톳으로부터 HPH를 이용해 식품에 적용 가능성이 있는 가식성 필름을 제작할 수 있었다. HPH 처리 압력의 증가는 필름의 강도와 깨짐성을 증가시켰고, 단면이 조밀하고 균일한 필름을 형성시켰다. HPH의 처리 횟수의 증가 또한 필름의 단면을 조밀하게 하였다. 개발된 톳 필름은 보고된 많은 다른 생고분자 필름들에 비해 상대적으로 강도, 깨짐성, 그리고 수분 저항력이 낮아 코팅 또는 롤을 비롯한 필름 형태로 건조 식품 또는 중간 수분 식품에 적용될 수 있는 가능성을 보여주었다.
$Y_2O_3$ film was directly deposited on Ni-3at%W substrate using DC reactive sputtering technique. Metallic yttrium was used for DC sputtering target and water vapor was used for oxidizing the deposited metallic Yttrium atoms on the substrate. The window of the water vapor turned out to be broad. The minimum partial pressure of water vapor was determined by sufficient oxidation of the $Y_2O_3$ film, and the maximum partial pressure of water vapor was determined by the non-oxidation of the target surface. As the sputtering power was increased, The deposition rate increased without narrowing the window. The fabricated $Y_2O_3$ films showed good texture qualities and surface morphologies. The YBCO film deposited directly on the $Y_2O_3$ buffered Ni-3at%W substrate showed $T_c$, $I_c$ (77 K, self field), and $J_c$ (77 K, self field) of 89 K, 64 A/cm and 1.l $MA/cm^2$, respectively.
In this paper, we studied WVTR(water vapor transmission rate) properties of $Si_3N_4$ thin film that was deposited using TCP-CVD (transformer coupled plasma chemical vapor deposition) method for the possibility of OLED(organic light emitting diode) encapsulation. Considering the conventional OLED processing temperature limit of below $80^{\circ}C$, the $Si_3N_4$ thin films were deposited at room temperature. The $Si_3N_4$ thin films were prepared with the process conditions: $SiH_4$ and $N_2$, as reactive gases; working pressure below 15 mTorr; RF power for TCP below 500 W. Through MOCON test for WVTR, we analyzed water vapor permeation per day. We obtained that WVTR property below 6~0.05 gm/$m^2$/day at process conditions. The best preparation condition for $Si_3N_4$ thin film to get the best WVTR property of 0.05 gm/$m^2$/day were $SiH_4:N_2$ gas flow rate of 10:200 sccm, working pressure of 10 mTorr, working distance of 70 mm, TCP power of 500 W and film thickness of 200 nm. respectively. The proposed results indicates that the $Si_3N_4$ thin film could replace metal or glass as encapsulation for flexible OLED.
양전하를 갖는 poly(allylamine hydrochloride)(PAH)와 음전하를 갖는 poly(acrylic acid)(PAA) 전해질 폴리머를 사용하여 layer-by-layer(LBL) self-assembly 방법에 의해 초친수 특성을 갖는 박막을 제조하였다. PAH/PAA 박막의 밀착강도를 증가시키기 위하여 glutaraldehyde(GA) 수용액을 이용하여 amine-aldehyde의 화학반응에 따른 박막의 표면구조 변화, 막두께, 투과율, 접촉각, 밀착강도 특성을 측정하였다. PAH와 PAA 용액 침적 사이에 기판을 GA 수용액에 침적함으로써 박막의 두께는 감소하였지만 밀착강도는 2배 이상 증가하였다. 밀착강도의 증가는 PAH 와 GA의 amine-aldehyde의 화학반응에 의한 결과라는 것을 fourier transform infrared(FT-IR) spectroscopy를 사용하여 확인하였다. 제조된 PAH/PAA and PAH/GA/PAA 박막은 물 접촉각 $5^{\circ}$이하의 초친수 박막 특성을 보여주었고, 550 nm 파장에서 91.3% 이상의 높은 투과율을 나타내었다.
The gas-liquid counter-current flow limitation (CCFL) is closely related to efficient and safety operation of many equipment in industrial cycle. Air-water countercurrent flow experiments were performed in a tube with diameter of 25 mm to understand the triggering mechanism of CCFL. A parallel electrode probe was utilized to measure film thickness whereby the time domain and frequency domain characteristics of liquid film was obtained. The amplitude of the interface wave is small at low liquid flow rate while it becomes large at high liquid flow rate after being disturbed by the airflow. The spectral characteristic curve shows a peak-shaped distribution. The crest exists between 0 and 10 Hz and the amplitude decreases with the frequency increase. The analysis of visual observation and characteristic of film thickness indicate that two flooding mechanisms were identified at low and high liquid flow rate, respectively. At low liquid flow rate, the interfacial waves upward propagation is responsible for the formation of CCFL onset. While flooding at high liquid flow rate takes place as a direct consequence of the liquid bridging in tube due to the turbulent flow pattern. Moreover, it is believed that there is a transition region between the low and high liquid flow rate.
