• 대한화학회지
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• 제55권1호
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• pp.50-56
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• 2011

(2, 4-difluoro-phenyl)-(2-phenyl-1H-quinolin-4-ylidene)-amine의 전기화학적 환원에 대하여 실온에서 순환전압전류 기술을 사용한 유리탄소전극(GCE)에서 N,N-dimethylformamide 하에서 0.1 M tetrabutylammoniumbromide로 조사하였다. 이민의 환원은 각각 한 전자를 포함하면서 2단계의 성공적인 단계로 일어난다. 이 매개물에서 처음 피크는 유리탄소전극 표면에서 약 -0.793 V(vs Ag/$Ag^+$)로 관측되었다. 그리고 그것은 더욱 안정하고 2번째 피크와 비교하여 명확하게 설명된다. 연구된 용매 매개물에서 이민의 확산계수($D_0$)는 수정된 Randles-Sevcik 식을 이용해 계산되었다. 반응 종들의 전자 이동 계수($\alpha$) 또한 계산되었다.

• 대한화학회지
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• 제38권2호
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• pp.160-168
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• 1994

다섯자리 Schiff base의 molybdenum(Ⅴ)착물로써 [Mo(Ⅴ)O(Sal-DET)(NCS)] 와 [Mo(Ⅴ)O(Sal-DPT)(NCS)]들을 Sabat법에 의해 합성하였다. 이들 착물들의 원소분석, IR-spectrum, UV-Vis spectroscopy 및 Thermogravimetric analysis(T.G.A.)곡선으로부터 리간드 대 금속의 몰비가 1:1착물임을 확인하였다. 0.1M tetraethyl ammonium perchlorate(TEAP)지지전해질을 포함한 비수용매에서 순환 전압-전류법과 시차펄스 폴라그래피에 의한 전기화학적 측정으로부터 이들 착물들은 dimer로 형성된 후, 일전자 전이의 확전자 전이의 확산지배적인 환원과정이 다음과 같이 네단계로 진행됨을 알았다. 2Mo(Ⅴ)$\rightleftarrow^{e-}$ Mo(Ⅴ)Mo(Ⅳ) $\longrightarrow^{e-}$ 2Mo(Ⅳ), Mo(Ⅳ)$\longrightarrow^{e-}$ Mo(Ⅲ) $\longrightarrow^{e-}$ Mo(Ⅱ)

• Applied Biological Chemistry
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• 제36권5호
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• pp.364-369
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• 1993

널리 이용되는 검량방법중의 하나인 NBT 환원방법은 계면활성제인 Triton X-100의 존재하에서 그 측정감도가 크게 증폭된다. 본 연구는 이러한 Triton X-100 효과의 물리화학적 본질을 이해하기 위하여 수행하였으며, 이를 위하여 이 계면활성제가 NBT의 환원생성물인 불용성 formazan 콜로이드를 안정화시키는 효과와 수용액 중에서 동시에 진행되는 두 반응 $(NBT-O^-_{\.{^.2}}$ 산화환원 반응과 $O^-_{\.{^.2}}$의 disproportionation반응) 간의 경쟁관계에 미치는 속도론적 영향에 촛점을 맞추었다. Triton X-100 유무 조건하에서 $KO_2-DMSO$ 용액과 $K-PO_4$ 완충용액에 녹인 여러가지 농도의 NBT 용액을 빠르게 혼합하고, 이때 생성된 formazan과 $H_2O_2$를 각각 정량한 결과, 이 계면활성제는 formazan 콜로이드를 안정화 시킴으로써 결과적으로 formazan의 흡수도를 상승시키는 효과를 보일뿐만 아니라 $O^-_{\.{^.2}}$의 자발적인 dismutation을 억제하는 결과를 초래함을 확인하였다. 또한 종합적인 Triton X-100의 효과에 대한 콜로이드 안정화 효과와 속도론적 효과의 상대적 기여도는 실험조건에 따라 바뀌는데 특히 반응계의 $NBT/O^-_{\.{^.2}}$ 농도비율에 크게 좌우되는 것으로 밝혀졌다.

• Korean Chemical Engineering Research
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• 제43권1호
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• pp.27-32
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• 2005

본 연구에서는 다양한 공용매로 변형된 초임계 이산화탄소를 이용하여 웨이퍼 표면에 존재하는 이온주입 포토레지스트(IIP, ion-implanted photoresist) 및 잔류 불순물의 제거 공정을 97, 148, $200^{\circ}C$의 온도와 200, 300, 400 bar의 압력조건에서 수행하였다. 이온주입 포토레지스트는 순수 초임계 이산화탄소에 의해 제거되지 않았으나 팽윤(swelling)되는 것을 확인할 수 있었다. 또한, 단일 공용매 및 비양성자성 용매들의 혼합 공용매로 변형된 초임계 이산화탄소 시스템은 이온주입 포토레지스트를 팽윤시키나, 제거에 효과적이지 못하였다. 그러나 DMSO에 DIW가 혼합된 혼합 공용매(5%, v/v)로 변형된 초임계 이산화탄소 시스템은 $97^{\circ}C$, 200 bar의 온도, 압력 조건에서 30분 동안 세정 실험을 수행한 결과 이온 주입 포토레지스트의 제거에 효과적이었다(약 80%). 본 연구에서 사용된 혼합 공용매로 변형된 초임계 이산화탄소 시스템은 플라즈마 애싱(ashing) 및 산과 용매가 기본이 되는 습식 세정 방법의 대안으로서 화학액의 사용과 폐수를 감소시킬 수 있다.

• 대한화학회지
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• 제34권6호
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• pp.569-581
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• 1990

DMF 용매에서 산소 첨가된 네자리 Schiff base cobalt(III)의 균일 촉매에 의하여 2,6-di-tert-butylphenol의 산화 주생성물인 2,6-ditert-butylbenzoquinone (BQ)일 때에는 O$_2$/Co몰 결합비가 1:1인 superoxo cobalt(III) 착물 곧 [Co(III)(Schiff base)(L)]$O_2$ (Schiff base; SED, SOPD and o-BSDT, L; DMF and Py)들의 활성촉매에 의하여 생긴다. 또, 산화생성물인 3,3',5,5'-tetra-tert-butyldiphenoquinone (DPQ)은 $O_2$/Co의 몰비가 1:2인 $\mu$-peroxo cobalt(III) 착물인 [Co(III)(SND)(L)]$_2$O$_2$ (L; DMF 및 Py)의 활성촉매에 의하여 생성된다. 이들 균일 활성촉매인 superoxo 및 $\mu$-peroxo cobalt(III) 착물들의 확인은 DMF나 DMSO 용매에서는 어렵다. 그러나 pyridine 용매에서는 산소흡착에 의한 PVT 법과 0.1 M TEAP의 지지전해질과 유리질 탄소전극을 사용한 순환 전압전류법으로 1:1 oxygen adduct인 superoxo 착물들은 $O_2$-의 prewave가 없는 3단계 환원과정으로만 일어나는 것으로 확인할 수 있었다.