• Title/Summary/Keyword: contact hole

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The Effects of Size and Array of N-GaN Contacts on Operation Voltage of Padless Vertical Light Emitting Diode (N-GaN 접촉 전극의 크기 및 배열 변화에 따른 패드리스 수직형 발광다이오드의 구동전압의 변화에 관한 연구)

  • Rho, Hokyun;Ha, Jun-Seok
    • Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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    • v.21 no.1
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    • pp.19-23
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    • 2014
  • For the application of light-emitting diodes (LEDs) for general illumination, the development of high power LEDs chips became more essential. For these reasons, recently, modified vertical LEDs have been developed to meet various requirements such as better heat dissipation, higher light extraction and less cost of production. In this research, we investigate the effect of Size and Array of N-GaN contact on operation voltage with new structured padless vertical LED. We changed the size and array of N-electrodes and investigated how they affect the operation voltage of LEDs. We simulated the current crowding and expected operation voltage for different N-contact structures with commercial LED simulator. Also, we fabricated the padless vertical LED chips and measured the electrical property. From the simulation, we could know that the larger size and denser array of n-electrodes could make operation voltage decrease. These results are well in accordance with those measured values of real padless vertical LED chips.

Two-Arm Cooperative Assembly Using Force-Guided Control with Adaptive Accommodation (적응 순응성을 갖는 힘-가이드 제어 기법을 이용한 두 팔 로봇 협동 조립작업)

  • Choi, Jong-Dho;Kang, Sung-Chul;Kim, Mun-Sang;Lee, Chong-Won;Song, Jae-Bok
    • Journal of Institute of Control, Robotics and Systems
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    • v.6 no.3
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    • pp.298-308
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    • 2000
  • In this paper a new two-arm cooperative assembly(or insertion) algorithm is proposed. As a force-guided control method for the cooperative assembly the adaptive accommodation controller is adopted since it does not require any complicated contact state analysis nor depends of the geometrical complexity of the assembly parts. Also the RMRC(resolved motion rate control) method using a relative jacobian is used to solve inverse kinematics for two manipulators. By using the relative jacobian the two cooperative redundant manipulators can be formed as a new single redundant manipulator. Two arms can perform a variety of insertion tasks by using a relative motion between their end effectors. A force/torque sensing model using an approximated penetration depth calculation a, is developed and used to compute a contact force/torque in the graphic assembly simulation . By using the adaptive accommodation controller and the force/torque sensing model both planar and a spatial cooperative assembly tasks have been successfully executed in the graphic simulation. Finally through a cooperative assembly task experiment using a humanoid robot CENTAUR which inserts a spatially bent pin into a hole its feasibility and applicability of the proposed algorithm verified.

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A Study on Adaptable Non-contact Shape Inspection System (적응형 비접촉 형상 검사에 관한 연구)

  • Kang, Young-June;Park, Nak-Gyu;Lee, Dong-Hwan
    • Journal of the Korean Society for Nondestructive Testing
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    • v.25 no.2
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    • pp.74-80
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    • 2005
  • A new dimension measuring method for the measurement of diameter of an object has been developed using laser triangulation. The 3D data of an object was calculated from the 2 dimensional image information obtained by the laser stripe using the laser triangulation. The system that use existing theory can measure the diameter of hole not only in a normal plane but also ill an incline plane. However, in the existing theory, since the lens with fixed feral length was used, the area of measurement was fixed. The simplest way to solve this problem is to change distance between a CCD camera and object. Other way is to use a zoom lens having variable focal length. In this paper, the zoom lens with variable focal length was used. Therefore, we ran experiment with magnification that is optimized according to size of object using zoom lens with variable focal length.

Simulated Study on the Effects of Substrate Thickness and Minority-Carrier Lifetime in Back Contact and Back Junction Si Solar Cells

