• Applied Science and Convergence Technology
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• 제25권4호
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• pp.73-76
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• 2016

Multi-layer films of $SiN_x/SiO_x$/InSnO with anti-reflective effect were grown by new-concept plasma enhanced chemical vapor deposition system (PECVD) with hybrid plasma source (HPS). Anti-reflective effect of $SiN_x/SiO_x$/InSnO was investigated as a function of ratio of $SiN_x$ and $SiO_x$ thickness. Multi-layers deposited by PECVD with HPS represents the enhancement of anti-reflective effect with high transmittance, comparing to the layers by conventional radio frequency (RF) sputtering system. This change is strongly related to the optical and physical properties of each layer, such as refractive index, composition, film density, and surface roughness depending on the deposition system.

• 한국진공학회지
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• 제17권2호
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• pp.138-147
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• 2008

RF 스퍼터링 시스템을 이용하여 $SiO_2/TiO_2/ZrO_2$ 광대역 반사방지막을 단계별로 제작하였고, 분광타원계와 $UV-V_{is}$ 분광광도계를 이용하여 박막의 두께, 굴절률 및 투과율 스펙트럼을 300$\sim$900nm의 파장 영역에 걸쳐 측정 및 분석하였다. 측정 및 분석된 박막의 두께, 굴절률 및 투과율 스펙트럼을 설계값과 비교 평가한 결과 각층의 두께, 굴절률의 차이에 따른 투과율의 변화를 분석할 수 있었고, 박막의 두께보다는 굴절률과 굴절률의 분산형태가 투과율의 변화에 더 크게 기여함을 알 수 있었다.

• 한국안광학회지
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• 제1권1호
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• pp.93-102
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• 1996

렌즈의 광학계의 분광투과률을 높이기 위한 방법으로 무반사막의 다층화에 의한 광대역화와 낮은 반사률이 중요하다. 그러나 잔류반사광이 발생하여 반사색광이 미약하게 나타난다. 이런 반사색광은 두께, 굴절율, 층수, 입사광의 파장, 기판물질 등의 구조에 의한 반사광의 파장 영역을 제어할 수 있다. l층, 2층 구조에서 ${\lambda}s/{\lambda}$=1.0인 조건하에서 무반사시키면, 다른 영역에서 나온 반사광들이 색혼합된 반사색광을 얻을 수 있고, 3층 구조에서 ${\lambda}0/{\lambda}$가 $PI{\ll}1$, $P2{\gg}1$ 에서 무반사시키면 P1< ${\lambda}0/{\lambda}$

• 대한기계학회:학술대회논문집
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• 대한기계학회 2008년도 추계학술대회A
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• pp.1825-1828
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• 2008

A simple method for the fabrication of porous nano-master for antireflective surface is presented. In conventional fabrication methods for antireflective surface, coating method with low refractive index has usually been used. However, it is required to have high cost and long times for mass production. In this paper, we suggested the fabrication method of antireflective surface by the hot embossing process using the porous nano patterned master on silicon wafer fabricated by low-temperature anodic aluminum oxidation. Through multi-AAO and etching processes, nano patterned master with high aspect ratio was fabricated at the large area. Pore diameter and inter-pore distance are about 150nm and from 150 to 200nm. In order to replicate anti-reflective structure, hot embossing process was performed by varying the processing parameters such as temperature, pressure and embossing time etc. Finally, antireflective surface can be successfully obtained after etching process to remove selectively silicon layer of AAO master.