Kim, Gil-Young;Jung, Yeon-Sik;Byun, Dong-Jin;Choi, Won-Kook
Journal of the Korean Ceramic Society
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v.42
no.4
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pp.245-250
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2005
ZnO was deposited on sapphire single crystal substrate by an ultrasonic pyrolysis of Zinc Acetate Dehydrate (ZAH) with carrying Ar gas. Through Thermogravimetry-Differential Scanning Calorimetry(TG-DSC), zinc acetate dihydrate was identified to be dissolved into ZnO above $380^{\circ}C$. ZnO deposited at $380-700^{\circ}C$ showed polycrystalline structures with ZnO (101) and ZnO (002) diffraction peaks like bulk ZnO in XRD, and from which c-axis strain ${\Sigma}Z=0.2\%$ and compressive biaxial stress$\sigma=-0.907\;GPa$ was obtained for the ZnO deposited $400^{\circ}C$. Scanning electron microscope revealed that microstructures of the ZnO were dependent on the deposition temperature. ZnO grown below temperature $600^{\circ}C$ were aggregate consisting of zinc acetate and ZnO particles shaped with nanoblades. On the other hand the grain of the ZnO deposited at $700^{\circ}C$ showed a distorted hexagonal shape and was composed of many ultrafine ZnO powers of 10-25 nm in size. The formation of these ulrafine nm scale ZnO powers was explained by the model of random nucleation mechanism. The optical property of the ZnO was analyzed by the photoluminescence (PL) measurement.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.74-74
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2011
최근 새로운 형태의 디스플레이에 관한 관심이 집중되고 있다. 이들 중 특히 투명 산화물 반도체는 기존의 실리콘 기반의 반도체에 비해 가시광 영역에서 높은 투과도를 보이며, 또한 기존의 비정질 실리콘 소자에 비해서 10 cm2/Vs이상의 높은 전하 이동도 값을 가진다. 본 연구에서는 투명 산화물 반도체 소재 중 InGaZnO4를 사용하여 펄스 레이저 방법으로 Al2O3 (0001)기판 위에 비정질 상태인 a-InGaZnO4 박막을 성장 시켰다. 박막의 증착 온도를 변화(RT, $50^{\circ}C$, $150^{\circ}C$, $250^{\circ}C$, $450^{\circ}C$, $550^{\circ}C$)시켜 성장된 박막의 구조적, 화학적, 전기적 그리고 광학적 특성을 조사하였다. 증착 온도가 $450{\sim}550^{\circ}C$ 사이에서 박막의 상태가 비정질(amorphous)에서 polycrystalline으로 성장되는 것을 X-Ray Diffraction과 Field Emission-Scanning Electron Microscope를 이용하여 확인하였고 이는 InGaZnO4 박막의 결정화 온도가 $450^{\circ}C$ 이상임을 알 수 있었다. X-ray Photoelectron Spectroscopy를 통해서 target 물질과 성장된 박막의 조성 및 화학적 상태를 고찰한 결과, 박막의 결정성 변화가 화학적 상태 변화와는 무관하다는 사실을 알 수 있었다. 온도 의존 비저항 측정을 통해 박막이 반도체 성향을 가지는 것을 확인 하였다. 또한 Hall 측정 결과 증착 온도가 올라 갈수록 전하 밀도는 증가 하지만, 전하 이동도는 다결정 박막($550^{\circ}C$)에서 급격히 감소하고, 이로 인해 비저항 값이 크게 증가함을 알 수 있었다. 이는 다결정 박막 내 존재하는 grain boundary들이 이동도 값에 영향을 준다는 것으로 추측할 수 있다. Ultra violet-Visible-Near Infrared 측정을 통해 가시광 영역에서 80%이상의 투과율을 나타내며 증착 온도가 증가함에 따라 에너지 밴드갭(Eg)이 커지는 것을 확인 할 수 있는데 이는 Hall 측정 결과에서 확인한 전하 밀도의 증가로 인해 에너지 밴드갭이 커지는 Burstein-Moss 효과로 설명할 수 있다.
