Journal of Electrical Engineering and information Science
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v.2
no.6
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pp.208-211
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1997
We have fabricated a single-electron-tunneling(SET) transistor with a dual gate geometry based on the SOI structure prepared by SIMOX wafers. The split-gate is the lower-gate is the lower-level gate and located ∼ 100${\AA}$ right above the inversion layer 2DEG active channel, which yields strong carrier confinement with fully controllable tunneling potential barrier. The transistor is operating at low temperatures and exhibits the single electron tunneling behavior through nano-size quantum dot. The Coulomb-Blockade oscillation is demonstrated at 15mK and its periodicity of 16.4mV in the upper-gate voltage corresponds to the formation of quantum dots with a capacity of 9.7aF. For non-linear transport regime, Coulomb-staircases are clearly observed up to four current steps in the range of 100mV drain-source bias. The I-V characteristics near the zero-bias displays typical Coulomb-gap due to one-electron charging effect.
Within the framework of the density functional theory combined with the method of non-equilibrium Green's functions (DFT + NEGF), the features of electron transport in fullerene nanojunctions, which are «core-shell» nanoobjects made of a combination of fullerenes of different diameters C20, C80, C180, placed between gold electrodes (in a nanogap), are studied. Their transmission spectra, the density of state, current-voltage characteristics and differential conductivity are determined. It was shown that in the energy range of -0.45-0.45 eV in the transmission spectrum of the "Au-C180-Au" nanojunction appears a HOMO-LUMO gap with a width of 0.9 eV; when small-sized fullerenes C20, C80 are intercalation into the cavity C180 the gap disappears, and a series of resonant structures are observed on their spectra. It has been established that distinct Coulomb steps appear on the current-voltage characteristics of the "Au-C180-Au" nanojunction, but on the current-voltage characteristics "Au-C80@C180-Au", "Au-(C20@C80)@C180-Au" these step structures are blurred due to a decrease in Coulomb energy. An increase in the number of Coulomb features on the dI/dV spectra of core-shell fullerene nanojunctions was revealed in comparison with nanojunctions based on fullerene C60, which makes it possible to create high-speed single-electron devices on their basis. Models of single-electron transistors (SET) based on fullerene nanojunctions "Au-C180-Au", "Au-C80@C180-Au" and "Au-(C20@C80)@C180-Au" are considered. Their charge stability diagrams are analyzed and it is shown that SET based on C80@C180-, (C20@C80)@C180- nanojunctions is output from the Coulomb blockade mode with the lowest drain-to-source voltage.
Park, Tae-Hak;Back, Sung-Hak;Lee, Dong-Gun;Park, Hong-Kyu;Jeong, In-Bum;Hong, Jin-Woong
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.92-92
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2010
In this paper, the test is performed on MgO, which is used as a filler in epoxy additives, respectively (0, 1.0, 3.0, 5.0, 7.0, 10 [wt%]) for HVDC(high voltage direct current) submarine cable insulating material to improve electrical properties of epoxy resin in high temperature. The breakdown strength due to increasing amount of filler increased to 5.0 [wt%] by the effects of the Coulomb blockade. However, it is confirmed that strength of dielectric breakdown decreased because the filler functioned as impurities and affected the breakdown when filler additive exceeded by 5.0 [wt%] or more. We have found that the highest dielectric breakdown strength of specimen added 5.0 wt% at $25^{\circ}C$, and is more increased approximately 13.7 [%] than virgin specimen.
KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications
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v.2C
no.5
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pp.258-261
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2002
Electrical forming dependent current-voltage (I-V) and numerically derived differential conductance(dI/dV) characteristics have been presented in the multi-layer nano-crystalline silicon/oxygen (no-Si/O) superlattice. Distinct staircase-like features, indicating the presence of resonant tunnel barriers, are clearly observed in the dc I-V characteristics. Also, all samples showed a continuous change in current and zero conductivity around OV corresponding to the Coulomb blockade in the calculated dI/dV-V curve. Also, Ra-man scattering measurement showed the presence of a nano-crystalline Si structure. This result becomes a step in the right direction for the fabrication of silicon-based optoelectronic and quantum devices as well as for the replacement of silicon-on-insulator (SOI) in high speed and low power silicon MOSFET devices of the future.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.11a
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pp.268-271
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2002
The goal of the research is to study and describe a new stressed state of High Temperature Superconducting (High-Tc) YBCO Films, to create of SQUIDs (Superconducting Quantum Interference Device) on the bases of these Films with maximal sensitivity. The experimental investigation of the stressed films grown by laser ablation method and its properties, the fabrication of the dc-SQUIDs with maximal sensitivity on the bases of the stressed YBCO films were carried out. The stressed film having the value of the critical current density $J_{c}=3{\cdot}10^{5}A/cm^{2}$ was the more stable than others.
