The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.53
no.4
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pp.218-224
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2004
We present a miniature Direct Methanol Fuel Cell (micro-DMFC) using platinum sputtered microcolumn electrodes with a limited amount of fuel. We use the microcolumn electrode in order to improve the power density of the micro-DMFC that consists of two electrodes and polymer electrolyte. We also design the built-in fuel chamber in the anode for the portable electronics applications. We design and fabricate both microcolumn and planar electrodes, having an identical projective area of 5mm${\times}$5mm. The diffusion current density of the microcolumn electrode is 1.73 times higher than that of the planar electrode at electrode potential of 1.1V in the half-cell test. The micro-DMFC based on the microcolumn electrodes shows the maximum power of 10.8$\pm$7.54㎼(43.23$\pm$0.16㎼/$\textrm{cm}^2$) at the projective area of 5mm${\times}$5mm, while the planar electrode micro-DMFC shows the maximum power of 0.81$\pm$0.42㎼(3.24$\pm$1.68㎼/$\textrm{cm}^2$) at the same projective area. The micro-DMFC based on the microcolumn electrodes shows 13 times higher power density that the micro-DMFC based on the planar electrodes does.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.7
no.1
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pp.7-11
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2006
Through SCM modeling, we found that the depletion layer in silicon was of a form of a spherical capacitor with the SCM tip biased. Two-dimensional (2D) finite differential method code with a successive over relaxation (SOR) solver has been developed to model the measurements by SCM of a semiconductor wafer that contains an ion-implanted impurity region. Then, we theoretically analyzed the spherical capacitor and determined the total depleted-volume charge Q, capacitance C, and the rate of capacitance change with bias dC/dV. It is very important to observe the depleted carriers' movement in the silicon layer by applying the bias to the tip. So, we calculated the depleted-volume charge, considering different factors such as tip size, oxide thickness, and applied bias (dc+ac), which have an influence on potential and depletion charges.
KrF 펄스 레이저 증착법(pulsed laser deposition: PLD)으로 ZnO 박막을 증착하여 평판 디스플레이 소자 구동용 박막 트랜지스터(thin film transistor) 소자를 제작하였다. 전도성이 높은 실리콘웨이퍼(c-Si, 하부전극) 기판 위에 LPCVD 법으로 silicon nitride 박막을 절연막으로 형성하고, 다양한 공정 조건에서 펄스 레이저 증착법으로 제작한 ZnO 박막을 증착하여 채널층으로 하였으며, Al 박막을 증착하고 패터닝하여 소스 및 드레인 전극으로 하였다. ZnO 박막의 증착 시에 기판 온도를 다양하게 조절하고 산소 분압을 변화시켜 ZnO 박막의 특성을 조절하였다. 제작된 박막의 표면특성은 AFM(atomic force microscopy)로 분석하고, 결정특성은 XRD(X-ray diffraction)로 조사하였다. ZnO 박막의 전기적 특성은 Hall-van der Pauw 법으로 측정하였고, 광학 투과도(optical transparency)를 UV-visible photometer로 조사하였다. ZnO-TFT 소자는 $10^6$ 수준의 on-off ratio와 $2.4{\sim}6.1cm^2/V{\cdot}s$의 전계효과이동도(field effect mobility)를 보였다.
The Cu nanofluid in ethylene glycol was prepared by electrical explosion of wire, a novel one-step method. The X-ray diffraction, field emission scanning electron microscope and transmission electron microscope were used to study the properties of Cu nanoparticles. The results showed that the nanoparticles were consisted of pure face-centered cubic structure and near spherical shape with average grain size of 65 nm. Ultraviolet-visible spectroscopy (UV-Vis) confirmed Cu nanoparticles with a single absorbance peak of Cu surface plasmon resonance band at 600 nm. The nanofluid was found to be stable due to high positive zeta potential value, +51 mV. The backscattering level of nanofluid in static stationary was decreased about 2% for 5 days. The thermal conductivity measurement showed that Cu-ethylene glycol nanofluid with low concentration of nanoparticles had higher thermal conductivity than based fluid. The enhancement of thermal conductivity of nanofluid at a volume fraction of 0.1% was approximately 5.2%.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2000.07a
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pp.573-576
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2000
The physical, electrical and piezoresitive characteristics of CrN(chromium nitride) thin-films on silicon substrates have been investigated for use as strain gauges. The thin-film depositions have been carried out by DC reactive magnetron sputtering in an argon-nitrogen atmosphere(Ar-(5∼25 %)Na$_2$). The deposited CrN thin-films with thickness of 3577${\AA}$ and annealing conditions(300$^{\circ}C$, 48 hr) in Ar-10 % N$_2$deposition atmosphere have been selected as the ideal piezoresistive material for the strain gauges. Under optimum conditions, the CrN thin-films for the strain gauges is obtained a high electrical resistivity, $\rho$=1147.65 ${\mu}$$\Omega$cm, a low temperature coefficient of resistance, TCR=-186 ppm/$^{\circ}C$ and a high temporal stability with a good longitudinal gauge factor, GF=11.17.
