• 한국진공학회지
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• 제1권1호
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• pp.83-87
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• 1992

최근 Angle Resolved Ultraviolet Photoemission Spectroscopy(ARUPS)를 통하여 Mo(011)과 W(011)의 surface Fermi contour에 관한 연구가 발표되었다. Hydrogen 흡착시 W(011)의 electron contour는 팽창하였다. 이것은 electron contour를 이루는 surface state가 hydrogen 흡착시 higher binding energy로 이동한 결과이다. Surface state의 higher binding energy로의 이동은 결국 band flattening으로 이해되며, 이 band flattening 에 S.E.Trullinger의 long range dipole dipole force와 Kohn anomaly 현상을 부합시켜 W(011) surface에 수소 흡착시 일어나는 reconstruction 현상에 대한 설명을 시도해 보았다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
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• pp.178.2-178.2
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• 2013

Conventional ultraviolets A,B,C are known to be very important factor of killing, changing surface properties of biological cells and materials. It is of great importance to investigate the influence of extreme ultraviolet (EUV) exposure on the biological cell. Here we have studied high density EUV plasma and its emission characteristics, which have been generated by plasma focus device with hypercycloidal pinch (HCP) electrode under various Ar gas pressures ranged from 30~500 mTorr in this experiment. We have also measured the plasma characteristics generated from the HCP plasma focus device such as electron temperature by the Boltzman plot, plasma density by the Stark broading method, discharge images by open-shuttered pin hole camera, and EUV emission signals by using the photodiode AXUV-100 Zr/C.

• 한국진공학회지
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• 제13권1호
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• pp.39-45
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• 2004

UV-나노임프린팅 (Ultraviolet-Nanoimprinting Lithography:UV-NIL) 공정 기술은 수십 나노에서 수 나노미터 크기의 구조물을 적은 비용으로 대량생산 할 수 있다는 장점을 가지고 있는 기술로 최근 전세계적으로 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 반도체 공정 중 마스크 제작 공정을 이용하여 나노패턴을 가진 5${\times}$5${\times}$0.09 인치 크기의 수정스탬프(quartz stamp)를 제작하였고, 임프린팅 (imprinting)시에 레지스트(resist)와 스탬프(stamp) 사이에서 발생하는 점착현상(adhesion)을 방지하고자 그 표면에 Fluoroalkanesilane(FAS) 표면처리를 하였다. 웨이퍼의 평탄도를 개선하고 친수(hydrophilic) 상태의 표면을 만들기 위해 그 표면에 평탄화층을 스핀코팅하였고, 1 nl의 분해능을 가진 디스펜서(dispenser)를 이용하여 레지스트 액적을 도포하였다. 스템프 상의 패턴과 레지스트에 임프린트된 패턴은 SEM, AFM 등을 이용하여 측정하였으며, EVG620-NIL 장비를 이용한 임프린팅 실험에서 370 nm - 1 um 크기의 다양한 패턴을 가진 스탬프의 패턴들이 정확하게 레지스트에 전사됨을 확인하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제43회 하계 정기 학술대회 초록집
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• pp.235-235
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• 2012

We investigated the energy levels of valence region at the planar junction of poly (3-hexylthiophene) (P3HT) and C61-butyric acid methylester (PCBM) using ultraviolet photoemission spectroscopy (UPS) with ultra high vacuum. These are the most widely used materials for bulk heterojunction (BHJ) organic solar cells due to their high efficiency. In order to make the planar junction, we carried out the electrospray vacuum deposition (EVD) of PCBM onto spin-coated P3HT in high vacuum conditions (${\sim}10^{-5}-10^{-6}$). The planar junction interface exhibited 0.71 eV for the offset between P3HT HOMO and PCBM LUMO, which is different from the gap (0.85 eV) of individual values and is closer to the open circuit voltage of solar cells fabricated with the same material combination.

• 한국진공학회지
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• 제18권2호
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• pp.92-96
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• 2009

최근 3전극 면방전형 AC-PDP 효율 향상을 위해 높은 Xe 함량비의 방전기체에 대한 연구가 수행되고 있으나, Xe 함량의 증가로 인한 방전전압의 상승 문제는 여전히 해결되지 못한 실정이다. 본 연구에서는 높은 Xe 함량을 가지는 저압의 방전기체를 사용하여 기존 고압(400 Torr 이상)의 방전기체와 방전특성을 비교분석하고, 특히 진공자외선 발광특성을 분석하였다. 실험결과 Ne+Xe (30%) 200 Torr 방전기체와 Ne+Xe (15%) 400 Torr 방전기체의 방전 개시전압은 각각 354V 와 389V 로서, 방전 개시전압은 35V 정도 낮아졌으나, 140nm$\sim$200nm 영역의 진공자외선의 방출량은 유사한 경향을 보임으로써 결과적으로 Ne+Xe (30%) 200 Torr 방전기체의 진공자외선 발광효율이 약 30%, 증가됨을 확인할 수 있었다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2009년도 제37회 하계학술대회 초록집
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• pp.411-411
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• 2009

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1997년도 하계학술대회 논문집 E
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• pp.1666-1668
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• 1997

This paper reports the optimal gas mixing ratio for color plasma display panel to improve luminous efficiency using gas dischage simulation which contains energy equation. We verified a simulation by measuring vacuum ultraviolet. The luminous efficiency has improved considerably(about 30%) by adding Ar (0.5%), compared with Ne-Xe(4%) mixing gas.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2008년도 제35회 하계학술대회 초록집
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• pp.295-295
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• 2008

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2006년도 제31회 학술논문발표회 초록집
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• pp.134-134
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• 2006

• 한국진공학회지
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• 제12권4호
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• pp.275-280
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• 2003

Si(III) 표면위에 Gd$_2O_3:Eu^{3+}$ 결정성 형광체 박막을 이온화 집단체 증착방법으로 증착하여 이온선을 주입, 결정을 파괴한 후에 열처리를 통하여 결정구조를 변화시켰다. 초기 생장시의 결정성은 고에너지 전자회절 (RHEED)을 통해 확인하고, X선 회절과 적외선 분광법을 이용하여 시료의 결정구조의 변화를 관측하였다. Near Edge X-ray Absorption Fine Structure (NEXAFS)를 통해 전자구조의 변화를 확인하였다. 이러한 변화들이 발광 특성에 미치는 영향을 Photoluminescence (PL), Cathodoluminescence (CL), 그리고 Vacuum Ultraviolet (VUV) spectrum으로 알아보았다. 본 연구는 결정구조에 의해 변화된 전자구조가 형광체 박막의 발광특성에 미치는 영향을 보고한다.