• 제목/요약/키워드: Ultrasonic Cleaning

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초음파를 이용한 침출수 처리를 위한 막분리 공정의 막힘현상 개선(I) : 초음파의 영향인자 평가 (Improvement of Fouling in Membrane Separation Process for Leachate Treatment using Ultrasound(I) : Analysis of Ultrasonic Parameters)

  • 김석완;임재림;이준걸
    • 대한환경공학회지
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    • 제28권2호
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    • pp.197-206
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    • 2006
  • 본 연구에서는 최근 매립지 침출수 처리를 위해 많이 활용되고 있는 막분리 공정에 초음파를 적용하여 투과속도와 막의 세정효율 향상에 미치는 영향인자와 효과에 대하여 살펴보았다. 즉, 중공사 형태의 MF막과 관형의 UF막을 대상으로 초음파의 주파수($40{\sim}120$ kHz), 초음파의 세기($200{\sim}500$ W), 운전압력($0.1{\sim}2.3kg/cm^2$), 초음파 조사시간 등을 변화시키며 투과속도 향상에 미치는 영향을 평가하였다. 1차 처리된 침출수를 이용하여 초기 50 min 동안 막을 오염시킨 다음 70 min 동안 초음파를 조사하여 조사기간과 투과속도의 변화를 관찰하였다. 순수의 투과속도에 대한 투과속도의 회복률(recovery ratio)과 세정직전의 투과속도에 대한 초음파 조사 후 투과속도의 상승률(enhancement ratio)을 이용하여 영향인자를 분석하였다. 동일한 조건에서 막의 초음파 세정에 의한 투과속도 개선 효과는 주파수에 반비례적이며. 초음파의 조사강도에 비례적으로 나타났고, 막의 운전압력이 높으면 세정효과가 지연되며 투과속도의 개선효과도 감소하였다. 또한 10,000과 100,000 MWCO의 UF막에서의 회복율과 상승률은 각각 최대 75-98%와 40-50% 이었으나, $0.1{\mu}m$ MF막에서는 각각 10%와 500%였다. 1차 처리 침출수를 이용한 실험결과로부터 초음파에 의해 발생되는 기계적 진동을 활용한 막세정이 기존의 수세정과 약품세정 대신에 활용가능성이 확인되었다.

음선 기법을 이용한 초음파 음장 해석 (Ultrasonic Field Analysis Using a Sound-Ray Method)

  • 문병환;김진오
    • 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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    • 한국소음진동공학회 2001년도 추계학술대회논문집 II
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    • pp.1329-1334
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    • 2001
  • This paper deals with the application of a sound-ray method to the analysis of the sound field in an ultrasonic cleaner. In order to include the wave interference phenomenon, the method has been modified to consider the phase of sound rays, The improved algorithm has been implemented by developing a Visual C++ program, The algorithm has been verified by comparing the analysis results of BEM reported earlier. It has been shown that the algorithm can be used to calculate ultrasonic fields in a cleaning- container with an object to be cleaned.

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원자력산업에서 지르코늄 스크랩 재활용을 위한 세정기술에 관한 연구 (A Study of Cleaning Technology for Zirconium Scrap Recycling in the Nuclear Industry)

  • 이지은;조남찬;안창모;노재수;문종한
    • 청정기술
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    • 제19권3호
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    • pp.264-271
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    • 2013
  • 본 연구에서는 지르코늄 피복관 제조공정에서 발생되는 스크랩을 원전급(nuclear grade)으로 재활용하기 위해 스크랩 표면에 부착되어 있는 오염물 제거조건을 최적화하였다. 주 오염물은 피복관 제조시 필거링 공정에서 사용하고 있는 수용성 냉각윤활제 잔류물로서 튜브 표면에 압착 및 탄화된 것으로 가정된다. 스크랩 발생 빈도가 높은 ${\phi}9.50mm$, zirlo 합금 튜브를 피 세정 대상물로 선정하여 세정 후 피 세정물 표면에 잔존하고 있는 오염물의 특성분석과 피 세정물의 표면 성분분석으로 세정성을 평가하였다. 세정제별 세정능력을 평가하기 위하여 수산화나트륨(sodium hydroxide) 계열 2종과 수산화칼륨(potassium hydroxide) 계열 3종을 선정하여 비교하였다. 또한 온도 및 초음파 강도에 따른 세정 효과 분석을 위해 상온, $40^{\circ}C$, $60^{\circ}C$에서 각각 세정한 결과, 세정온도 및 초음파 강도가 높을수록 세정효과도 높은 것으로 나타났다. 육안검사 결과 수산화나트륨 계열은 초음파 강도와 무관하게 모두 양호한 것으로 나타났으나 수산화칼륨 계열은 초음파 강도 120 W 이상에서 피 세정물의 표면상태가 양호한 것으로 나타났다. 중량측정법에 의한 세정효과 분석결과 수산화나트륨 계열은 세정효율이 97.6% ($60^{\circ}C$, 120 W)까지 나타났으나 수산화칼륨 계열은 피 세정물의 표면상태 불량으로 중량측정 방법을 적용하는 것이 부적합한 것으로 나타났다. 피 세정물의 표면 오염물 분석 결과 C, O, Ca, Zr 성분이 검출되었으며 그 중 C, O의 성분이 대부분을 차지하였음을 알 수 있었다. 피 세정물의 세정 정도에 따라 C, O 구성 비율의 변화가 큰 것으로 나타났으며 세정이 잘될수록 C의 구성비율이 감소되며 상대적으로 O의 구성 비율이 증가되었다. 본 연구 결과를 바탕으로 산업현장에 적용하기 위하여 세정공정을 알카리세정, 수세, 건조의 3단계로 구분하고 각 단계별로 세정변수를 조정함으로써 세정효과의 극대화를 기대할 수 있다.

