The characteristics of disinfection and organic removal were investigated with pulse UV lamp in this study. The intensity and emission wavelength of pulse UV Lamp were compared with low pressure UV lamp. The emission spectrum range of pulse UV lamp was between 200 and 400 nm while the emission spectrum of low pressure UV lamp was only single wavelength of 254nm. 3 Log inactivation rate of B. subtilis spore by pulse UV and low pressure UV irradiation was determined as $44.71mJ/cm^2$ and $57.7mJ/cm^2$, respectively. This results implied that wide range of emission spectrum is more effective compared to single wavelength emission at 254nm. 500ng/L of initial 2-MIB concentration was investigated on the removal efficiency by UV only and $UV/H_2O_2$ process. The removal efficiency of UV only process achieved approximately 80% at $8,600mJ/cm^2$ dose. 2-MIB removal rate of $UV/H_2O_2$ (5 mg/L $H_2O_2$) process was 25 times increased compared to UV only process. DOC removal efficiency for the water treatment plant effluent was examined. The removal efficiency of DOC by UV and $UV/H_2O_2$ was no more than 20%. Removal efficiency of THMFP(Trihalomethane Formation Potential), one of the chlorination disinfection by-products, is determined on the UV irradiation and $UV/H_2O_2$ process. Maximum removal efficiency of THMFP was approximately 23%. This result indicates that more stable chemical structures of NOM(Natural Organic Matter) than low molecule compounds such as 2-MIB, hydrogen peroxide and other pollutants affect low removal efficiency for UV photolysis. Consequently, pulse UV lamp is more efficient compared to low pressure lamp in terms of disinfection due to it's broad wavelength emission of UV. Additional effect of pulse UV is to take place the reactions of both direct photolysis to remove micro organics and disinfection simultaneously. It is also expected that hydrogen peroxide enable to enhance the oxidation efficiency on the pulse UV irradiation due to formation of OH radical.
본 연구는 시설에서 자란 콘테이너 묘목(苗木)의 경화과정(硬化過程)에 UV-B의 이용 가능성을 탐색하고자 생장상(生長箱)에서 4개월간 생육(生育)시킨 자작나무 묘목을 대상으로 UV-$B_{BE}$$3.2KJ\;m^{-2}\;day^{-1}$과 $5.2KJ\;m^{-2}\;day^{-1}$ 수준의 UV-B 처리와 수분(水分)스트레스 처리(處理)를 4주간 실시하여 경화처리 전(前), 후(後)의 생장(生長) 및 생리적(生理的) 특성을 비교 분석하였다. UV-B 또는 수분스트레스 처리는 수고생장(樹高生長), 잎의 건물량축적(建物量蓄積)을 감소시켰다. UV-B 처리는 근원경생장(根元徑生長)을 감소시켰으나 수분스트레스 처리는 근원경생장을 증진시켰다. UV-B 처리 또는 수분스트레스 처리에 의한 잎의 건물량감소는 묘목의 T/R율을 감소시켰다. T/R율의 감소효과는 수분스트레스 처리에서 가장 크게 나타났다. 엽록소(葉緣素) 지수(指數)는 UV-B 5.2에서 가장 낮았으며 UV-B 3.2와 수분스트레스 처리에서는 비슷한 수준이었다. UV-B 또는 수분스트레스 처리는 콘테이너 묘목의 함수율(含水率)과 수분포텐셜을 낮추었으며 삼투압(滲透壓)을 높혔다. 경화처리에 의한 잎과 줄기의 함수율 감소는 UV-B 처리에 의해서는 빠르게 일어났으나 수분스트레스 처리에 의해서는 보다 서서히 일어났다. 이상의 결과를 보면, 자작나무 콘테이너 묘목의 경화단계에 처리된 UV-B에 의한 생장반응(生長反應) 및 수분생리(水分生理) 변화는 수분스트레스 처리에서의 효과와 유사한 면이 관찰되었다.
본 연구에서는 고분자형 자외선 안정제 DGEBA-HALS의 광분해 억제 효과를 평가하기 위해 SBR과 NR 고무를 사용하여 광안정제 첨가에 따른 UV 조사 영향을 고찰하였다. 이를 위해 광안정제를 첨가하지 않은 배합고무, 상용화된 광안정제인 Cyabsorb UV-3529를 첨가한 배합고무, 그리고 고분자형 DGEBA-HALS를 첨가한 배합고무의 영율, 인장강도, blow-off 변형, 가교밀도 측정을 통한 시편의 물리적 특성변화 등을 관찰하였다. UV 조사 후 모든 시편에서 영율이 증가하였으며 인장강도는 광안정제를 첨가한 시편이 첨가하지 않은 시편보다 우수했다. 특히 NR의 경우 DGEBA-HALS 첨가 시 인장강도가 향상되었다. Blow-off 변형 실험결과도 영율 실험 결과와 비슷하였다. UV-vis transmission spectra를 통한 SBR 배합고무의 투과도를 조사한 결과 광안정제를 첨가함으로써 약 4%의 향상된 투과도를 보였다. Cyabsorb UV-3529와 DGEBA-HALS의 첨가는 비슷한 경향의 투과도를 나타내었다. SEM을 통해 시편의 표면을 관찰한 결과 광안정제를 첨가함으로써 UV 조사에 의한 균열의 크기가 작아짐을 알 수 있었고, 특히 DGEBA-HALS는 상용화된 Cyabsorb UV-3529 보다 더 좋은 광분해 안정효과를 갖는 것을 확인할 수 있었다.
