셀룰러 이동통신 시스템의 용량과 커버리지를 향상시키기 위한 많은 연구 결과들이 시스템에 적용되었지만, 셀 경계에서의 심각한 성능 열화는 여전히 단말 전송률의 더 나은 향상을 가로막는 주요한 요인으로 남아있다. 3GPP (Third Generation Partnership Project)의 LTE-A (Long Term Evolution-Advanced) 표준에서는 협력적 전송 (CoMP, coordinated-multipoint transmission reception)과 ICIC (inter-cell interference coordination)와 같은 진보된 기술들이 셀 경계 성능 열화 문제를 해결하기 위해 소개되었다. 본 논문에서는 다수개의 빔 방향 패턴 (BDP, beam direction pattern)을 활용하여 셀 경계 단말들의 성능을 향상시킬 수 있는 방안을 제안한다. 다수개의 빔 방향 패턴은 기지국에 설치된 복수 계층 안테나 어레이를 사용해 구현될 수 있다. 고정된 빔 패턴을 갖는 기존의 3섹터 안테나와 비교해서, 제안하는 방식은 다수개의 BDP들이 시간상에서 회전하면서 신호를 전송하게 된다. 이를 통해 셀 또는 섹터 경계에 위치하는 특정 단말들이 기지국으로부터 전체 전송 시간에 걸쳐 나쁜 성능의 신호를 수신하게 되는 상황을 억제함으로써, 해당 단말들의 수신 신호 품질을 향상시킬 수 있다. 성능 평가 결과는 제안하는 방식이 기존 3섹터 전송 방식에 비해 평균 단말 전송률 측면에서 하위 5% 단말에서 약 171% 향상된 성능을 나타냄을 보여준다.
본 논문에서 는 DS-CDMA(direct sequence code division multiple access) 통신시스템에서 다중안테나를 이용한 송신 빔 형성이 하향 링크의 성능에 미치는 영향을 빔 패턴을 통하여 연구하고자 한다. FDD(frequency division duplex) 시스템에서 상향 링크와 하향 링크는 반송파 주파수를 다르게 사용한다. 하향 링크가 상향 링크와 일치하는 빔 형성 가중치들을 사용한다면, 하향 링크의 안테나 빔은 다소의 DOA(direction of arrival)차이 때문에 빔형성 이득에 있어서 영향을 받게 된다. 따라서 서로 다른 반송파 주파수가 하향 링크의 빔 형성 성능에 미치는 영향을 분석한다. 주파수 조정 처리 방법은 상향 링크의 빔형성 가중치로부터 하향 링크의 가중치로 변환을 가능하게 한다. 이 방법을 이용하여 상향 링크와 하향 링크의 주파수 차이에 의한 하향 링크의 성능 저하를 감소시킬 수 있다. 주파수 선택적 채널에서 상향 링크는 경로마다 하나의 가중치를 이용하여 PPPW(per path per weight) 빔형성을 만들고, 반면에 하향 링크는 사용자당 가중치를 한 개만 사용하는 PUPW(per user per weight) 벡터를 이용한다. 상향 링크 PPPW 가중치들로부터 하향 링크 PUPW를 위한 하나의 빔 패턴을 형성하기 위해서 세 가지 방법을 고려한다. 첫째는 신호의 세기가 가장 큰 경로만을 이용한다. 둘째는 모든 경로들에게 각각의 크기에 비례하는 가중치를 할당하여 다중 빔들을 결합하여 하나의 빔을 형성한다. 셋째는 모든 경로들에게 같은 크기의 가중치를 할당하여 다중 빔들을 결합한다.
본 논문에서는 일차원 배열과 이차원 배열일 때 프린티드 다이폴의 스캔 블라인드니스 특성을 분석한다. 먼저 시뮬레이션을 이용하여 일차원과 이차원 배열일 때 프린티드 다이폴안테나의 능동소자패턴을 구한다. 이차원 배열에서는 E-면 방향으로 스캔 블라인드니스가 ${\pm}36^{\circ}$ 부근에서 발생하였으나, 일차원 배열에서는 스캔 블라인드현상이 거의 관측되지 않았다. 이차원 스캔 블라인드니스 원인을 분석하기 위해 먼저 이차원 배열의 단위 셀 분산 특성을 구하고, 주파수에 따른 스캔 블라인드니스와 비교한다. 그리고 일차원 배열과 이차원 배열에서의 단위 셀에서 Q 값을 비교함으로써 일차원과 이차원 배열에서 스캔 블라인드현상 차이를 설명한다. 선형으로 배열된 다이폴 구조에서 두 포트 사이에 아홉 개의 소자가 떨어져 있을 때 E-면 방향으로 전기장의 커플링을 시뮬레이션을 통하여 관측함으로써 이론의 타당성을 보인다. 마지막으로 프린티드 다이폴 배열을 제작하고, $11{\times}1$ 부배열과 $11{\times}3$ 부배열에 대해 능동소자패턴을 각각 측정하여, 시뮬레이션 결과와 비교함으로 이론을 검증한다.
