탐침법에 의한 $$CF_4$ 가스 프라즈마제량의 예정과 에칭 특성
(Characteristics of Plasma Etching and Plasma Diagnostics of $$CF_4$ Gas with Electric Probe)
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- 대한전자공학회논문지
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- 제23권6호
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- pp.916-922
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- 1986