  • Choe, Kwang Su
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.27 no.2
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    • pp.107-112
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    • 2017
  • The BCBJ (Back Contact and Back Junction) or back-lit solar cell design eliminates shading loss by placing the pn junction and metal electrode contacts all on one side that faces away from the sun. However, as the electron-hole generation sites now are located very far from the pn junction, loss by minority-carrier recombination can be a significant issue. Utilizing Medici, a 2-dimensional semiconductor device simulation tool, the interdependency between the substrate thickness and the minority-carrier recombination lifetime was studied in terms of how these factors affect the solar cell power output. Qualitatively speaking, the results indicate that a very high quality substrate with a long recombination lifetime is needed to maintain the maximum power generation. The quantitative value of the recombination lifetime of minority-carriers, i.e., electrons in p-type substrates, required in the BCBJ cell is about one order of magnitude longer than that in the front-lit cell, i.e., $5{\times}10^{-4}sec$ vs. $5{\times}10^{-5}sec$. Regardless of substrate thickness up to $150{\mu}m$, the power output in the BCBJ cell stays at nearly the maximum value of about $1.8{\times}10^{-2}W{\cdot}cm^{-2}$, or $18mW{\cdot}cm^{-2}$, as long as the recombination lifetime is $5{\times}10^{-4}s$ or longer. The output power, however, declines steeply to as low as $10mW{\cdot}cm^{-2}$ when the recombination lifetime becomes significantly shorter than $5{\times}10^{-4}sec$. Substrate thinning is found to be not as effective as in the front-lit case in stemming the decline in the output power. In view of these results, for BCBJ applications, the substrate needs to be only mono-crystalline Si of very high quality. This bars the use of poly-crystalline Si, which is gaining wider acceptance in standard front-lit solar cells.

Analysis of Lattice constants change for study of W-C-N Diffusion (W-C-N 확산방지막의 격자상수 변화 분석을 통한 특성 연구)

  • Kim, Soo-In;Lee, Chang-Woo
    • Journal of the Korean Vacuum Society
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    • v.17 no.2
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    • pp.109-112
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    • 2008
  • The miniaturization of device size and submicron process causes serious problems in conventional metallization due to the solubility of silicon and metal at the interface, such as an increasing contact resistance in the contact hole and interdiffusion between metal and silicon. Moreover, the interaction between Cu and Si is so strong and detrimental to the electrical performance of Si even at temperatures below $200^{\circ}C$. Therefore it is necessary to implement a barrier layer between Cu and Si. So we study W-C-N diffusion barrier for prevent Cu diffusion as a function of $N_2$ gas flow and thermal stability. Especially, we also study the W-C-N diffusion barrier for analyzing the change of lattice constants.

Study on Ohmic resistance of Zn-doping InP using RTA method (RTA 방법에 의해 Zn 도핑된 InP의 오믹저항 특성연구)

  • Kim, H.J.;Kim, I.S.;Kim, T.U.;Kim, S.T.;Kim, S.H;Ki, H.C.;Lee, K.M.;Yang, M.H.;Ko, H.J.;Kim, H.J.
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2008.06a
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    • pp.237-238
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    • 2008
  • Electrical properties of Pd/Zn/Pd/Au contacts to p-InP were investigated as function of the V/III ratio of p-InP. P-type InP was made by the Zn diffusion into InP and activation process with rapid thermal annealing (RTA) measurement. After activation, the hole concentration was two orders of magnitude higher than that of the sample having only diffusion process. According to transmission line method (TLM) results, the specific contact resistance of p-InP was lower as used InP having the lower V/III ratio. The experimental results represent that the diffusion of Zn in undoped InP deeply related to the equilibrium between interstitials and substitutional Zn is established via indium interstitials.

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자화 유도 결합 플라즈마의 산화물 건식 식각 특성에 관한 연구