GNSS 신호는 구조가 개방되어 있을 뿐만 아니라 수신 신호 세기가 미약하여 전파교란에 취약하다. 이에 따라 전파교란에 대한 영향 분석 및 대응 기법에 대한 연구의 필요성이 증대되고 있다. 본 논문에서는 실제 전파교란 환경과 유사한 환경에서의 전파교란 영향 분석을 위하여 6가지 전술 환경에 대한 전파 전파 모델과 이동체의 수신환경을 고려한 동체 차단 모델을 설계 하였다. 전파전파 모델은 도심지역, 농촌지역, 수풀지역, 해안지역, 황무지, 눈/얼음 지역에 대해서 Two-ray 모델을 이용하여 설계 하였다. 동체 차단 모델은 안테나가 이동체에 의하여 받는 영향과 사용자가 직접 입력한 안테나 패턴을 이용하여 모델링하였다. 전파교란이 없는 정상 환경과 전파교란 환경에 대하여 이동체의 수신환경을 고려한 GNSS 신호 생성기의 출력은 상용수신기(NordNav)를 이용하여 검증 하였다. 정상 환경에서는 사용자의 항법 성능이 상용 H/W 신호 생성 시뮬레이터(STR4500)과 유사한 것을 확인하였다. 전파교란 환경에서는 이동체 위치에 따른 동체 차단 효과 및 전파교란 신호에 의한 GNSS 신호 획득 및 추적 손실이 정확히 반영됨을 확인 하였다.
제조 산업현장에서 RFID 시스템은 제조 물품의 데이터를 수집, 분류 그리고 처리를 위하여 사용되어진다. 큰 공장에서 RFID시스템을 설치하려면 RS232통신을 위한 많은 양의 유선 데이터 통신망이 필요하다. 만약 공장에서 RFID 시스템의 설치장소가 변경이 되거나 혹은 증설되는 경우 이미 설치된 유선 데이터 망은 다시 재 설치되어야 한다. 이러한 재설치를 위해서 많은 시간적 그리고 금전적인 재투자가 필요하다. 그러나 무선 데이터 통신망을 이용하면 초기 설치 혹은 재설치가 매우 간단하다. 본 논문에서는 무선통신시스템과 RFID 시스템을 구현하였다. 무선통신시스템을 위해서 CC1020칩을 사용하였고 RFID 시스템을 위해서 EM4095칩을 사용하였다. CC1020칩은 고 신뢰 데이터 통신이 가능하며 간단한 상태 레지스터를 설정함으로서 송신과 수신 상태전환 그리고 400 MHz 혹은 900 MHz의 원하는 주파수를 선택할 수 있다. 또한 통신거리는 외장안테나를 사용하면 약 50m이다. RFID 시스템을 위한 EM4095는 125 KHz 반송주파수를 사용하며 적은 수의 부품을 연결함으로써 리더 시스템을 구현할 수 있다. 그리고 Tag은 읽기 전용인 EM4100을 사용되어졌다. 무선통신 시스템과 RFID 시스템을 제어하기 위해 Atmega128을 사용되어졌다. 구현된 시스템으로 Tag의 데이터가 50 m 거리에서는 에러 없이 통신이 되는 것을 확인하였다. 논문에서 CC1020을 위한 회로도와 동작 프로그램, 그리고 RFID 시스템의 회로도와 동작 프로그램을 보였다. 그리고 실험에 사용된 시스템을 사진으로 보이고, CC1020의 데이터 동작 파형을 그림으로 보였으며. 각 전송방법에 대한 성능을 보였다.
