The demand of on-chip total analyzing system with MEMS (micro electro mechanical system) bio/chemical sensor is rapidly increasing. In on-chip total analyzing system, to detect the bio/chemical products with submicron feature size, a filtration system with nano-filter is required. One of the conventional methods to fabricate nano-filter is to use direct patterning or RIE (reactive ion etching). However, those procedures are very costly and are not suitable fur mass production. In this study, we suggested new fabrication method for a nano-filter based on replication process, which is simple and low cost process. After the Si master was fabricated by laser interference lithography and reactive ion etching process, the polymeric mold was replicated by UV-imprint process. Metallic nano-filter was fabricated after removing the polymeric part of metal deposited polymeric mold. Finally, our fabrication method was applied to metallic nano-filter with $1{\mu}m$ pitch size and $0.4{\mu}m$ hole size for bacteria sensor application.
Liquid crystal-polymer composite(LCPC) films consisting of a continuous LC phase embedded in a three-dimensional network of polymer matrix are formed by photopolymerization-induced phase separ on. The LCPC films are switched from a light-scattering stats to a highly transparent stats on the application of electric fields. Since the alignment of LC molecular determines the electro-optical properties of films, the requirement for good contrast is to generate the nematic phase at high concentration. On the other hand, the concentration of UV-curable monomer must be increased above some critical value to from the flexible matrix of unbounded polymer. The mixing ratio of LC and UV-curable monomer affects the electro-optical and viscoelastic properties of LCPD films in two opposing ways. By controlling the phase separation process, at an LC fraction of 0.7, the maximum performance of LCPC films has been achieved, the response time of which is 2ms on the application of electric fields.
The Conventional patterned vertical alignment (PVA) device shows a very high contrast ratio at normal direction and does not require rubbing process. However it has a disclination area in which the liquid crystal can be collision in the boundary domain region. In this paper, we studied PVA(Z-shape) device in which the liquid crystal can be tilted down in multiple directions stably because the surface pretilt angle is controlled by photopolymerization of the UV - curable reactive mesogen (RM) under a proper condition. Consequently, the device shows improved electro optical properties as compared to conventional PVA mode.
Recently, the lead-time of a product is to be shortened in order to satisfy consumer's demand. It is thus important to reduce the manufacturing time and the cost of 3D-shaped microstructures. Micro-Electro-Mechanical Systems (MEMS) and devices are usually fabricated by lithography-based methods. Above method is not flexible for the rapid manufacture of 3D-shaped microstructures because it depends on work's experiences and requires excessive cost and time for making many masks. In this paper, the effective laser micrornachining is developed to fabricate UV sensitive polymer microstructures using laser ablation. The proposed process, named by laser microRP, is a very useful method on rapid manufacturing for 3D-shaped microstructures.
Purpose: Since several problems were found when present non-conducting metal coating process was applied to mass production, we study and develop to improve those problems. Methods: In this paper, a couple of analysis methods such as surface hardness, XPS spectrum analysis, morphology, and reflection ratio were used. Results: This paper suggest a new possibility of Non-conducting thin metal coating method that has quality of mass production phase without UV coating process. Conclusion: By the result of analysis, we can set optimized process conditions of the electro deposition coating using electron beam.
New photopolymers were designed and prepared using the photosensitive polymer binders. Holographic gratings were successfully fabricated in these photopolymer samples by a conventional optical interference method. We also investigated the effect of photocrosslink in the polymer binder on the diffraction behavior of a new photopolymer. The dynamic behavior of the grating formation was monitored by changing exposure intensity in terms of the diffraction efficiency. Particularly, we focused our efforts in observing the variation of diffraction efficiency during a post UV curing process. The surface topographical change of photopolymer layer before and after Vis/UV light exposure was observed by atomic force microscope (AFM). We inscribed the gratings of the glass diffuser on the surface of the photopolymer and investigated their diffusing properties. The diffusers with photopolymer with the main chain polymer binder showed relatively good viewing angle of around ${\pm}30{\circ}$. Two kinds of photopolymer showed similar uniformity of around 47-54%.