유기성 슬러지 반복 탈수에 의한 필터프레스 여과포 오염 특성 분석 및 초음파 세척 적용 평가 (Analysis of contamination characteristics of filter cloth in filter press by repeated dehydration of organic sludge and evaluation of ultrasonic cleaning application)

  • 김은주;정철진;김경우;송태규;한성국
    • 유기물자원화
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    • 제32권2호
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    • pp.15-25
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    • 2024
  • 본 연구에서는 하수슬러지 필터프레스 공정에서 발생하는 오염 여과포에 대하여 가압수 및 초음파 세척에 대한 재생효율을 평가하였다. 이를 위하여 3톤 규모 하수슬러지 수열탄화물 처리 필터프레스로부터 오염된 여과포를 채취하였다. 먼저, 필터프레스 여과포의 오염 특성을 평가하였다. 오염 여과포의 위치에 따른 공기투과도와 단위질량을 측정하였으며, 새 여과포 측정값과 비교하였다. 다음으로 오염 여과포 전체 면적에 대하여 공기투과도 및 단위질량 분포를 지도화하여 오염 특성을 평가하였다. 마지막으로 오염 여과포를 대상으로 3 bar의 압력 세정 및 34, 76, 120, 168 kHz 주파수의 초음파 세척을 수행하였다. 이때, 여과포의 기공 오염 정도를 3단계로 나누어 세척효율을 평가하였다. 여과포 오염 비교 결과, 기공 오염은 여과물질이 지속적으로 투입, 압착되는 여과포 하부와 양측면 위주로 발생하였으며, 표면 오염은 전체면적에 걸쳐 고르게 나타났다. 가압 세척 결과, 공기투과도는 1.3-3.1%p 증가하였으며, 오염물질은 2.7-4.4% 제거되었다. 초음파 세척결과, 공기투과도는 12.5-61.5%p 증가하였으며 오염물질은 2.7-29.2% 제거되었다. 초음파 세척에서 주파수가 낮을수록 공기투과도 재생율과 오염물질 제거율이 우수하였다. 여과포의 기공 오염 정도가 클수록 초음파 세척 후 공기투과도 향상 및 오염물질 제거 효과가 우수하였다.

2색 중첩 민인쇄의 광학적 해석과 중첩인쇄 순서에 관한 연구 (A Study on Optical Analysis and Overprinting Sequence in 2-Color Solid Overprints)

  • 강상훈
    • 한국인쇄학회지
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    • 제15권2호
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    • pp.1-4
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    • 1997
  • Existing cleaning solvent using screen printing are the organic solvents including aromatic compounds carried with poisonous and stench. besides, Cleaning method of current screen printing are for the most part mixed cleaning method of dipping and polish. Using 1,1,1-TCE, CFC-113 alternative system cleaning solvent be substituted for existing cleaning solvent against screen printing ink measured the cleaning efficiency according to gravimetric analysis method and property change of gassamer according to Image Analyzer. Also, Cleaning process system carry with excellent cleaning efficiency studied which was proposed new cleaning process including ultrasonic cleaning process be substituted for existing mixed cleaning method of dipping and polish.

