Penkov, O.V.;Plaksin, V. Yu.;Joa, S.B.;Kim, J.H.;LEE, H.J.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.02a
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pp.480-480
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2010
In the present work, we studied effect of the deposition parameters on the structure and properties of ZnO films deposited by DC arc plasmatron. The varied parameters were gas flow rates, precursor composition, substrate temperature and post-deposition annealing temperature. Vapor of Zinc acetylacetone was used as source materials, oxygen was used as working gas and argon was used as the cathode protective gas and a transport gas for the vapor. The plasmatron power was varied in the range of 700-1,500 watts. Flow rate of the gases and substrate temperature rate were varied in the wide range to optimize the properties of the deposited coatings. After deposition films were annealed in the hydrogen atmosphere in the wide range of temperatures. Structure of coatings was investigated using XRD and SEM. Chemical composition was analyzed using x-ray photo-electron spectroscopy. Sheet conductivity was measured by 4-point probe method. Optical properties of the transparent ZnO-based coatings were studied by the spectroscopy. It was shown that deposition by a DC Arc plasmatron can be used for low-cost production of zinc oxide films with good optical and electrical properties. Sheet resistance of 4 Ohms cm was achieved after the deposition and 30 min annealing in the hydrogen at $350^{\circ}C$. Elevation of the substrate temperature during the deposition process up to $350^{\circ}C$ leads to decreasing of the film's resistance due to rearrangement of the crystalline structure.
Ionic conduction mechanism of Mg-Al layered double hydroxides (LDHs) intercalated with CO32- (Mg-Al CO32- LDH) was studied. The electromotive force for the water vapor concentration cell using Mg-Al CO32- LDH as electrolyte showed water vapor partial pressure dependence and obeyed the Nernst equation, indicating that the hydroxide ion transport number of Mg-Al CO32- LDH is almost unity. The ionic conductivity of Mg(OH)2, MgCO3 and Al2(CO3)3 was also examined. Only Al2(CO3)3 showed high hydroxide ion conductivity of the order of 10-4 S cm-1 under 80% relative humidity, suggesting that Al2(CO3)3 is an ion conducting material and related to the generation of carrier by interaction with water. To discuss the ionic conduction mechanism, Mg-Al CO32- LDH having deuterium water as interlayer water (Mg-Al CO32- LDH(D2O)) was prepared. After the adsorbed water molecules on the surface of Mg-Al CO32- LDH(D2O) were removed by drying, DC polarization test for dried Mg-Al CO32- LDH(D2O) was examined. The absorbance attributed to O-D-stretching band for Mg-Al CO32- LDH(D2O) powder at around the positively charged electrode is larger than that before polarization, indicating that the interlayer in Mg-Al CO32- LDH is a hydroxide ion conduction channel.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2011.05a
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pp.39.2-39.2
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2011
With the steady increase in the demand for flexible devices, mainly in display panels, researchers have focused on finding a novel material that have excellent electrical properties even when it is bended or stretched, along with superior mechanical and thermal properties. Graphene, a single-layered two-dimensional carbon lattice, has recently attracted tremendous research interest in this respect. However, the limitations in the growing method of graphene, mainly chemical vapor deposition on transition metal catalysts, has posed severe problems in terms of device integration, due to the laborious transfer process that may damage and contaminate the graphene layer. In addition, to lower the overall cost, a fabrication technique that supports low temperature and low vacuum is required, which is the main reason why solution-based process for graphene layer deposition has become the hot issue. Nonetheless, a direct deposition method of large area, few-layered, and uniform graphene layers has not been reported yet, along with a convenient method of patterning them. Here, we report an evaporation-induced technique for directly depositing few layers of graphene nanosheets with excellent uniformity and thickness controllability on any substrate. The printed graphene nanosheets can be patterned into desired shapes and structures, which can be directly applicable as flexible and transparent electrode. To illustrate such potential, the transport properties and resistivity of the deposited graphene layers have been investigated according to their thickness. The induced internal flow of the graphene solution during tis evaporation allows uniform deposition with which its thickness, and thus resistivity can be tuned by controlling the composition ratio of the solute and solvent.
Production of $MgB_2$ film on metallic Hastelloy with SiC as the buffer layer was achieved by means of hybrid physical-chemical vapor deposition technique, whereas SiC buffer layers with varied thickness of 170 and 250 nm were fabricated inside a pulsed laser deposition chamber. Superconducting transition temperature and critical current density were verified by transport and magnetic measurement, respectively. With SiC buffer layer, the reduced delaminated area at the interface of $MgB_2$-Hastelloy and the slightly increased $T_c$ of $MgB_2$ tapes were clearly noticed. It was found that the upper critical field, the irreversibility field and the critical current density were reduced when $MgB_2$ tapes were buffered with SiC buffer layer. Clarifying the mechanism of SiC buffer layer in $MgB_2$ tape in affecting the superconducting properties is considerably important for practical applications.
Plasma polymerized para-xylene (PPpX) thin films deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) were used to passivate the organic light emitting diodes (OLEDs). For OLEDs, indium tin oxide (ITO), N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-1,1'-diphenyl-4,4'-diamine (TPD), tris(8-hydroxyquinoline) aluminum $(Alq_{3})$ and aluminum (Al) were used as the anode, the hole transport layer (HTL), the emitting layer (EML) and the cathode, respectively. The OLED device with the PPpX passivation film (passivated device) showed similar electrical and optical characteristics to those of the OLED device without the PPpX passivation film (control device), indicating that the PECVD process did not degrade the performance of the OLEDs notably. The lifetime of the passivated device was two times longer than that of the control device. Passivation of OLEDs with PPpX films also suppressed the growth of dark spots. The density and size of dark spots of the passivated device were much smaller than those of the control device.