Kim, Chang-Il;Lim, Eun-Kyeong;Paik, Jong-Hoo;Im, Jong-In;Lee, Young-Jin;Choi, Byung-Hyun;Kim, Jeong-Seok;Jung, Seok;Choi, Eun-Ha
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2006.06a
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pp.481-482
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2006
플라즈마 화상표시기 (PDP)의 보호막 물질로 사용 중인 다결정 MgO의 특성을 개선하기 위하여 본 연구에서는 MgO에 희토류계 원소를 치환하여 제조하였으며, 치환량에 따른 MgO 보호막의 광학적 특성과 전기적 특성을 고찰하였다. MgO + 100 ppm $Gd_2O_3$조성으로 제작한 MgO 박막의 이차전자 방출계수 값이 순수 MgO 보다 35% 높게 나타났다. $Gd_2O_3$ dopant가 100 ppm 첨가시까지 밀도가 증가하였으나, 그 이상 첨가시 감소하는 경향을 나타냈다. 가속전압 200 V에서 이차전자 방출계수는 0.138 이었고 표면거칠기는 5.77 nm 이었으며 투과율은 550 nm 에서 95.76% 이었다.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.204-205
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2007
Self-seed 층을 이용한 PLZT(9/65/35), 강유전체 박막을 Sol-Gel 법을 이용해 Pt/Ti/$SiO_2$/Si 기판 위에 증착한 후, Self-seed 층에 의한 PLZT(9/65/35) 박막의 구조적, 전기적 특성을 고찰하였다. Seed 층을 도입하지 않은 PLZT 박막의 경우 다결정 상으로 형성되는 것을 알 수 있었으며, seed 층을 도입한 PLZT 박막은 (110) 방향으로 우선 배향됨을 알 수 있었다. 증착된 PLZT(9/65/35) 박막의 유전율 및 유전손살은 10kHz에서 유전율 205, 유전손살 0.029 이었으며, Self-seed layer를 도입한 PLZT 박막의 경우 seed layer를 도입하지 않은 PLZT 박막보다 낮은 온도에서 결정화 되는 것을 관찰 할 수 있었다. Self-seed layer가 도입된 PLZT(9/65/35) 박막의 경우 잔류분극 ($P_r$) 값은 $9.1{\mu}C/cm^2$, 항전계($E_c$)는 47 kV/cm을 나타내었다.
Journal of Physiology & Pathology in Korean Medicine
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v.19
no.2
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pp.501-507
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2005
Shikonin is a chemically characterized component of traditional herbal medicine, the root of Lithospermum erythrorhizon and has been shown to possess antitumor activities. Here we investigated anticancer potential of shikonin and its possible mechanism of action in LLC cells. Shikonin inhibited the proliferation of LLC cells in a concentration-dependent manner. It was also demonstrated that shikonin induced apoptosis in LLC cells by Annexin V staining and TUNEL staining analysis. Shikonin treatment was caused that decrease of Bcl-2, activation of caspases and cleavage of PARP. And shikonin also induced that the activation of mitogen-activated protein kinases (MAPKs), such as extracellular signal-regulated kinase (ERK), c-Jun N-terminal kinase (JNK) and p38. Interestingly, the cell proliferation inhibition induced by shikonin was recovered by specific inhibitors of JNK and p38 but the inhibitor of MEK, the upstream kinase of ERK, did not recover. Additionally, shikonin administration at doses of 5 mg/kg in C57BL/6 mice strongly inhibited the primary tumor growth of LLC. Taken together, these results suggest that shikonin may suppress LLC cell proliferation by inducing an apoptotic process via activation of caspases and MAPKs
Adhesion and hardeness are the most important properties of a hard coated layer which is applied to wear-resistant devices. Zr/ZrN layer was deposited on tool steel(SKH9) and stainless steel(SUS304) by a re-active D.C. magnetron sputtering technique and their microhardness and adhesion strength were measured for the films processed by changing the partial pressures of $N_2$ gas (4~10$\times$$10^{-4}$mbar) and the substrate bias voltage(0~250V). The adhesion strength was evaluated by acoustic signals through the scratch-test with the incremental applied load. As the partial pressure of $N_2$ gas and the substrate bias voltage were increased, the adhesion strength of tool steel was observed to be stronger than that of the stainless steel. The adhesion strength was generally, observed to decrease with the same tendency regardless of the kinds of substrates. The adhesion strength of tool steel was increased more and more strongly than that of stainless steel as heat-treated temperature was increased. The strength of tool steel was appeared to be high adhesion strength at $400^{\circ}C$. From the failure mode of the film during the scratch adhesion test, the cohesive failure was observed to be obvious and the adhesive failure in a minor portion in the Zr/ZrN doublelayer regardless of the kinds of substrates.
We studied the critical pressure characteristics of an anode type ion beam source driven by both charge repulsion and diffusion mechanism. The critical pressure $P_{crit}$ of the diffusion type ion beam source was linearly decreased from 2.5 mTorr to 0.5 mTorr when the gas injection was varied in 3~10 sccm, while the $P_{crit}$ of the charge repulsion ion beam source was remained at 3.5 mTorr. At the gas injection of 10 sccm, the range of having normal beam shape in the charge repulsion ion beam source was about 6.4 times wider than that in the diffusion type ion beam source. An impurity of Fe 2p (KE = 776.68 eV) of 12.88 at. % was observed from the glass surface treated with the abnormal beam of the charge repulsion type ion beam source. The body temperature of the diffusion type ion beam source was observed to increase rapidly at the rate of $1.9^{\circ}C/min$ for 30 minutes and to vary slowly at the rate of $0.1^{\circ}C/min$ for 200 minutes for an abnormal beam and normal beam, respectively.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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