• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제18권9호
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• pp.815-820
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• 2005

ZnO varistor ceramics were fabricated with variation of addition of glass-frit amount and the sintering temperature was $1100^{\circ}C$. The average grain sizes were showed increased from $8.6{\mu}m\;to\;10{\mu}m$, and varistor voltages were decreased from 506V to 460V by added amount of glass-frit. Nonlinear coefficient $\alpha$, of all were with increasing the amount of glass-frit more than 70, in case of added on $0.03wt\%$ glass-frit was 83. And leakage current were less than $1{\mu}A$ with applied at $82\%$ of varistor voltage. The clamping voltage ratio of the specimens added $0.03wt\%$ glass-frit was 1.41 at applied 25A $[8/20\;{\mu}s]$. In the specimen added $0.03wt\%$ glass-frit, endurance of surge current and deviation of varistor voltage were $6200A/cm^2,\;\Delta-1.67\%$, respectively and clamping voltage ratio was 2.33. In the Specimen added $0.03wt\%$ glass-frit were superior to any other compositions on High Temperature Load Test(HTLT) for 1000 hr at $85^{\circ}C$, and deviation of the varistor voltage were $\Delta-1.29\%$.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제31권1호
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• pp.112-115
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• 2010

Transparent conducting undoped and Al impurity doped ZnO films were deposited on glass substrate by spin coat technique using 24 days aged ZnO precursor solution with solution of ethanol and diethanolamine. The films were characterized by UV-Visible spectroscopy, X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscope (SEM), electrical resistivity ($\rho$), carrier concentration (n), and hall mobility ($\mu$) measurements. XRD data show that the deposited film shows polycrystalline nature with hexagonal wurtzite structure with preferential orientation along (002) crystal plane. The SEM images show that surface morphology, porosity and grain sizes are affected by doping concentration. The Al doped samples show high transmittance and better resistivity. With increasing Al concentration only mild change in optical band gap is observed. Optical properties are not affected by aging of parent solution. A lowest resistivity ($8.5 \times 10^{-2}$ ohm cm) is observed at 2 atomic percent (at.%) Al. With further increase in Al concentration, the resistivity started to increase significantly. The decrease resistivity with increasing Al concentration can be attributed to increase in both carrier concentration and hall mobility.

• 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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• 한국신재생에너지학회 2010년도 춘계학술대회 초록집
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• pp.62.1-62.1
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• 2010

CIS(CuInSe2)계 화합물 태양전지는 높은 광흡수계수와 열적 안정성 및 조성 조절을 통한 밴드갭 조절이 용이해 고효율 박막 태양전지로 각광 받고 있다. 또한 CIGS 태양전지는 기존의 유리기판 대신 유연한 기판을 사용해 flexible 태양전지 제조가 가능하다. 이러한 유연기판은 보통 stainless steel과 같은 금속 기판이 많이 사용되는데 기존의 soda-lime glass 기판과는 달리 금속기판에는 Na이 첨가되어 있지 않아 별도의 Na첨가를 필요로 한다. Na은 CIGS 흡수층의 조성조절을 용이하게 하여 태양전지의 변환 효율을 향상시키는 역할을 한다. 본 연구에서 기판은 Na이 첨가되어있지 않은 corning glass를 사용 하였으며 NaF를 이용해 Mo가 증착된 기판에 NaF의 두께를 달리하며 증착해 CIGS 흡수층의 grain 사이즈를 비교 하였으며 그 후 태양전지 소자를 제조해 광전특성을 분석하였다. 후면 전극으로 약60nm 두께의 Mo를 DC Sputtering 방법을 이용해 증착 하였다. buffer층으로는 약 50nm의 CdS층을 CBD방법을 이용하여 제조 하였으며 TCO 층으로 약 50nm의 i-ZnO와 약 450nm의 Al-ZnO를 RF Sputtering방법으로 증착 하였다. 마지막으로 앞면 전극으로 약 $1{\mu}m$의 Al을 Thermal Evaporation방법으로 증착하였다. 태양전지 소자의 면적은 $0.49cm^2$로 효율을 비교 분석하였다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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• pp.447-447
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• 2009

