Tunsten silicide (WSix) films on polycrystalline silicon were formed by low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD) and were annealed in $N_2$ for 30 mins at various temperatures. The annealing behaviors of tungsten silicide films have been investigated by electrical resistivity measurements, X-ray diffraction methods, scanning electron microscopy (SEM) and Hall measurements. The electrical resistivity decreased almost linearly with increasing annealing temperature and reached $35{\mu}{\Omega}-cm$ at $1000^{\circ}C$ annealing. The X-ray and SEM analyses indicate that crystallization of $WSi_2$ and grain growth occurs when annealed above $1000^{\circ}C$. Excess silicon redistribution occurs considerably when annealed above $1000^{\circ}C$. By Hall measurements, the carrier type for specimens annealed at $1000^{\circ}C$ was found to be positive holes, while the carriers were electrons in the specimens that were annealed at $800^{\circ}C$.
Mg-4.3Zn-0.7Y (at%) alloy powders were prepared using an industrial scale gas atomizer, followed by warm extrusion. The powders were almost spherical in shape. The microstructure of atomized powders and those extruded bars was examined using Scanning Electron Microscopy (SEM), Energy Dispersive X-ray Spectroscope (EDS) and X-ray Diffractometer (XRD). The grain size of the powders was coarsen as the initial powder size increased. After the extrusion, the grain size became fine due to the severe plastic deformation during the extrusion with the ratio of 10:1. Both the ultimate strength and elongation were enhanced with the decrease of initial particle size.
4족 반도체 원소 양자점들은 원소가 가지고 있는 반도체적 성질과, 양자점에서 나타나는 quantum confinements 적인 특성 때문에 전자재료나 광학적 분야, 특히 태양전지 분야에서 그 쓰임이 대두되고 있다. 이러한 4족 반도체 원소의 양자점들을 만들기 위한 여러 방법들이 시도되고 있는데, 그 중에서 특히 절연체 박막에 4족 반도체 원소의 양자점들을 만드는 방법에는 이온주입, PVD, 그리고 CVD 를 통한 multi-layer 증착후 열처리 과정을 반드시 포함하는 Stranski- krastanov 방법이 주로 사용되고 있다. 본 실험에서는 고체원소 이온주입이라는 방법을 통해 절연체 박막의 증착과 이온주입이 한 진공용기 내에서 연속공정으로 이루어 지면서, 별도의 열처리 과정 없이 결정화된 게르마늄 양자점을 만들어 보았다. 이는 (X-ray diffraction) XRD와 Raman spectroscopy로 결정화된 게르마늄을 확인할 수 있었으며, (X-ray photoelectron spectroscopy)XPS 데이터로도 순수한 게르마늄이 표면에서 깊이 방향으로 약 $1,000\;{\AA}$ 만큼 게르마늄 양자점들이 만들어 짐을 알 수 있었다. 마지막으로 (High resolution transmittance electron microscopy) HRTEM으로 그 양자점의 크기와 분포도 그리고 결정성을 알아 보았다.
In this work, nitrogen and oxygen functionalities was introduced to the graphite nanofibers (GNFs) and their effect on electrocatalytic performance of the GNF supports for direct methanol fuel cells (DMFCs) was invesigated. The nitrogen and oxygen groups were introduced through the urea treatments and acid treatment, respectively. And, PtRu catalysts deposited on modified GNFs were prepared by a chemical reduction method. The catalysts were characterized by means of elemental analysis, nitrogen adsorption, and X-ray photoelectron spetroscopy (XPS). The structure and morphological characteristics of the catalysts were characterized by X-ray diffraction (XRD) and transmission electron microscopy (TEM). As a result, the Pt-Ru nanoparticles were impregnated on GNFs with good formation in 3-5 nm. And, the cyclic voltammograms for methanol oxidation revealed that the methanol oxidation peak varied depending on changes of surface functional groups. It was thus considered that the PtRu deposition was related to the reduction of PtRu and surface characteristics of the carbon supports. The changes of surface functional groups were related to PtRu reduction, significantly affect the methanol oxidation activity of anode electrocatalysts in DMFCs.
In this work, the activated carbons (ACs) with high porosity were synthesized from pitch by KOH chemical activation. The structure and surface properties of ACs were characterized by means of elemental analysis, X-ray diffraction (XRD), and X-ray photoelectron spectroscopy(XPS). And, the influence of the KOH-to-pitch ratio on the porosity of the ACs was investigated using the nitrogen adsorption isotherms at 77 K and a scanning electron microscopy (SEM). As a result, pitch could be successfully converted into ACs with well-developed micro and mesopores. The specific surface areas and pore volumes were increased with an increase of the KOH-to-pitch ratio. Furthermore, it was found that the addition of KOH led to the transformation of the micropores to the meso- and macropores. In the application to electric double layer capacitors (EDLC), the pitch-based ACs showed a higher capacitance per weight and per volume, and an excellent electrochemical stability in the high voltage region.
