였다. 혼합된 분말을 하소 후 pellet 형태로 성형하여 소결을 실시하였다. 시편을 1mm 두께로 연마하고, 양면에 silver 전극을 인쇄하여 전기적 특성을 측정하였다. 측정결과 $Ti^{+4}$ 자리에 $Nb^{+5}$를 치환하여 제조한 시편에서 $2P_r{\sim}31\;{\mu}c/cm^2$정도의 매우 우수한 특성을 얻었다.
Journal of Korean Society of Industrial and Systems Engineering
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v.46
no.3
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pp.15-22
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2023
BNKT Ceramics, one of the representative Pb free based piezoelectric ceramics, constitutes a perovskite(ABO3) structure. At this time, the perovskite structure (ABO3) is in the form where the corners of the octahedrons are connected, and in the unit cell, two ions, A and B, are cations, A ion is located at the body center, B ion is located at each corner, and an anion O is located at the center of each side. Since Bi, Na, and K sources constituting the A site are highly volatile at a sintering temperature of 1100℃ or higher, it is difficult to maintain uniformity of the composition. In order to solve this problem, there should be suppression of volatilization of the A site material or additional compensation of the volatilized. In this study, the basic composition of BNKT Ceramics was set to Bi0.5(Na0.78K0.22)0.5TiO3 (= BNKT), and volatile site (Bi, Na, and K sources) were coated in the form of a shell to compensate additionally for the A site ions. In addition, the physical and electrical properties of BNKT and its coated with shell additives(= @BNK) were compared and analyzed, respectively. As a result of analyzing the crystal structure through XRD, both BNKT(Core) and @BNK(Shell) had perovskite phases, and the crystallinity was almost similar. Although the Curie temperature of the two sintered bodies was almost the same (TC = 290 ~ 300 ℃), it was confirmed that the d33 (piezoelectric coefficient) and Pr (residual polarization) values were different. The experimental results indicated that the additional compensation for a shell additive causes the coarsening, resulting in a decrease in sintering density and Pr(remanent polarization). However, coating shell additives to compensate for A site ion is an effective way to suppress volatilization. Based on these experimental results, it would be the biggest advantage to develop an eco-friendly material (Lead-free) that replaced lead (Pb), which is harmful to the human body. This lead-free piezoelectric material can be applied to a biomedical device or products(ex. earphones (hearing aids), heart rate monitors, ultrasonic vibrators, etc.) and skin beauty improvement products (mask packs for whitening and wrinkle improvement).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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