In this study, transparent and conductive Al-doped zinc oxide (AZO) films were prepared on Corning glass and silicon wafer substrate by RF magnetron sputtering method using an Al-doped ZnO target (Al: 2 wt.%) at room temperature as the thickness of 150 nm. We investigated the effects of the RF power between 100 Wand 350 W in steps of 50 W on structural, electrical and optical properties of AZO films. Also, we studied the effects of the working pressure (3, 4 and 5 mtorr) on that condition. The thickness and cross-sectional images of films were observed by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM) and all of the films were kept to be constant to $150\pm10$ nm on Coming glass and silicon wafer. A grain size was calculated from X-ray diffraction (XRD) on using the Scherrer' equation and their electrical properties investigated hall effect electronic transport measurement system. Moreover, we measured transmittance of AZO films by UV/VIS spectrometer.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2004년도 추계학술대회 논문집 Vol.17
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• pp.375-378
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• 2004

ZnO varistor ceramics were fabricated with variation of addition of glass-frit amount and the sintering temperature was $1150^{\circ}C$. The average grain sizes were showed decreased from $8.6\;{\mu}m$ to $10\;{\mu}m$, and varistor voltages were decreased from 506 V to 460 V by added amount of glass-frit. Nonlinear coefficient ${\alpha}$, of all were with increasing the amount of glass-frit more than 60, in case of added on 0.03wt% glass-frit was 83. And leakage current were less than $1{\mu}A$ with applied at 82% of varistor voltage. The clamping voltage ratio of the specimes added 0.03wt% glass-frit was 1.41 at applied 25A $[8/20{\mu}s]$. In the specimen added 0.03wt% glass-frit, endurence of surge current and deviation of varistor voltage were $6200A/cm^2$, $\Delta-1.67%$, respectively.

• 한국세라믹학회지
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• 제39권10호
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• pp.928-934
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• 2002

Ga을 치환 고용시킨 ZnO(GZO) 박막을 GZO 세라믹 타켓을 사용하여 직류 마그네트론 스퍼터법에 의해 기판온도(RT, 400${\circ}C$), 잔류 $H_2O$ 분압(PH2O; 1.61${\times}10^{-4}∼2.2{\times}10^{-3}$ Pa), $H_2$ 가스 첨가(8.5%), 캐소드의 자장강도(250, 1000G)등의 다양한 조건하에서 제작했다. 기판 가열 없이 100% Ar를 사용한 경우, $P_{H_2O}$가 1.61${\times}10^{-4}$ Pa에서 2.2${\times}10^{-3}$ Pa로 증가 했을 때, 박막의 결정립 크기는 24 nm에서 3 nm로 감소했으며, 비저항은 3.0${\times}10^{-3}$에서 3.1${\times}10^{-2}{\Omega}㎝$ 로 크게 증가함을 보였다. 그러나, 8.5% $H_2$를 Ar 가스에 혼합하여 제막한 결과, GZO 박막의 전기적 특성은 $P_{H_2O}$의 증가에도 불구하고 변화 없이 나타났다. 또한 캐소드의 자장강도를 250G에서 1000G로 증가시킨 경우, GZO 박막의 결정성 및 전기적 특성은 $P_{H_2O}$와 상관없이 크게 향상되었으며, 이것은 플라즈마 임피던스의 감소에 따른 박막 손상의 감소에 기인한다고 생각된다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2003년도 하계학술대회 논문집 Vol.4 No.2
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• pp.980-983
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• 2003

The preparation of ZnS:Mn,Cl phosphor has been carried out by combustion method. Manganese nitrate was decomposed with an organic fuel at $500^{\circ}C$ to give fine sized crystallites in presence of alkali metal halides at a lower temperature than the conventional synthesis. The phosphors thus obtained were then heated at 900 to $1200^{\circ}C$ in an inert atmosphere, for 3hours to get better luminescent properties. The phosphors were prepared at different temperatures and at different doping concentrations of manganese to determine the optimal conditions for synthesizing the phosphors with superior optical properties. Scanning electron microscopy (SEM) investigations have been carried out to observe the particle morphology and the grain size. Powder X-ray diffraction(XRD) was also performed to characterize the phosphors.

