A structure in which GaAs and AlGaAs epilayers are formed with a metal organic chemical vapor deposition equipment on a GaAs wafer similar to the structure of making a vertical cavity surface emitting laser is used. Photonic Quantum Ring (PQR) devices that are naturally generated by 3D resonance are manufactured by chemically assisted ion beam etching technology, which is a dry etching method. A new technology that can be fabricated has been studied, and as a result, the possibility of wet etching of a solution containing phosphoric acid, hydrogen peroxide and methanol was investigated, and the device fabrication by applying this method are also discussed. In addition, the spectrum of the fabricated optical device was measured, and the results were theoretically analyzed and compared with the wavelength value obtained by the measurement. It is expected that the PQR device will be able to model cells in a three-dimensional shape or be applied to the display field.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.24
no.3
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pp.77-81
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2017
Pulse electroplating of Ni-P alloy was studied to fulfill the material requirement to the advanced vertical probe tip in wafer probe card. The major concerns are for the electrical conductivity and yield strength. Plating parameters such as current density, duty cycle and solution components were examined to obtain the nanocrystal structure and proper percentage of phosphorus, leading to how to control the nanocrystal grain growth and precipitation of $Ni_3P$ after heat treatment. Among the parameters, the amount of phosphorus acid was the main factor affecting on the grain size and sheet resistance, and the amount of 0.1 gram was appropriate. Since hardness in Ni-P alloy is increased by as-plated nanocrystal structure plus precipitation of $Ni_3P$, the concentration of P less than 15 at% was better choice for the grain coarsening without minus in hardness value. The following heat treatment made grain growth and dispersion of precipitates adjustable to meet the target limit of resistance of $100m{\Omega}$ and hardness number of over 1000Hv. The Ni-P alloy will be a candidate for the substitute of the conventional probe tip material.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.33
no.7
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pp.579-586
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2016
This paper describes kinematic analysis of a 6-degrees-of-freedom (DOF) ultra-precision positioning stage based on a flexure hinge. The stage is designed for processes which require ultra-precision and high load capacities, e.g. wafer-level precision bonding/assembly. During the initial design process, inverse and forward kinematic analyses were performed to actuate the precision positioning stage and to calculate workspace. A two-step procedure was used for inverse kinematic analysis. The first step involved calculating the amount of actuation of the horizontal actuation units. The second step involved calculating the amount of actuation of the vertical actuation unit, given the the results of the first step, by including a lever hinge mechanism adopted for motion amplification. Forward kinematic analysis was performed by defining six distance relationships between hinge positions for in-plane and out-of-plane motion. Finally, the result of a circular path actuation test with respect to the x-y, y-z, and x-z planes is presented.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Technology Engineers
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v.21
no.4
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pp.563-569
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2012
In the semiconductor and display device production processes, the handling of sensitive objects needs new carrying technology. Floating carrying motion is a practical alternative solution for non-contact handling of parts and substrates. This paper presents a study of through paths inside the air pressure pick-up head to generate the floating motion. The air motion by conceptual designed paths inside the head gradually develops positive pressure and vacuum between narrow objects. Positive pressure occurs through the head tip before discharging outside of the head. Negative pressure is developed by evacuating the inside head bottom as result of the radial flow connecting the vertical through-holes. The numerical analysis was done to figure out the stable levitation caused by the two acting forces between surfaces. In comparing with the standard case that the levitation gap gets 0.7-0.9 mm, it confirms the suggested head characteristics to show floating capacity in accordance with the head size, number of through-hole, and locations of through-hole in succession of conceptual design for a prototype.
