낮은 에너지의 $As_{2}^{+}$ 이온 주입을 이용한 얕은 $n^{+}-{p}$ 접합을 가진 70nm NMOSFET의 제작
(70nm NMOSFET Fabrication with Ultra-shallow $n^{+}-{p}$ Junctions Using Low Energy $As_{2}^{+}$ Implantations)
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- 대한전자공학회논문지SD
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- 제38권2호
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- pp.95-102
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- 2001