Park, Myunghoon;Bonghoon Chung;Byungok Chun;Taihyun Chang
Macromolecular Research
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제12권1호
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pp.127-133
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2004
We have studied the surface micelle formation of polystyrene-b-poly(2-vinyl pyridine) (PS-b-P2VP) at the air-water interface. A series of four PS-b-P2VPs were synthesized by anionic polymerization, keeping the PS block length constant (28 kg/㏖) and varying the P2VP block length (1, 11, 28, or 59 kg/㏖). The surface pressure-area ($\pi$-A) isotherms were measured and the surface morphology was studied by atomic force microscopy (AFM) after Langmuir-Blodgett film deposition onto silicon wafers. At low surface pressure, the hydrophobic PS blocks aggregate to form pancake-like micelle cores and the hydrophilic P2VP block chains spread on the water surface to form a corona-like monolayer. The surface area occupied by a block copolymer is proportional to the molecular weight of the P2VP block and identical to the surface area occupied by a homo-P2VP. It indicates that the entire surface is covered by the P2VP monolayer and the PS micelle cores lie on the P2VP monolayer. As the surface pressure is increased, the $\pi$-A isotherm shows a transition region where the surface pressure does not change much with the film compression. In this transition region, which displays high compressibility, the P2VP blocks restructure from the monolayer and spread at the air-water interface. After the transition, the Langmuir film becomes much less compressible. In this high-surface-pressure regime, the PS cores cover practically the entire surface area, as observed by AFM and the limiting area of the film. All the diblock copolymers formed circular micelles, except for the block copolymer having a very short P2VP block (1 kg/㏖), which formed large, non-uniform PS aggregates. By mixing with the block copolymer having a longer P2VP block (11 kg/㏖), we observed rod-shaped micelles, which indicates that the morphology of the surfaces micelles can be controlled by adjusting the average composition of block copolymers.
Because using LB method, result that produce Arachidic acid and Stearic acid LB film and measure the accumulation characteristic and electrical characteristic is as following. Organic monolayers of surface of the water compression each 9 layer's LB film to slide glass and manufactured MIM device compressing molecular film only. Could confirm that accumulation was good seeing as absorption coefficient and SEM picture, AFM picture that prevent manufactured LB films. Formation of domain of coexistence form that prevent LB film is indefinite and distinction of border side was not clear, and could know that roughness appears greatly. Obtained current by applied voltage could know that is proportional almost, though Arachidic acid appeared as bulk of current that happen in equaler certification voltage than Stearic acid is less, this alkyl chain longer Arachidic acid that serving relations special quality is superior know can .
Metal thin films, which are indispensable constituents of ULSI (Ultra Large Scale Integration) circuits, have been fabricated by physical or chemical methods. However, these methods have a drawback of using expensive high vacuum instruments. In this work, the fabrication of tungsten metal film by spin coating was investigated. First of all, inorganic peroxopolytungstic acid (W-IPA) powder, which is soluble in water, was prepared by dissolving metal tungsten in hydrogen peroxide and by evaporating residual solvent. Then, the solution of W-IPA was mixed with organic solvent, which was spin-coated on wafers. And then, tungsten metal films, were obtained after reduction procedure. By selecting an appropriate organic solvent and irradiating UV, the sheet resistance of the tungsten metal film could be remarkably reduced.
$TiO_2$ colloidal solution was electrosprayed for preparing a conductive thin film with high quality. Electrospray is a technique of liquid dispersion electrically and a good method of manufacturing nanoparticle, nanofiber, porous membrane, film preparation and coating. Water and ethanol were used as solvents and their mixing ratio was varied for studying the influence of solvent volatile on nanoparticle dispersion. Various nozzles to control the thru-put of solutions.were examined. Integrated analytical method and scanning electron microscope were used to analyze integrity and microscopic images.
Laminar film condensation of a saturated vapor in forced flow over a flat plate is analyzed by using integral method. Laminar condensate film is so thin that the inertia and thermal convection terms in liquid flow can be neglected. Approximate solutions for water are presented and well agreed with the similarity solutions over the wide range of physical parameter, Cp1(Ts-Tw)/Pr.hfg. For the strong condensation case, it is found that magnitude of the interfacial shear stress at the liquid-vapor interphase boundary is approximately equal to the momentum transferred by condensation, i.e., ${\tau}_i{\simeq}\dot{m}(U_O-U_i)$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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