Im, Joon;Kang, Sang Hoon;Lee, Ji Yeon;Kim, Moon Key;Kim, Jung Hoon
The korean journal of orthodontics
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v.44
no.6
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pp.330-341
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2014
A 19-year-old woman presented to our dental clinic with anterior crossbite and mandibular prognathism. She had a concave profile, long face, and Angle Class III molar relationship. She showed disharmony in the crowding of the maxillomandibular dentition and midline deviation. The diagnosis and treatment plan were established by a three-dimensional (3D) virtual setup and 3D surgical simulation, and a surgical wafer was produced using the stereolithography technique. No presurgical orthodontic treatment was performed. Using the surgery-first approach, Le Fort I maxillary osteotomy and mandibular bilateral intraoral vertical ramus osteotomy setback were carried out. Treatment was completed with postorthodontic treatment. Thus, symmetrical and balanced facial soft tissue and facial form as well as stabilized and well-balanced occlusion were achieved.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.30
no.7
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pp.702-708
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2013
The white-light scanning interferometer (WSI) is an effective optical measurement system for high-precision industries (e.g., flat-panel display and electronics packaging manufacturers) and semiconductor manufacturing industries. Its major disadvantages include a slow image-capturing speed for interferogram acquisition and a high computational cost for peak-detection on the acquired interferogram. Here, a WSI system is proposed for the semiconductor inspection process. The new imaging acquisition technique uses an 'on-the-fly' imaging system. During the vertical scanning motion of the WSI, interference fringe images are sequentially acquired at a series of pre-defined lens positions, without conventional stepwise motions. To reduce the calculation time, a parallel computing method is used to link multiple personal computers (PCs). Experiments were performed to evaluate the proposed high-speed WSI system.
In this paper, we developed a modified direct bonding method for the application of vacuum devices. By the proposed method, we successfully bonded the following materials: Si-Si, Si-$SiO_2$-Si, glass-Si, and glass-$SiO_2$-Si. In our experiments, we used corning #7070 wafer type glass and (100) or (110) single crystalline silicon wafers. In order to enhance the initial bonding strength we contacted the materials to be bonded as D. I. water wetted on the surfaces and evaporated the water under the room temperature and atmosphere environment. Finally we realized the glass bonding by simple direct bonding method which has been performed by electrostatic bonding method until now.
Extreme ultraviolet (EUV) lithography using 13.5 nm wavelengths is expected to be adopted as a mass production technology for 32 nm half pitch and below. One of the new issues introduced by EUV lithography is the shadowing effect. Mask shadowing is a unique phenomenon caused by using mirror-based mask with an oblique incident angle of light. This results in a horizontal-vertical (H-V) biasing effect and ellipticity in the contact hole pattern. To minimize the shadowing effect, a refilled mask is an available option. The concept of refilled mask structure can be implemented by partial etching into the multilayer and then refilling the trench with an absorber material. The simulations were carried out to confirm the possibility of application of refilled mask in 32 nm line-and-space pattern under the condition of preproduction tool. The effect of sidewall angle in refilled mask is evaluated on image contrast and critical dimension (CD) on the wafer. We also simulated the effect of refilled absorber thickness on aerial image, H-V CD bias, and overlapping process window. Finally, we concluded that the refilled absorber thickness for minimizing shadowing effect should be thinner than etched depth.
The slotless Permanent-Magnet Linear Synchronous Motors (PMLSM) have been developed for factory automation, transportation applications, wafer steppers, conveyance system, and so on. The current analysis and design are treated in air-cored PMLSM. This paper presents a design and analysis solutions for the general class of iron-cored Permanent magnet Linear Synchronous motor (PMLSM). In our design and analysis, rotor consisting of permanent magnets and slot less iron-cored coil stator are treated in a uniform way via vector potiential. For one such motor structure we give analytical formulas for its magnetic field, opitimal permanent magnet and winding coil thickness, trust force. We also provide comparisons of three types in Halbach, vertical, and horizontal magnet array.
New fabrication technique was developed to make three dimensional silicon microstructure with five fold vertical steps through entire wafer thickness. Each step is pre-defined on multiply stacked thermal oxide and silicon nitride (O/N) layers by photolithographies. Multi-stepped silicon microstructure is formed by anisotropic etch in aqueous KOH solution with the patterned nitride film as masking layer. Fabricated microstructure consists of four $16{\mu}m$ thick flexural spring beams, $290{\mu}m$ thick proof mass, mesas for overrange stop with $10{\mu}m$ height from the surface of the proof mass, and the other mesas and V grooves used for assembling this structure to the packaging frame of pendulous servo accelerometer. Using the numerical finite element method (FEM) simulator: ABAQUS, mechanical characteristics of the fabricated microstructure by the developed technique was compared with those of the same structure processed by one step silicon bulk etch followed by oxidation and patterning the etched region.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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