$Ni_{0.65}Zn_{0.35}Fe_2O_4$thin films were prepared by using a sol-gel method. Their crystallographic, dielectric and magnetic properties were investigated as a function of Cu contents by means of an X-ray diffractometer (XRD), X-ray reflectivity, LCZ meter (NF2232), a vibrating sample magnetometer (VSM), and an atomic force microscope (AFM). From typical C-V measurements for $Ni_{0.65}Zn_{0.35}Fe_2O_4$ thin films on p-type silicon substrate, the surface charge density was calculated as 1.4 ${\mu}$C/$m^2$. The dielectric constant evaluated from the capacitance at the accumulation state was 28. The high $H_{c}$ and low $M_{sat}$ at x=0.0 and 0.1 were due to the growth of the ${\alpha}$-$Fe_2O_3$ phase having antiferromagnetic properties. The rapidly decreased $H_{c}$ and increased $M_{sat}$ at x=0.2 and 0.3 can be explained that the ${\alpha}$-$Fe_2O_3$ phases have completely disappeared at x=0.3 and so, non-magnetic defects are minimized. The $M_{sat}$ was slightly decreased and the $H_{c}$ was increased above at x=0.3 because the increase of grain boundary due to smaller grain size acts as defects during magnetization process.
We investigated secondary electron emission characteristics of ZnO thin films prepared by pulsed laser deposition method with respect to the ambient oxygen pressure and the substrate temperature during the deposition. X-ray diffraction, UV-Vis spectrometry, atomic force microscopy, and ${\gamma}$-FIB were used to examine the structural, optical transmission, surface morphology, and secondary electron emission properties of the films, respectively. The secondary electron emission coefficient of the ZnO films increases as the O/Zn ratio of the films increases which was thought to result from either the ambient oxygen pressure increase or the substrate temperature decrease and as the grain size of the films decreases. It was confirmed that ZnO has better secondary electron emission characteristics than those of MgO, which is currently widely used as a material for PDP protecting layers.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.13
no.5
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pp.383-389
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2000
The relationship between the DC degradation characteristics of the ZnO varistor and the ambient sintering-process is investigated in this study. ZnO varistors made o matsuoka’s composition were fabricated by standard ceramic techniques. The ambient sintering-process is performed at the extraordinary electrical-furnace which is equipped with the vacuum system. Gases used in sintering process were oxygen nitrogen argon and air. Using XRD and SEM the phase and microstructure of samples were analyzed respectively. The conditions of DC degradation tests were conducted at 115$\pm$2$^{\circ}C$ for 13 h. Current-voltage analysis is used to determine nonlinear coefficients($\alpha$). Frequency analysis are performed to understand electrical properties as DC degradation test. From above analysis it is found that the ZnO varistor sintered in oxygen atmosphere showed superior properties at the DC degradation test and degradation phenomenon of ZnO varistor is caused by the change of electrical properties in grain boundary. These results are in accordance with Gupta’s degradation model.
Transparent conductive films of aluminium doped zinc oxide (AZO) have been prepared by using the DC magnetron sputtering with the ZnO : Al (Al2O3 2 wt%) oxide target oriented to c-axis. Electrical and optical properties depended upon the O2/Ar gas ratio. The optical transmittance and sheet resistance of the AZO coated glass was 60~65% and 75Ω/$\square$, respectively at the O2/Ar gas ratio of 0. With the increase of the oxygen partial pressure to 2.0$\times$10-2, they were increased to the values of 81% and 1kΩ/$\square$, respectively. The films with the resistivities of 1.2~1.4$\times$10-3 Ω.cm, mobilities of 11~13 $\textrm{cm}^2$/V.sec and carrier concentrations of 3.5$\times$1020~4.0$\times$1020/㎤ were produced at the optimum O2/Ar gas ratio, which was 0.5$\times$10-2~1.0$\times$10-2. According to XRD analysis, the films have only one peak corresponding to the (002) plane, which indicates that there is a strong preferred orientation of the films. The grain size of ZnO films were calculated to 200~320 $\AA$, which was increased with the O2/Ar gas ratio and Ar gas flowrate.
In this studies resistivity thermal expansion and microstructure of the Forsterite Porcelain as a high frequency insulator were investigated. The body containing Zn-glass shows higher resistivity than any other body. The bodies containing K, Ba, Cd-glass respectively consist of fine crystals of mosaic type. The bodies containing Bi, Zn, Zr-glass repectively included more large crystals because of the grain growth and coherence of fine particles In the 4 series Forsterite containing excess MgO 0-6% the thermal coefficients of the bodies increased with the increasing of excess MgO and the bodies have conspicuously high thermal expansion coefficients when 15% excess $BaCO_3$ was added to. The resistivities of additive bodies of $BaCO_3$ 0, 5, 10% in Forsterite containg excess MgO 2% are higher than any other that of composition. Bacause the growing of Forsterite crystals was restrained with the increasing of excess MgO $BaCO_3$ their grain size became fine and their grain boundaries were decomposed and also the glass phase having high refractive inder was increased. The higher the firing temperature increased the more the process of crystal growing was progressed.