This paper reports fabrication and characterization of cellulose Electro-Active Paper (EAPap) with increased thickness. Usual thickness of cellulose EAPap was $15{\mu}m$. This thickness needs to be increased to enhance the mechanical force output of EAPap. To fabricate thick cellulose EAPap, the fabrication process parameters including casting and drying processes should be investigated. In this paper, the casting thickness is increased from $800{\mu}m$ to $1500{\mu}m$, and heating times on a hot plate before and after curing process are introduced at 40 and $60^{\circ}C$ for 30 and 60 minutes, respectively. Thickness measurement, Thermal Gravitational Analysis (TGA), UV-transmittance, Young's modulus, and piezoelectric charge constant are measured. Heated EAPaps with increased thickness have similar TGA result, higher transmittance, higher Young's modulus and lower piezoelectric charge constant.
PCB 표면 개질 및 세정에 있어서 저압 수은 램프를 이용한 UV 장비가 널리 사용되어왔다. 본 연구에서는 공정의 생산성을 향상 시키기 위하여 기존 UV 장비를 대체하여 리모트 DBD 방식의 대기압플라즈마 장비를 새로이 개발하였다. 두 장비의 생산성 비교는 처리 시간 증가에 따른 표면 접촉각의 변화를 측정함으로써 정량적으로 비교할 수 있었다. 측정 결과 대기압 플라즈마 장비의 생산성이 UV 장비에 비하여 매우 우수한 것으로 확인 되었다. 또한 XPS를 이용한 표면 조성 측정 결과 동일한 접촉각 수준에서 UV 및 대기압 처리의 효과는 유사한 것으로 파악되었다. 즉, 유기 오염 수준이 감소되었으며 표면 일부 표면 원소가 산회되었다. 최종적으로 대기압 플라즈마를 BGA제조의 플럭스 도포 공정에 적용하였는데, 대기압 플라즈마를 처리함으로써 도포 공정의 균일도가 향상되는 결과를 얻을 수 있었다.
Park, Yunjae;Choi, Hyonkwang;Im, Kihong;Kim, Seonpil;Jeon, Minhyon
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.386.1-386.1
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2014
The ionic polymer-metal composite (IPMC), a type of electro-active polymer material, has received enormous interest in various fields such as robotics, medical sensors, artificial muscles because it has many advantages of flexibility, light weight, high displacement, and low voltage activation, compare to traditional mechanical actuators. Mostly noble metal materials such as gold or platinum were used to form the electrode of an IPMC by using electroless plating process. Furthermore, carbon-based materials, which are carbon nanotube (CNT) and reduced graphene-CNT composite, were used to alter the electrode of IPMC. To form the electrode of IPMC, we employ the synthesized graphene on copper foil by chemical vapor deposition method and use the transfer process by using a support of PET/silicone film. The properties of graphene were evaluated by Raman spectroscopy, UV/Vis spectroscopy, and 4-point probe. The structure and surface of IPMC were analyzed via field emission scanning electron microscope. The fabricated IPMC performance such as displacement and operating frequency was measured in underwater.
Inkjet printing is a non-contact and direct writing associated with a computer. In the industrial field, there have been many efforts to utilize the inkjet printing as a new way of manufacturing, especially for electronic devices. The etching resist used in this process is an organic polymer which becomes solidified when exposed to ultraviolet lights and has high viscosity of 300 cPs at ambient temperature. A piezoelectric-driven ink jet printhead is used to dispense $20-40\;{\mu}m$ diameter droplets onto the copper substrate to prevent subsequent etching. In this study, factors affecting the pattern formation such as printing resolution, jetting property, adhesion strength, etching and strip mechanism, UV pinning energy have been investigated. As a result, microscale Etch resist patterning of printed circuit board with tens of ${\mu}m$ high have been fabricated.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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