We presented plasma processing using a DC Arc Plasmatron for diamond deposition on Al2O3 ceramic substrates. Plasma surface treatments were conducted to improve deposition condition before processing for diamond deposition. The Al2O3 ceramic substrates deposited, $5{\times}15mm^2$, were investigated by Scanning Electron Microscopy (SEM), Fourier Transform Infrared Spectroscopy (FTIR) and X-ray Diffraction (XRD). Properties of diamond (111), (220) and (311) peaks were shown in XRD. We identified nanocrystalline diamond films on substrates. The results showed that deposition rate was approximately $2.2{\mu}m/h$ after plasma surface treatments. Comparing the above result with a common processing, deposition rate was improved. Also, the surface condition was improved more than a common processing for diamond deposition on Al2O3 ceramic substrates.
The aluminum nitride films were prepared by RF magnetron sputtering using an AlN ceramic target. The crystallinity, grain size, Al-N bonding and thermal conductivity were investigated in dependence on the plasma power densities (4.93, 7.40, 9.87 W/$cm^2$) during sputtering. High thermal conductivity is important properties of A1N passivation layer for functioning properly in thermal inkjet printhead. The crytallinity, grain size, Al-N bonding formation and chemical composition were observed using X-ray diffraction (XRD), field emission scanning electron microscopy (FESEM), fourier transform infrared (FTIR) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), respectively. The AlN thin film was changed from amorphous to crystalline as the power density was increased, and the largest grain size appeared at medium power density. The near stoichiometry Al-N bonding ratio was acquired at medium power density. So, we know that the AlN thin film had better thermal conductivity with crystalline phase and near stoichometry Al-N bonding ratio at 7.40 W/$cm^2$ power density.
This paper reports the oxidation mechanism of epitaxial Ni thin films grown on GaN/sapphire(0001) substrates, investigated by real-time x-ray diffraction and scanning electron microscopy. At the initial stage of oxidation process, a thin NiO layer with a thickness of ${\sim}50\;{\AA}$ was formed on top of the Ni films. The growth of such NiO layer was saturated and then served as a passive oxide layer for the further oxidation process. For the second oxidation stage, host Ni atoms diffused out to the surfaces of initially formed NiO layer through the defects running vertically to form NiO grains, while the sites that were occupied by host Ni, became voids. The crystallographic properties of resultant NiO films, such as grain size and mosaic distribution, rely highly on the oxidation temperatures.
콜레스테롤을 갖는 계면활성제를 합성하고, 이 계면활성제를 단량체와 함께 물 속에서 음파파쇄(sonication)하여 막소포(vesicle)용액을 형성한 다음, 이 용액을 건조하여 분자들이 규칙적으로 배열된 분자 다층 구조를 갖는 막을 합성하였다. 이 막에 들어 있는 단량체들을 UV를 이용하여 중합하여 고분자가 층과 층 사이에 들어 있는 분자 다층 구조를 합성하였다. 중합이 끝난 후 유기 용매를 사용하여 계면활성제를 추출하여 2차원적인 구조를 갖는 초박막 층으로 이루어진 고분자 막을 합성하였다. 분자 다층 구조들을 X-ray Diffractometer로 분석하여 다층 구조를 어느 정도 잘 하고 있는지를 살펴보았으며, 유기 용매로 계면활성제를 추출해내고 나서 남은 고분자 막의 절단한 면을 SEM으로 살펴 보았다.
In this study, we developed plasma electrolytic oxidation (PEO) process for aluminum 7075 alloy to improve the corrosion and mechanical properties. The electrolyte consists of potassium hydroxide and sodium silicate. Additionally, sodium stannate was added into the electrolyte to investigate its effect on PEO film formation. Titanium was used as the counter electrode. Plasma generation voltage reduced from 300V to 150 V by adding 4 g/L of sodium stannate. The thin oxide films were observed by SEM(Scanning Electron Microscopy)/EDS (Energy Dispersive Spectroscopy) for quantitative and qualitative analyses. XRD (X-ray diffraction) and XRF (X-ray Fluorescences) analyses were also carried out to identify oxide layer on aluminum 7075 surface. Vicker's hardness test was performed on the PEO-treated aluminum 7075 surface.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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