Sheela, L.;Balamurugan, N.B.;Sudha, S.;Jasmine, J.
Journal of Electrical Engineering and Technology
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v.9
no.5
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pp.1670-1676
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2014
This paper presents the modeling of Single Electron Transistor (SET) based on Physical model of a device and its equivalent circuit. The physical model is derived from Schrodinger equation. The wave function of the electrode is calculated using Hartree-Fock method and the quantum dot calculation is obtained from WKB approximation. The resulting wave functions are used to compute tunneling rates. From the tunneling rate the current is calculated. The equivalent circuit model discuss about the effect of capacitance on tunneling probability and free energy change. The parameters of equivalent circuit are extracted and optimized using genetic algorithm. The effect of tunneling probability, temperature variation effect on tunneling rate, coulomb blockade effect and current voltage characteristics are discussed.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.1
no.1
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pp.40-49
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2001
We have developed a repeatable process of forming uniform, small-size and high-density self-assembled Si nano-crystals. The Si nano-crystals were fabricated in a conventional LPCVD (low pressure chemical vapor deposition) reactor at $620^{\circ}c$ for 15 sec. The nano-crystals were spherical shaped with about 4.5 nm in diameter and density of $5{\times}l0^{11}/$\textrm{cm}^2$. More uniform dots were fabricated on nitride film than on oxide film. To take advantage of the above-mentioned characteristics of nitride film while keeping the high interface quality between the tunneling dielectrics and the Si substrate, nitride-oxide tunneling dielectrics is proposed in n-channel device. For the first time, the single electron effect at room temperature, which shows a saturation of threshold voltage in a range of gate voltages with a periodicity of ${\Delta}V_{GS}\;{\approx}\;1.7{\;}V$, corresponding to single and multiple electron storage is reported. The feasibility of p-channel nano-crystal memory with thin oxide in direct tunneling regime is demonstrated. The programming mechanisms of p-channel nano-crystal memory were investigated by charge separation technique. For small gate programming voltage, hole tunneling component from inversion layer is dominant. However, valence band electron tunneling component from the valence band in the nano-crystal becomes dominant for large gate voltage. Finally, the comparison of retention between programmed holes and electrons shows that holes have longer retention time.
From extensive measurements of the resistance and the dynamic resistance as functions of magnetic field and temperature, we find that the transport in the insulating state beyond the superconductor-insulator (S-I) transition is dominated by bosons(Cooper pairs and/or vortices) and cannot be described by the theory of the fermionic insulating phase. The maximum of the magnetoresistance at B = B$_m$ and the following negative slope in R(B) with increasing field can be explained by the crossover from the "Bose-glass" to the "Fermi-glass" phase as suggested by Paalanen, Hebard, and Ruel. The zero bias peak in dv/dl for biases below the characteristic voltage V$_c$ (or current $I_c$), gives a clue for the assumption of the "dirty boson" model which states that the insulating state above the critical magnetic field is the phase where Cooper pairs are localized due to the Coulomb blockade with a nonvanishing order parameter. The shift to a lower value of the critical magnetic field by overlaying thin Au layer, which is known as a strong spin-orbit scatterer, also supports the bosonic nature of the S-I transition.
The thermoelectric Seebeck and Peltier effects of a single walled carbon nanotube (SWCNT) quantum dot nanodevice are investigated, taking into consideration a certain value of applied tensile strain and induced ac-field with frequency in the terahertz (THz) range. This device is modeled as a SWCNT quantum dot connected to metallic leads. These two metallic leads operate as a source and a drain. In this three-terminal device, the conducting substance is the gate electrode. Another metallic gate is used to govern the electrostatics and the switching of the carbon nanotube channel. The substances at the carbon nanotube quantum dot/metal contact are controlled by the back gate. Results show that both the Seebeck and Peltier coefficients have random oscillation as a function of gate voltage in the Coulomb blockade regime for all types of SWCNT quantum dots. Also, the values of both the Seebeck and Peltier coefficients are enhanced, mainly due to the induced tensile strain. Results show that the three types of SWCNT quantum dot are good thermoelectric nanodevices for energy harvesting (Seebeck effect) and good coolers for nanoelectronic devices (Peltier effect).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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