Fabrication of Sub-Micron Size $Al-AlO_x-Al$ Tunnel Junction using Electron-Beam Lithography and Double-Angle Shadow Evaporation Technique
(전자빔 패터닝과 double-angle 그림자 증착법을 이용한 sub-micron 크기의 $Al-AlO_x-Al$ 터널접합 제작공정개발)
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- Progress in Superconductivity
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- v.10 no.2
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- pp.99-102
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- 2009