• 한국재료학회지
• /
• 제14권7호
• /
• pp.477-481
• /
• 2004

High quality polycrystalline silicon is very critical part of the high quality thin film transistor(TFT) for display devices. Metal induced lateral crystallization(MILC) is one of the most successful technologies to crystallize the amorphous silicon at low temperature(below $550^{\circ}C$) and uses conventional and large glass substrate. In this study, we observed that the MILC behavior changed with abrupt variation of the amorphous silicon active pattern width. We explained these phenomena with the novel MILC mechanism model. The 10 nm thick Ni layers were deposited on the glass substrate having various amorphous silicon patterns. Then, we annealed the sample at $550^{\circ}C$ with rapid thermal annealing(RTA) apparatus and measured the crystallized length by optical microscope. When MILC progress from narrow-width-area(the width was $w_2$) to wide-width-area(the width was $w_1$), the MILC rate decreased dramatically and was not changed for several hours(incubation time). Also the incubation time increased as the ratio, $w_1/w_2$, get larger. We can explain these phenomena with the tensile stress that was caused by volume shrinkage due to the phase transformation from amorphous silicon to crystalline silicon.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
• /
• 한국전기전자재료학회 1993년도 춘계학술대회 논문집
• /
• pp.96-99
• /
• 1993

대면적 액정 표시판 (Liquid Crystal Display:LCD) panel내(內)의 구동소자인 비정질 실리콘 (amorphous silicon) 박막 트랜지스터 (Thin Film Transistor:TFT)의 구동신호전달 소자특성 향상을 위한 본(本) 연구의 목적은 액정 panel TFT 제조공정 상(上)의 증착금속 전극박막들의 Test Elements Group(TEG) metal line pattern별(別) 전기적 저항특성 평가에 있다. 현(現) TFT 전극용(用)으로 개발이 진행 중(中)인 Aluminum(Al), Tantalum(Ta) 및 Chromium(Cr) 이 특성평가 대상 금속 박막으로 선정 되었으며, 이들 금속막의 증착 thickness 와 TEG metal line width가 저항특성 변수로 성립 되었다. 본(本) 실험을 통해 금속 박막의 TEG line width별(別) 체적(體積)저항 (bulk resistance), 면(面)저항(sheet resistance), 비(比)저항 (resistivity) 및 기판 상(上)의 metal pattern 위치 변화에 따른 전기적 저항 uniformity 특성변화 평가가 있었다. TEG metal line 측정 변위에 따른 저항율의 선형변화 특성도 연구 되었으며, metal line별(別) 전기적 연속, 불연속 배선 단락 특성(electrical continuity test) 관찰도 있었다.