Choi, Won June;Park, Chun Woong;Kim, Young Do;Byun, Jong Min
Journal of Powder Materials
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v.25
no.5
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pp.402-407
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2018
Molybdenum silicide has gained interest for high temperature structural applications. However, poor fracture toughness at room temperatures and low creep resistance at elevated temperatures have hindered its practical applications. This study uses a novel powder metallurgical approach applied to uniformly mixed molybdenum silicide-based composites with silicon carbide. The degree of powder mixing with different ball milling time is also demonstrated by Voronoi diagrams. Core-shell composite powder with Mo nanoparticles as the shell and ${\beta}-SiC$ as the core is prepared via chemical vapor transport. Using this prepared core-shell composite powder, the molybdenum silicide-based composites with uniformly dispersed ${\beta}-SiC$ are fabricated using pressureless sintering. The relative density of the specimens sintered at $1500^{\circ}C$ for 10 h is 97.1%, which is similar to pressure sintering owing to improved sinterability using Mo nanoparticles.
Park, Chang-Won;Lee, Yeong-Jung;Kim, Dae-Geon;Kim, Yeong-Do
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2009.05a
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pp.53.2-53.2
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2009
몰리브덴(Mo)은 우수한 전기전도도와 고온 안정성으로 인해 전자부품의 전극으로 널리 사용되고, 미래 에너지인 태양전지 분야에서 CIS계 화합물박막태양전지의 후면전극으로 이용되고 있는 재료로서 현재 증착 방법으로는 D.C. sputtering이 가장 널리 이용되고 있다. 또한 $MoO_3$ 분말이 Mo 분말로 수소 환원되는 과정은 $MoO_3+H_2{\rightarrow}MoO_2+H_2O$ 와 $MoO_2+2H_2{\rightarrow}Mo+2H_2O$의 2단계를 통해서 수행되며 이중 첫 번째 단계에서 $MoO_3(OH)_2$라는 기상을 통해 지배적으로 일어난다고 알려져 있고 이를 화학증기수송(Chemical vapor transport : CVT)이라고 한다. 본 연구에서는 $MoO_3$분말의 수소 환원 과정 중에 발생하는 기상인 $MoO_3(OH)_2$을 이용하여 몰리브덴 옥사이드 박막을 증착하고 이를 다시 수소분위기에서 수소 환원하는 증착 방법을 통해 균일하고 부착성이 우수한 Mo 박막을 제조하고자 하였다. 기판으로 사용된 Glass를 $MoO_3$ 분말 위에 홀더를 이용하여 $MoO_2$ 박막을 증착하고 이를 다시 수소분위기에서의 수소 환원을 통해 Mo 박막을 성공적으로 제조하였다. 제조된 Mo박막의 결정구조 및 미세조직을 XRD 와 SEM을 통해 분석하였다.
We have developed a new way of the constant growth technique to maintain a grating height of originally-etched V-groove of submicron gratings up to 1.5 $\mu\textrm{m}$ thickness by a low pressure metalorganic chemical vapor deposition. The constant growth technique is well performed on two kinds of submicron gratings that made by holography and electron (e)-beam lithography GaAs buffer layer grown on thermally deformed submicron gratings has an important role in recovering the deformed grating profile from sinusoidal to V-shaped by reducing mass transport effects. The thermal deformation effect on submicron gratings made by e-beam lithography is less than that on submicron gratings made by holography. The constant growth technique is an important step to realize complex optoelectronic devices such as one-step grown distributed feedback lasers and two-dimensional photonic crystals.
Roh, Jong Wook;Jang, So Young;Kang, Joohoon;Lee, Seunghyun;Noh, Jin-Seo;Park, Jeunghee;Lee, Wooyoung
Korean Journal of Metals and Materials
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v.48
no.2
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pp.175-179
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2010
We investigated the thermal conductivity of individual single-crystalline PbTe nanowires grown by chemical vapor transport method. Suspended MEMS was utilized to precisely measure the thermal conductivity of an individual nanowire. The thermal conductivity of a PbTe nanowire with diameter of 292 nm was measured to be $1.8W/m{\cdot}K$ at 300 K, which is about two thirds of that of bulk PbTe. This result indicates that the thermal conduction through a PbTe nanowire is effectively suppressed by the enhanced phonon boundary scattering. As the diameter of a PbTe nanowire decreases, the corresponding thermal conductivity linearly decreases.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.33
no.4
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pp.145-152
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2023
The average Nusselt numbers in the source and crystal region for the variation of thermal Grashof number (Grt) in the range of 2.31 × 104 ≤ Grt ≤ 4.68 × 104 are obtained through numerical simulations. It is shown the average Nusselt number in the crystal region is more than twice as large as the average Nusselt number in the source region. The average Nusselt number in the source region shows an increasing tendency with increasing the thermal Grashof number, Grt, while the average Nusselt number in the crystal region shows a decreasing tendency with increasing thermal Grashof number, Grt. For the variation of the solutal Grashof number (Grs) in the ran ge of 3.28 × 105 ≤ Grs ≤ 4.43 × 105, the average Sherwood number in the source region and crystal region tends to decrease as the solutal Grashof number, Grs increases. The average Sherwood number in the crystal region is about four times greater than the average Sherwood number in the source region.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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