ITU-R은 긴급사안으로 결의 122를 통하여 47.2-47.5 GHz 및 47.9-48.2 GHz 대역에서 HAPS지구국이 우주국 수신기와의 공유를 원할하게 하기 위해서 적용 가능한 전력 제한치를 연구할 것을 요청하였다. 하지만 현재까지 이것과 관련된 연구는 진행되지 않은 상태이다. 이미 개발된 권고서 ITU-R SF.1481-1를 통하여 HAPS를 이용한 FS 시스템과 FSS 시스템간의 공유 가능성을 분석하기 위한 방법과 시스템 특성 파라미터가 제시되었으며, 위 주파수 대역에서 일반적인 HAPS에 대한 시스템 특성에 관하여 권고서 ITU-R F.1500에 도한 제시되었다. 본 논문에서는 결의 122에 따라서 HAPS 지상국에 적용 가능한 전력 제한치에 대한 결과를 제시한다. 이미 권고서 ITU-R SF.1481-1에 언급되었듯이 HAPS 지상국과 FSS 위성시스템간의 공유를 위해서는 충분한 이격거리가 필요하다. FSS 위성수신기로의 이러한 간섭레벨을 줄이기 위해서 HAPS 지상국의 전력 감소와 낮은 부엽레벨을 갖는 안테나 빔패턴의 적용을 고려하여 분석된 공유조건 결과들의 예들을 제시한다.
Present silicon dioxide (SiOz) 떠m as intennetal dielectridIMD) layers will result in high parasitic c capacitance and crosstalk interference in 비gh density devices. Low dielectric materials such as f f1uorina뼈 silicon oxide(SiOF) and f1uoropolymer IMD layers have been tried to s이ve this problem. I In the SiOF ftlm, as fluorine concentration increases the dielectric constant of t뼈 film decreases but i it becomes unstable and wa않r absorptivity increases. The dielectric constant above 3.0 is obtain어 i in these ftlms. Fluoropolymers such as polyte$\sigma$따luoroethylene(PTFE) are known as low dielectric c constant (>2.0) materials. However, their $\alpha$)Or thermal stability and low adhesive fa$\pi$e have h hindered 야1리ru뚱 as IMD ma따"ials. 1 The concept of a plasma processing a찌Jaratus with 비gh density plasma at low pressure has r received much attention for deposition because films made in these plasma reactors have many a advantages such as go여 film quality and gap filling profile. High ion flux with low ion energy in m the high density plasma make the low contamination and go어 $\sigma$'Oss피lked ftlm. Especially the h helicon plasma reactor have attractive features for ftlm deposition 야~au똥 of i앙 high density plasma p production compared with other conventional type plasma soun:es. I In this pa야Jr, we present the results on the low dielectric constant fluorocarbonated-SiOF film d밑JOsited on p-Si(loo) 5 inch silicon substrates with 00% of 0dFTES gas mixture and 20% of Ar g gas in a helicon plasma reactor. High density 띠asma is generated in the conventional helicon p plasma soun:e with Nagoya type ill antenna, 5-15 MHz and 1 kW RF power, 700 Gauss of m magnetic field, and 1.5 mTorr of pressure. The electron density and temperature of the 0dFTES d discharge are measUI벼 by Langmuir probe. The relative density of radicals are measured by optic허 e emission spe따'Oscopy(OES). Chemical bonding structure 3I피 atomic concentration 따'C characterized u using fourier transform infrared(FTIR) s야3띠"Oscopy and X -ray photonelectron spl:’따'Oscopy (XPS). D Dielectric constant is measured using a metal insulator semiconductor (MIS;AVO.4 $\mu$ m thick f fIlmlp-SD s$\sigma$ucture. A chemical stoichiome$\sigma$y of 야Ie fluorocarbina$textsc{k}$영-SiOF film 따~si야영 at room temperature, which t the flow rate of Oz and FTES gas is Isccm and 6sccm, res야~tvely, is form려 야Ie SiouFo.36Co.14. A d dielec$\sigma$ic constant of this fIlm is 2.8, but the s$\alpha$'!Cimen at annealed 5OOt: is obtain려 3.24, and the s stepcoverage in the 0.4 $\mu$ m and 0.5 $\mu$ m pattern 킹'C above 92% and 91% without void, res야~tively. res야~tively.