• 한국자기학회지
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• 제7권1호
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• pp.13-18
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• 1997

기본 조성 N $i_{0.18}$Z $n_{0.68}$C $u_{0.14}$F $e_{2}$ $O_{4}$와 N $i_{0.14}$Z $n_{0.64}$C $u_{0.22}$F $e_{2}$ $O_{4}$ 및 N $i_{0.24}$Z $n_{0.64}$C $u_{0.12}$F $e_{2}$ $O_{4}$에 입계의 고저항층을 형성하고 소결을 촉진시키기 위해서 0.1 mol %의 Ca $Co_{3}$와 입자의 성장을 촉진시키고 높은 투자율을 얻을 목적으로 $V_{2}$ $O_{5}$를 0.04 mol% 첨가하였다. 이들 원료들을 혼합한 후 950 .deg. C에서 3시간 하소 과정을 거친후 ball mill해서 toroid 시편을 만들고 1030 .deg. C, 1050 .deg. C 및 1070 .deg. C 에서 2시간 동안 공기중에서 소결 시켰다. Raw material의 조성비 변화 및 소결 온도 변화에 따른 여러 가지 물리적 특성들을 조사하였다. X-선 회절 분석 결과 이들 시편들이 spinel 구조를 이루고 있음을 확인하였고 금속현미경으로 측정한 결정 입자의 크기는 6 .mu. m ~ 16 .mu. m 이었다. 초투자율, 자기 유도는 소결 온도가 1030 .deg. C에서 1050 .deg. C로 증가함에 따라 증가하였고 Q factor와 보자력은 감소하였다. 보자력과 큐리온도는 각각 0.17 Oe 및 220 .deg. C 근처로 모든 시편들에서 거의 비슷하였다. 본 시편의 사용 주파수 범위는 0.4 ~ 20 MHz로 확인되었으며, 소결 온도 1050 .deg.C와 기본 조성 N $i_{0.14}$Z $n_{0.64}$C $u_{0.22}$F $e_{2}$ $O_{4}$ 에서 다른 사람들 보다 더욱 더 우수한 자기유도값(B, $B_{m}$ )을 얻을 수 있었다.

• 한국재료학회지
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• 제9권12호
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• pp.1245-1251
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• 1999

상변화형 광디스크는 직접 반복기록에 의한 고속기록, 고밀도화가 가능하고 높은 전송속도, 재생신호의 C/N (carrier to noise) 비가 좋은 장점을 가지고 있으나 반복되는 열에너지에 의한 디스크의 변형과 소거도의 저하, 기록 반복성의 저하가 문제가 된다. 이러한 반복성의 저하를 개선하기 위해 적절한 디스크의 구조와 기록막의 상하부에 유전체 보호막인 ZnS-$SiO_2$ 박막층을 삽입하였다. 박막 제조시 많은 실험변수의 제어를 위해 다꾸찌 방법을 통하여 타겟 R.F. Power 200W, 기판 R.F. Power 20W, 아르곤 압력 4mTorr, 전극거리 6cm의 최적조건을 얻을수 있었다. TEM과 XRD분석 결과, 전극거리가 가까워질수록 높은 증착속도로 인하여 미세한 조직구조를 가지고 있으며, 일정거리 이상 가까워지면 막의 morphology에 나쁜 영향을 끼침을 알 수 있었다. 이러한 막의 morphology의 영향으로 투과율이 감소하는 것을 확인할 수 있었다. AFM과 SEM분석에서는 전극거리가 가까워질수록 높은 증착속도로 인하여 morphology에 나쁜 영향을 끼치고 있음을 확인할 수 있었다. 최적조건에서 증착한 박막은 우수한 morphology를 가진 초미세구조의 치밀하고 결함이 없는 박막이었다. 이 박막은 상변화형 광디스크에서 열적 변형을 억제하고, 열전도를 감소시켜 우수한 유전체 보호피막의 역할을 할 수 있다. 그리고, 전극거리가 ZnS결정립의 크기와 증착속도, morphology에 미치는 영향에 대해 고찰하였다.

• Transactions on Electrical and Electronic Materials
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• 제16권4호
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• pp.221-225
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• 2015

The sintering effect on the microstructure, electrical properties, and dielectric characteristics of ZnO-V₂O₅-MnO₂-Nb₂O₅-Dy₂O₃-based ceramics was investigated. With the increase of sintering temperature from 875 to 950℃, the density of the sintered pellets decreased from 5.57 to 5.45 g/cm³ and the average grain size increased from 4.3 to 10.9 μm. The breakdown field decreased noticeably from 6,095 to 996 V/cm with the increase of sintering temperature. The varistor ceramics sintered at 900℃ exhibited the best nonlinear properties: 39.2 in the nonlinear coefficient and 0.24 mA/cm² in the leakage current density. The dielectric constant increased sharply from 658.6 to 2,928.8 with the increase of sintering temperature. On the whole, the dissipation factor exhibited a fluctuation with the increase of the sintering temperature, and a minimum value of 0.284 at 900℃.