Molecular dynamics simulations of nanoimprint lithography NIL) are performed in order to investigate effects of process parameters, such as stamp shape, imprinting temperature and adhesive energy, on nanoimprint lithography process and pattern transfer. The simulation model consists of an amorphous $SiO_{2}$ stamp with line pattern, an amorphous poly-(methylmethacrylate) (PMMA) film and an Si substrate under periodic boundary condition in horizontal direction to represent a real NIL process imprinting long line patterns. The pattern transfer behavior and its related phenomena are investigated by analyzing polymer deformation characteristics, stress distribution and imprinting force. In addition, their dependency on the process parameters are also discussed by varying stamp pattern shapes, adhesive energy between stamp and polymer film, and imprinting temperature. Simulation results indicate that triangular pattern has advantages of low imprinting force, small elastic recovery after separation, and low pattern failure. Adhesive energy between surface is found to be critical to successful pattern transfer without pattern failure. Finally, high imprinting temperature above glass transition temperature reduces the imprinting force.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.39
no.1
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pp.71-77
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2015
Ultrasonic imprinting is a micropattern replication technology for a thermoplastic polymer surface that uses ultrasonic vibration energy; it has the advantages of a short cycle time and low energy consumption. Recently, ultrasonic imprinting has been further developed to extend its functionality: (i) selective ultrasonic imprinting using mask films and (ii) repetitive ultrasonic imprinting for composite pattern development. In this study, selective ultrasonic imprinting was combined with repetitive imprinting in order to replicate versatile micropatterns. For this purpose, a repetitive imprinting technology was further extended to utilize mask films, which enabled versatile micropatterns to be replicated using a single mold with micro-prism patterns. The replicated hybrid micropatterns were optically evaluated through laser light images, which showed that versatile optical diffusion characteristics can be obtained from the hybrid micropatterns.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.28
no.12
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pp.1419-1424
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2011
Nanoimprint lithography is a next generation lithography technology, which enables to fabricate nano to micron-scale patterns through simple and low cost process. Nanoimprint lithography has been applied in various industry fields such as light emitting diodes, solar cells and display. Functional patterns, including anti-reflection moth-eye pattern, photonic crystal pattern, fabricated by nanoimprint lithography are used to improve overall efficiency of devices in that fields. For these reasons, in this study, sub-micron-scaled functional patterns were directly fabricated on Si and glass substrates by thermal imprinting process using ZnO nano-particles dispersion resin. Through the thermal imprinting process, arrays of sub-micron-scaled pillar and hole patterns were successfully fabricated on the Si and glass substrates. And then, the topography, components and optical property of the imprinted ZnO nano-particles/resin patterns are characterized by Scanning Electron Microscope, Energy-dispersive X-ray spectroscopy and UV-vis spectrometer, respectively.
Min, Kyeong Bin;Park, Jong Han;Park, Chang Yong;Park, Keun
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.38
no.1
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pp.51-57
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2014
Ultrasonic imprinting is a novel process for replicating micropatterns on thermoplastic polymer substrates with low energy consumption and short cycle time. The polymer substrate is softened by the frictional heat and repetitive deformation energy under ultrasonic excitation; thus, a number of micropatterns are replicated on the softened polymer substrate. In the present work, the effect of mold temperature on the replication characteristics of ultrasonic imprinting is investigated. The temperature change in the patterned region is measured by varying the mold temperature. Numerical simulation is then performed for investigating pattern replication characteristics under various mold temperatures. In addition, pattern replication ratio and uniformity are compared through various experimental measurements. Through the results of these comparisons, it is found that the mold temperature has a significant positive effect on the replication characteristics of ultrasonic imprinting.
Energized-functional water (EFW) and powder (EFP) were manufactured by Kyungwon Institute of Life Science, Seoul, through a series of processes; tap water ultra-purification energy imprinting with catalysts in platinum columns mixing energy-imprinted water + activated zeolites + photosynthetic bacteria fermenting at $25^{\circ}C$ filtering EFW and/or EFP. A single application of EFP to soil under tree canopy before bud burst, combined with three EFW applications to soil during growth of 'Fuji' apples (Malus domestica Borkh.) resulted in a higher Ca concentrations in fruit skins and flesh, and lower Ca and N concentrations in leaves and shoot-bark tissues. EFW also stimulated the net photosynthesis of leaves and root activity. Soluble solid concentrations (SSC) and anthocyanin levels of fruits were also significantly increased at harvest, producing greater firmness and less core browning during storage at $0^{\circ}C$. However, there was no significant difference in titratable acidity of fruit juice between the EFW treatment and the controls.