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나노 버블과 메가소닉 초음파를 이용한 반도체 웨이퍼 세정장치 개발 (Development of Wafer Cleaning Equipment Using Nano Bubble and Megasonic Ultrasound)

  • 김노유;이상훈;윤상;정용래
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제22권4호
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    • pp.66-71
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    • 2023
  • This paper describes a hybrid cleaning method of silicon wafer combining nano-bubble and ultrasound to remove sub-micron particles and contaminants with minimal damage to the wafer surface. In the megasonic cleaning process of semiconductor manufacturing, the cavitation induced by ultrasound can oscillate and collapse violently often with re-entrant jet formation leading to surface damage. The smaller size of cavitation bubbles leads to more stable oscillations with more thermal and viscous damping, thus to less erosive surface cleaning. In this study, ultrasonic energy was applied to the wafer surface in the DI water to excite nano-bubbles at resonance to remove contaminant particles from the surface. A patented nano-bubble generator was developed for the generation of nano-bubbles with concentration of 1×109 bubbles/ml and nominal nano-bubble diameter of 150 nm. Ultrasonic nano-bubble technology improved a contaminant removal efficiency more than 97% for artificial nano-sized particles of alumina and Latex with significant reduction in cleaning time without damage to the wafer surface.

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타이타늄 터닝 스크랩 내 절삭유 제거를 위한 초음파 침지-스팀 및 고온 건조 공정 (Ultrasonic Immersion-steam Cleaning and High Temperature Drying Process for Removing Cutting Oil on Titanium Turning Scraps)

  • 채지광;유수환;오정민;임재원
    • 자원리싸이클링
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    • 제30권1호
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    • pp.60-65
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    • 2021
  • 타이타늄 터닝 스크랩을 재활용하기 위해서는 표면에 남아있는 절삭유나 기타 오염물을 제거해야할 필요가 있다. 본 연구에서는 초음파 침지-스팀의 복합 세척 공정을 활용하여 타이타늄 스크랩을 세척하고, 건조 조건을 달리하여 절삭유를 제거하는 실험을 진행하였다. 또한 절삭유 제거 메커니즘 확인을 위한 접촉각 측정을 통해 타이타늄 터닝 스크랩의 침지 용액 최적 농도를 확인하였다. 피로인산나트륨 용액에 침지 세척 시 50℃에서 절삭유 내 탄소 제거율이 가장 높았으며, 스팀 세척-초음파 침지-스팀 세척 순으로 진행하는 것이 초음파 침지 후 스팀 세척을 실시하는 것보다 탄소 함량이 낮은 것을 확인했다. 타이타늄 스크랩의 TGA 분석을 통해 산화 및 절삭유의 분해 거동을 조사하고 고온 건조에 적용하였다. 건조 후 탄소와 산소 함량을 고려 시 200℃에서 2시간 건조를 하는 것이 최적의 조건임을 확인하였다.

신경망에 의한 CIE $L^{*}a^{*}b^{*}$-CMY의 비선형 색변환 (A Method of Nonlinea Color Transform from CIE $L^{*}a^{*}b^{*}$ to CMY Value by Neural Network)

  • 서봉우
    • 한국인쇄학회지
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    • 제15권1호
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    • pp.57-69
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    • 1997
  • The field of printing to use pressurized ink using screen gossamer that is called screen printing. Existing cleaning solvents for the screen printing are the organic solvents containing aromatic compounds and stench. Also, Cleaning method of screen printing are for the most part mixed cleaning method of dipping and polish. In this study, we measured the cleaning efficiency by gravimetric analysis and the property change of gossamer by image analyzer using existing cleaning solvent. Also, we investigated a new cleaning process showing excellent cleaning efficiency using the ultrasonic and vibration cleaning method instead of the exsiting mixed cleaning method.

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Full Bridge Resonant Inverter Using Asymmetrical Control with Resonant-frequency Tracking for Ultrasonic Cleaning Applications

  • Jittakort, Jirapong;Sangswang, Anawach;Naetiladdanon, Sumate;Koompai, Chayant;Chudjuarjeen, Saichol
    • Journal of Power Electronics
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    • 제17권5호
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    • pp.1150-1159
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    • 2017
  • Flexibility in the power control of ultrasonic transducers has remained a challenge for cleaning applications. This paper introduces a modification of the existing piezoelectric ceramic transducer (PCT) circuit to increase the range of operation through its impedance characteristics. The output power is controlled using the asymmetrical voltage-cancellation (AVC) method. Together with a phase-locked loop control, the switching frequency of the inverter is automatically adjusted to maintain a lagging phase angle under load-parameter variations during the cleaning process. With the proposed modification, the region of the zero-voltage switching (ZVS) operation is extended, which results in a wider range of output power control. A hardware prototype is constructed and the control algorithm is implemented using an STM32F4 microcontroller. Simulation and experimental results are provided to verify the proposed method for a 50-W PCT. The operating frequency and output power ranges under study are 37 - 41 kHz and 15.8 - 50 W, respectively.