  • Jeong, Hui-Un;Kim, Hyeok;Lee, U-Hyeon;Kim, Ji-Won;Hwang, Gi-Ung
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2013.08a
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    • pp.230-230
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    • 2013
  • 플라즈마를 활용한 미세 패턴의 건식 식각은 반도체 소자 공정에 있어서 가장 중요한 기술 중 하나이다. 한편, 매년 발행되는 ITRS Roadmap 에 따르면 DRAM 의 1/2 pitch 는 감소하는 동시에 Contact A/R (Aspect Ratio) 는 증가하고 있다. 이러한 추세 속에서 기존의 공정을 그대로 활용할 경우 식각물의 프로파일 왜곡 혹은 휨 현상이 발생하고 식각 속도가 저하되며 이러한 특성들이 결과적으로는 생산성의 저하로 이어질 수 있다. 이러한 현상을 최소화하기 위해서는 무엇보다 독립된 plasma parameter 들이 식각물의 프로파일 혹은 식각 속도 등에 어떠한 영향을 주는 지에 대한 학문적 이해가 필요하다. 본 논문에서는 최소 CD (Critical Dimenstion) 100nm, 최대 A/R 30 인 HARC (High Aspect Ration Contact hole) 의 식각 특성이 plasma parameter 에 따라 어떻게 변하는지 확인해 보고자 한다. 산화물의 식각은 대표적인 high density plasma source 중의 하나인 ICP에서 진행하였으며 기존에 알려진 plasma parameter 에 더하여 자장의 인가가 산화물의 식각 특성에 어떠한 영향을 주는지 살펴보고자 전자석을 ICP 에 추가로 설치하여 실험을 진행하였다. 결과적으로, plasma parameter 에 따른 혹은 자장의 세기 변화에 따른 산화물의 식각 실험을 플라즈마 진단 실험과 병행하여 진행함으로써 다양한 인자에 따른 산화물의 식각 메커니즘을 정확하게 이해하고자 하였다. 실험 내용을 요약하면 다음과 같다. 먼저, 전자석의 전류 인가 조건에 따라 축 방향 혹은 반경 방향으로의 자장의 분포가 달라질 수 있음을 확인하였고 플라즈마 진단 결과 축 방향 혹은 반경 방향으로의 자장이 증가하였을 때 고밀도의 플라즈마가 형성될 수 있음은 물론 반경 방향으로의 플라즈마 밀도의 균일도가 향상됨을 확인할 수 있었다. 또한 ICP 조건에서 바이어스 주파수, 압력, 바이어스 파워, 소스 파워, 가스 유량 등의 plasma parameter 가 산화물의 식각 특성에 미치는 영향 및 메커니즘을 규명하였고 이 과정을 통해 최적화된 프로파일을 바탕으로 축 방향 혹은 반경 방향으로 증가하는 자장을 인가하였을 때 (M-ICP 혹은 자화 유도 결합 플라즈마) ICP 대비 산화물의 식각 속도가 증가함은 물론 PR-to-oxide 의 선택비가 개선될 수 있음을 확인할 수 있었다. 자장의 인가에 따른 산화물의 정확한 식각 메커니즘은 향후의 실험 진행을 통해 이해하고 이를 통해 궁극적으로는 산화물의 식각 공정이 나아가야 할 올바른 방향을 제시하고자 한다.

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Determining of Ground Condition Criteria for Dam Reinforced RIM Grouting (댐체 강화 RIM부 그라우팅을 위한 지반상태 기준 결정)

  • Han, Kiseung;Lee, Donghyuk;Park, Duhee
    • KSCE Journal of Civil and Environmental Engineering Research
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    • v.42 no.2
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    • pp.181-186
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    • 2022
  • Dam slope RIM is a highly important contact interface where the main body and the base surface are connected. In general, when the grouting for the slope of the dam structure is designed, it is planned using limited data (drilling, geological map, etc.). This makes it very difficult to accurately consider the original ground characteristics of the slope RIM grouting target, In addition, when the grouting volume planned during the design is drilled and injected into the original ground where the waterstop is secured, there is a possibility that the original ground with the waterstop is disturbed and the effect of the waterstop is rather diminished. In order to overcome such problems, it is more suitable to first consider geological conditions and determine whether to perform optimal grouting on the original ground through on-site repair tests before performing RIM grouting. In this paper, to determine the grouting of the RIM unit, a pilot hole water pressure test was performed on the rock of the slope in the target section. The analysis shows grouting volume of 1 Lugeon or less, and the cement injection amount also shows the injection result of 1 kg/m or less. In this case, performing grouting is rather counterproductive. This result can be evaluated through a rock of which some degree of order of mass is secured, as it is a dam design standard of 1 Lugeon or less when analyzed, using the results of visual observation and geological map creation during slope cutting. Therefore, in conclusion, it is preferable to make the decision for using RIM grouting on the slope of the dam body structure, based on 1 Lugeon in a rock state, and the cement injection amount also at 1 kg/m.

A Study on Batch-Type Remote Plasma Dry Cleaning Process for Native Oxide Removal (배치식 플라즈마 세정 설비를 이용한 자연산화막 제거 공정)