Cho, Jung Min;Jo, Jeongdai;Kim, Taeil;Kim, Dong Soo
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.31
no.11
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pp.993-998
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2014
Silver (Ag) grid patterned PET substrates were manufactured by thermal roll-imprinting methods. We coated highly conductive layer (HCL) as a supply electrode on the Ag grid patterned PET in the three kinds of conditions. One was no-HCL without conductive PEDOT:PSS on the Ag grid patterned PET substrate, another was thin-HCL coated with ~50 nm thickness of conductive PEDOT:PSS on the Ag grid PET, and the other was thick-HCL coated with ~95 nm thickness of conductive PEDOT:PSS. These three HCLs in order showed 73.8%, 71.9%, and 64.7% each in transmittance, while indicating $3.84{\Omega}/{\Box}$, $3.29{\Omega}/{\Box}$, and $2.65{\Omega}/{\Box}$ each in sheet resistance. Fabrication of organic solar cells (OSCs) with HCL Ag grid patterned PET substrates showed high power conversion efficiency (PCE) on the thin-HCL device. The thick-HCL device decreased efficiency due to low open circuit voltage ($V_{OC}$). And the Ag grid pattern device without HCL had the lowest energy efficiency caused by quite low short current density ($J_{SC}$).
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.50
no.6
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pp.480-485
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2017
Soft mold imprinting method that uses nanostructured polymer mold was investigated for anti-reflection film fabrication. The nanostructured soft mold was polyethylene terephthalate(PET) irradiated by oxygen ion beams. The collisional energy transfer between oxygen ion and the polymer surface induced cross-linking and scission reactions, resulting in self-organized nanostructures with regular patterns of the wavenumber of $5{\mu}m^{-1}$. Post processes including ultra-violet curable resin coating and delamination fabricated anti-reflection films. The imprinted resin surface also showed the consistent wavenumber, $5{\mu}m^{-1}$. Pristine PET, oxygen ion beam treated PET, and imprinted replica sample showed total transmittance of 91.04, 93.25, and 93.57-93.88%, respectively.
Kim, Jin-Ook;Nam, Yeon-Heui;Chae, G.S.;Chung, In-Jae
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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2006.08a
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pp.1622-1624
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2006
We introduce a modified UV-imprint lithography, a resin transfer from the template to the substrate. We analyzed this method by considering the surface and interfacial free energies of the template-resinsubstrate system. This technique is purely fast and applicable to large area patterning.
Materials with a combination of high electrical conductivity and optical transparency are important components of many electronic and optoelectronic devices such as liquid crystal displays, solar cells, and light emitting diodes. In this study, to fabricate a low-resistance and high optical transparent electrode film for organic photovoltaic, the following steps were performed: the design and manufacture of an electroforming stamp mold, the fabrication of thermal roll imprinted (TRI) poly-carbonate (PC) patterned films, the manufacture of high-conductivity and low-resistance Ag paste which was filled into patterned PC film using a doctor blade process and then coated with a thin film layer of conductive polymer by a spin coating process. As a result of these imprinting processes the PC films obtained a line width of $10{\pm}0.5{\mu}m$, a channel length of $500{\pm}2{\mu}m$, and a pattern depth of $7.34{\pm}0.5{\mu}m$. After the Ag paste was used to fill part of the patterned film with conductive polymer coating, the following parameters were obtained: a sheet resistance of $9.65{\Omega}$/sq, optical transparency values were 83.69 % at a wavelength of 550 nm.
The bimodal porous carbons were synthesized by using imprinting method with templates of SBA-15 particle and silica sphere and applied as supporting materials for the electro-catalyst of polymer electrolyte fuel cell (PEFC). The silica spheres with diameter size of 100 nm and SBA-15 particle having 200 nm -250 nm diameter and 700 nm -900 nm length were synthesized in this work. The bimodal porous carbons (S100) were prepared by using the silica spheres and SBA-15 as templates and mesophase pitch as a carbon source. The PtRu nanoparticle of ca. 1.9 nm were supported on the bimodal porous carbon support and the resulting PtRu/S100 catalysts was tested by the cyclic voltammetry. The use of bimodal porous carbon showed in comparable electro-catalytic activities with commercial catalyst. Though unclear effects of bimodal porosity of supports could be obtained in the scope of this study, morphological advantage in electrical conductivity can be considered on the electro-catalytic activity.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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