• 제목/요약/키워드: andonic oxide film

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전해 콘텐사용 알루미늄박의 애칭특성에 미치는 황산첨가의 영향 II. 유전층의 조직 및 임피던스 분석 (Effects of Addition of Sulfuric Acid on the Etching Behavior of Al foil for Electrolytic Capacitors II. Microstructures of Dielectric Layers and AC Impedance Analysis)

  • 김성갑;유인종;신동철;오한준;지충수
    • 한국재료학회지
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    • 제10권5호
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    • pp.375-381
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    • 2000
  • 전해콘텐서용 알루미늄박을 ammonium adipate 용액을 이용하여 $65^{\circ}C$에서 10분간 100V 및 140V로 각각 양극 산화시켜 산화 알루미늄 유전체를 만들었다. 유전층의 두께, 화학양론적 관계, 결정구조 등을 RBS 및 TEM을 이용하여 분석하였고, 알루미늄박의 에칭시 황산 첨가로 인한 표면적의 변화는 임피던스 분석법으로 조사 하였다. 생성된 유전피막은 100V 및 140V의 전압을 사용했을 경우 각각 약 130nm 및 190nm 두께의 비정질로 나타났으며 피막의 알루미늄과 산소원소의 화학양자론적 비는 약 2:3의 비율로 존재했다. 또한 유전피막은 전자빔은 조사에 의해 쉽게 $${\gamma}$-Al_2$$O_3$ 형태의 결정질로 변태 되었다. 염산 에칭욕에 황산 첨가시 나타나는 알루미늄박의 표면변화는 임피던스 분석결과와 정전 용략의 변화가 일치하는 경향을 나타냈다.

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