Son Y.-J.;Hwang D.-Y.;Kim J.-C.;Cho K.-W.;Kim Y.-M.;Ur S.-C.;Kim I.-H.
Korean Journal of Materials Research
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v.14
no.11
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pp.764-768
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2004
Perovskite Pb(Mn_{1/3}Sbu_{2/3})O_2-Pb(Zr,Ti)O_3\;(PMS-PZT) was prepared and ZnO doping effects on its piezoelectric properties were investigated. Pyrochlore phase was not identified in the PMS-PZT ceramics with $0\sim5\;mol\%$ ZnO sintered at $1100^{\circ}C$ for 2 hrs, and maximum sintered density of $7.92 g/cm^3$ was obtained. Piezoelectric charge constant and voltage constant increased to $359{\times}10^{-12}\;C/N\;and\;22.5{\times}10^{-13}\;Vm/N$, respectively, with increasing ZnO content. Mechanical quality factor reduced considerably with increasing ZnO content. When the ZnO content was 3 $mol\%$, electromechanical coupling factor and relative dielectric constant showed maximum values of $56\%$ and 1727, respectively. This should be evaluated by complicated variations of sintered density, tetragonality of lattice, grain size, and A-site vacancy generated by ZnO addition and $Zn^{2+}$ substitution.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.24
no.7
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pp.584-588
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2011
The ZnO thin films doped with Ga and Ge (GZO:Ge) were prepared on glass substrate using RF sputtering system. Structural, morphological and optical properties of the films deposited in different temperatures were studied. Proportion of the element of using target was 97 wt% ZnO, 2.5 wt% Ga and 0.5 wt% Ge with 99.99% highly purity. Structural properties of the samples deposited in different temperatures with 200 w RF power were investigated by field emission scanning electron microscopy, FE-SEM images and x-ray diffraction XRD analysis. Atomic force microscopy, AFM images were able to show the grain scales and surface roughness of each film rather clearly than SEM images. it was showed that increasing temperature have better surface smoothness by FE-SEM and AFM images. Transmittance study using UV-Vis spectrometer showed that all the samples have highly transparent in visible region (300~800 nm). In addition, it can be able to calculate bandgap energy from absorbance data obtained with transmittance. The hall resistivity, mobility, and optical band gap energy are influenced by the temperature.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.80-80
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2011
본 연구에서는 flexible 광전소자에 응용이 가능한 투명전극을 위해 polyethersulfone (PES) 기판 위에 GaZnO (GZO) 박막을 마그네트론 스퍼터 법으로 증착하였다. 박막 증착 중 Ar 분압의 변화가 박막의 특성에 미치는 영향을 분석하기 위해, 스퍼터 반응시 chamber내 Ar 분압을 10 sccm~50 sccm 범위에서 변화를 주었다. 박막이 증착된 후 GZO/PES 시료의 광학적 투과율을 측정한 결과 가시광 영역에서 80% 이상의 높은 투과율을 보이고 있었다. 이때 광학적 투과율은 Ar 분압의 변화에는 영향을 받고 있지 않은 것으로 분석되었다. 시료의 표면을 주사전자현미경 분광법으로 분석한 결과 Ar 분압이 증가 할수록 GZO grain 크기가 감소하여 그 조밀도가 증가하는 경향을 나타내었다. 또한 x-ray 회절 스펙트럼에서는 ZnO (002) peak의 세기가 증가함을 확인하였고, 이에 반하여 $ZnGa_2O_4$의 (311) peak의 세기는 감소하는 경향을 확인할 수 있었다. 한편 제작된 시료의 전기적 특성을 분석한 결과 Ar 분압의 증가에 따라 비저항이 약 $7.5{\times}10^{-3}{\Omega}cm$ 까지 감소하는 경향을 보였다. 이는 Ar 분압이 증가할수록 Ar-plasma enhancement 효과로 GZO의 결정학적 특성이 향상되면서 GZO의 전기전도 특성을 저해 하는 insulating $ZnGa_2O_4phase$의 형성을 억제하였기 때문인 것으로 해석된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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