항공기 능동 위상 배열(AESA) 레이더에 적용할 수 있는 레이더 안테나 부배열 채널 구성 및 보정에 대한 내용을 기술하였다. 설계된 부배열 채널 구조의 성능시험을 위하여 디지털 빔 형성이 가능한 12개 부배열 채널을 갖는 AESA 레이더 시연기(demonstrator)를 설계하고 제작하였다. 제작한 부배열 채널에서는 채널 간 크기 및 위상 오차가 필수적으로 발생하게 된다. 본 논문에서는 부배열 채널 간 발생하는 오차를 보정하는 방법을 제안하였다. 오차 보정후 채널의 신호 레벨과 모노펄스 기울기를 측정하여 보정된 효과를 확인하였다. 채널 보정 후 부배열 채널로 형성된 디지털 모노펄스 채널을 검증하기 위하여 별도로 구성된 아날로그 모노펄스 채널과 성능을 비교하였다. AESA 레이더 시연기의 성능 확인을 위하여 지상에서 원전계(far field) 시험을 수행하였다. 표적 모의 장치를 이용하여 단일 표적을 생성하고, 동일한 파형 및 탐색 조건하에서 탐지 및 추적시험을 수행하였다. 설계된 12개 부배열 채널 신호로 구성한 디지털 모노펄스 채널의 표적 탐지 추적 성능이 기존 아날로그 모노펄스 채널의 성능과 유사함을 확인하였다. 또한, 부엽으로 입사하는 재머 신호에 대하여 부배열 채널에서 적응 빔 형성(adaptive beam-forming) 기능이 효과적으로 동작함을 확인하였다.
본 시험은 뽕나무애바구미의 외부형태, 생활사 및 약제방제법을 구명하기 위하여 실시하였다. 그 결과는 다음과 같다. 1. 성충은 칠흑색, 장정원형이고 주둥이는 길다. 암컷의 체장은 3.30$\pm$0.04mm, 폭 1.47$\pm$0.04mm, 주둥이 길이는 1.25$\pm$0.014mm이고 숫컷의 체장은 3.28% 0.06mm, 체폭 1.40$\pm$0.04mm, 주둥이 길이는 1.30$\pm$0.02mm이었다. 더듬이는 12절의 슬상이다. 숫컷의 복부는 끝이 뽀족하게 튀어 나왔고 암컷은 거의 일직선이다. 2. 난은 유백색의 장타원형이고 길이 0.51$\pm$0.05mm, 폭 0.32$\pm$0.02mm이었다. 3. 유충은 유백색, 원통형이며 두부는 농갈색이다. 다리는 없고 체장 3.88$\pm$0.06mm, 체폭 1.40$\pm$0.02mm이고 각절에는 많은 주름과 잔털이 있다. 4. 용은 장타원형 유백색이며 나용이다. 체장은 3.53$\pm$0.09mm. 체폭 1.40$\pm$0.03mm이었다. 5. 대부분 1년1세대이고 벌채후 남는 가지속에서 성충으로 월동하며 이듬해 4월하순에서 5월초순에 탈출한다. 그러나 일부 암컷은 당년에 탈출산난하며 유충(0.4%)이나 용(0.1%)으로 월동한다. 6. 난은 대부분 벌채후 남은 가지의 전피층에 산난하고 암컷의 평균 산난수는 73.44$\pm$8.74개이고 평균 산난일수는 33.88$\pm$6.04일이었다. 난기간은 11.69$\pm$0.39일, 유충기간은 45.04$\pm$1.63일, 용기간은 11.05$\pm$0.49일이었다. 성충의 잠복기는 약 270일이고 활동기간은 46.7$\pm$5.9일이었다. 7. 유충은 가지의 형성층을 먹고 성충은 동아, 잠복아, 엽병, 신초의 기부를 가해한다. 8. 성충의 발생소장은 춘벌유전에서는 5월초순에, 하벌유전에서는 6일 중순에 두면 peak를 나타냈다. 9. 유충밀도와 가지의 지름과 길이와는 정(+)의 상관을 이루었다. 10. 뽕나무애바구미의 가지당 성충의 분포는 부(-)의 이항분포를 이루였다. 11. 조사된 천적은 유충외부에 기생하는 좀벌이 발견되었고 이 좀벌의 기생률은 11.9%이었다. 12. Phosvel분제, Halir분제, Salithion유제, DDVP유제, Cidial 유제의 성충에 대한 방제효과가 우수하였고 핵충에 대해서는 Satchukoto-S유제, Salithion유제가 비교적 우수한 편이였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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