  • Park, Jae-Young;Yi, Wook-Yeol;Hyung, Yong-Woo;Nam, Seok-Woo;Lee, Hyeon-Deok;Song, Chang-Lyong;Kang, Ho-Kyu;Roh, Yong-Han
    • Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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    • 2004.11a
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    • pp.247-251
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    • 2004
  • 반도체 소자의 제조에 있어 실리콘 표면에 성장한 자연산화막을 제거하기 위해 일반적으로 습식 세정 기술이 이용되어 왔다. 하지만 소자의 최소 선폭(design rule)이 nano급으로 고집적화 됨에 따라 contact hole 바닥의 자연산화막을 깨끗이 제거하는데 있어서 그 한계를 나타나고 있다. 이에 대한 효과적인 대안 공정으로 가스 건식 세정 기술이 연구되고 있다. 본 논문에서는 한 번에 50매 이상의 웨이퍼를 처리함으로써 생산성 측면에서 월등한 배치식 설비에서 원거리 플라즈마(remote plasma) 장치에서 2.450Hz의 마이크로웨이브(${\mu}$-wave)에 의해 형성시킨 수소라디칼과 $NF_3$ 가스를 이용하여 실리콘에 결함을 주지 않고 자연산화막을 선택적으로 제거하는 공정에 대해 고찰하였다. AFM을 이용한 표면분석, TEM을 이용한 물성분석, 그리고 ToF-SIMS 및 XPS를 이용한 화학 분석을 습식 및 건식 세정을 비교 평가한 결과, 건식 세정 공정이 실리콘 표면에 결함을 주지 않고 자연산화막을 제거 할 수 있음을 확인하였다. 산화막$(SiO_2)$, 질화막$(Si_3N_4)$, 그리고 다결정 실리콘(Poly-Si) 등의 각 막질별 식각 특성을 고찰하였으며, $NH_3$의 캐리어 가스인 $N_2$의 주입량을 조절함으로써 수소라디칼 형성 효율의 개선이 가능하였으며, 이로부터 게이트와 소스/드레인 사이를 절연하기 위해 이용되는 질화막의 식각 선택비를 2배 정도 개선할 수 있었다. nano급 소자에 실장하여 평가한 결과에서 불산(HF)에 의한 습식 세정 방식에 비하여 약 $20{\sim}50%$ 정도의 contact 저항 감소 효과가 있음이 확인되었다.두 소자 모두 $40mA/cm^2$ 에서 이상적인 화이트 발란스와 같은(0.33,0.33)의 색좌표를 보였다.epsilon}_0=1345$의 빼어난 압전 및 유전특성과 $330^{\circ}C$의 높은 $T_c$를 보였고 그 조성의 vibration velocity는 약4.5 m/s로 나타났다.한 관심이 높아지고 있다. 그러나 고 자장 영상에서의 rf field 에 의한 SAR 증가는 중요한 제한 요소로 부각되고 있다. 나선주사영상은 SAR 문제가 근원적으로 발생하지 않고, EPI에 비하여 하드웨어 요구 조건이 낮아 고 자장에서의 고속영상방법으로 적합하다. 본 논문에서는 고차 shimming 을 통하여 불균일도를 개선하고, single shot 과 interleaving 을 적용한 multi-shot 나선주사영상 기법으로 $100{\times}100$에서 $256{\times}256$의 고해상도 영상을 얻어 고 자장에서 초고속영상기법으로 다양한 적용 가능성을 보였다. 연구에서 연구된 $[^{18}F]F_2$가스는 친핵성 치환반응으로 방사성동위원소를 도입하기 어려운 다양한 방사성의 약품개발에 유용하게 이용될 수 있을 것이다.었으나 움직임 보정 후 영상을 이용하여 비교한 경우, 결합능 변화가 선조체 영역에서 국한되어 나타나며 그 유의성이 움직임 보정 전에 비하여 낮음을 알 수 있었다. 결론: 뇌활성화 과제 수행시에 동반되는 피험자의 머리 움직임에 의하여 도파민 유리가 과대평가되었으며 이는 이 연구에서 제안한 영상정합을 이용한 움직임 보정기법에 의해서 개선되었다. 답이 없는 문제, 문제 만들기, 일반화가 가능한 문제 등으로 보고, 수학적 창의성 중 특히 확산적 사고에 초점을 맞추어 개방형 문제가 확

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The Influence of Surface-modified ITO by Ion Beam Irradation on the Organic EL Performances (이온빔으로 조사된 ITO 전극 표면이 유기 EL 소자성능에 미치는 영향)

  • Oh, Jae-young;Joo, Jin-soo;Lee, Chun-An;Park, Byung-Gook;Kim, Dong-hwan
    • Korean Journal of Materials Research
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    • v.13 no.3
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    • pp.191-194
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    • 2003
  • The influence of on ion beam irradiation to the indium tin oxide (ITO) substrate on the performance of the organic light-emitting diodes (OLEDs) was studied. ITO films were used as the transparent anode of OLEDs with poly(2-methoxy-5-(2'-ethylhexyloxy)-1,4-phenylenevinylene) (MEH-PPV) as a hole-injection/transport layer. Oxygen and argon plasma treatment of ITO resulted in a change in the work function and the chemical composition. For plasma treated ITO anodes, the device efficiency clearly correlated with the value of the work function. We also discussed the implications of our experimental study in relation to the modification of the ITO surface composition, transmittance, reflectance, and water contact angle (WCA).