In order to investigate low molecular antioxidants synthesized by enhanced UV-B radiation, we used the seedlings of two rice varieties. Woonjangbyeo, UV-tolerant, and Hwajoongbyeo, UV-susceptible, were subjected under supplemental UV-B irradiation. When rice seedlings were irradiated with UV light for short period, biosynthesis of total phenolic compound, ascorbate and glutathione were momently reduced. With an increase of UV-B radiation, however, those were slightly synthesized. The content of lipid peroxides in UV-challenged rice leaves was considerably increased after 12 hrs of UV-B treatment. Lipoxygenase activity under supplemental UV-B radiation was differently responded on rice varieties.
High-density image sensors rave microlens array to improve photosensitivity. It is conventionally fabricated by reflow process. The reflow process has some weak points. UV imprinting process can be proposed as an alternative process to integrate microlens array on photodiodes. In this study, the UV imprionting process to integrate microlens array on image sensor was developed using UV transparent flexible mold and simulated image sensor substrate. The UV transparent flexible mold was fabricated by replicating master pattern using siliconacrylate photopolymer. The releasing property and shape accuacy of siliconacrylate mold was analysed. After UV imprinting process, replication quality and align accuracy was analysed.
본 연구는 시력교정용 안경렌즈의 재질에 따른 자외선 차단 성능을 확인하고자 하였다. 안경렌즈 Acryl, CR-39, NK-55, MR-8 재질의 렌즈에 대하여 흠집 방지와 반사방지 코팅을 한 렌즈 Group A와 여기에 자외선 차단 코팅을 추가한 렌즈 Group B, 그리고 자외선 차단 전용렌즈 Group C에 대하여 자외선 투과율을 측정하였다. 그 결과, UV-A 파장에서 Group A는 CR-39 렌즈가 7.726 %, NK-55 렌즈, 0.043 %, MR-8과 Acryl 렌즈, 0.007 % 순 이었으며 Group B는 CR-39 렌즈가 0.038 %, NK-55 렌즈, 0.037 %, MR-8과 Acryl 렌즈, 0.007 % 순으로 나타나 CR-39 렌즈의 자외선 차단 성능이 크게 개선되었다. Group C는 굴절률이 1.60과 1.67에서 각각 0.005 %, 0.004 %로 나타나 자외선 차단 성능이 가장 우수하였다. 저 도수의 렌즈와 썬글라스의 경우, CR-39 렌즈를 가장 많이 사용하는 현실에서 자외선 차단을 위한 새로운 재질 또는 자외선 흡수제, 자외선 차단코팅 기술 등의 융 복합적 기술개발이 요구된다고 하겠다.
광감응성 sol-gel 용액을 사용하여 spin coating법으로 $IrO_2$전극 위에 $Sr_{0.9}$$Bi_{2.1}$$Ta_2$$O_{9}$ 박막을 성막하였다. UV 노광이 SBT 박막에 어떤 영향을 미치는지 알아보기 위해 UV 노광을 한 시편과 하지 않은 시편을 XRD 및 SEM로 분석한 결과 UV 노광이 SBT 결정성장을 촉진함을 확인할 수 있었다. UV 노광을 하고 $740^{\circ}C$ 산소분위기에서 1시간 로열처리 한 SBT 박막의 경우 2Pr 값은 5V 인가전압하에서 11.48$\mu$C/$ extrm{cm}^2$, Pr/Ps 값은 0.53이었고 660-$740^{\circ}C$에서 UV 노광을 하지 않은 시편에 비해 UV 노광을 한 시편들에서 약 12% 높은 2Pr 값을 얻었다.
손발톱 관리를 위해 UV 젤의 이용이 점차 증가하고 있다. UV 젤에 필요한 UV 램프를 개발하기 위해 본 연구에서는 UV LED 램프 구성 회로를 설계하였다. 여러 개의 UV LED들에 일정한 전원을 공급하는 전원부는 DC-DC 컨버터 방식의 회로로 설계를 하였다. 그리고 엄지손톱의 방향과 소지손톱의 위치를 고려하여 UV LED들을 배치하였다. 전원부의 입력전원은 3.8[V]의 전지전압을 사용하였다. 전원부의 출력전압은 약 3.1[V]로 나타났으며, UV LED들이 소모하는 전류량에 따른 출력전압의 변화 상태를 알아보기 위해 부하저항을 삽입한 후 부하저항을 변화시켜 가면서 시뮬레이션 한 결과에서도 출력전압은 약 3.0[V] 이상으로 나타났다.
UV-curable resins have adventages of quick set, space saving, clean environment, and efficient use of energy. The polymerization induced phase separation has been studied to solve the problem in UV-curing of thick films and develop the new functional materials. On the exposure to UV irradiation, the dynamic elasticity properties were mesured for mixtures of alkyd resin and UV-cruable monomers which have different molecular structures and molecular weights. The curing rate increases with increasing temperature and UV intensity. In addition, The gel point is strongly influenced by temperature and UV intensity
본 연구는 UV-A 노출에 의해 유발된 안구 내에 존재하는 항산화효소인 catalase와 superoxide dismutase(SOD)의 변성을 차단할 수 있는 안경렌즈의 적절한 UV-A 차단율을 알아보기 위해 수행하였다. Catalase와 SOD를 1, 3, 6, 24, 96시간 동안 365 nm의 UV-A에 노출시켜 노출시간에 따른 단백질의 변성 정도를 아크릴아미드 겔 전기영동법으로 확인하였다. 또한, 20, 50, 80 및 99% UV 차단 효과를 가진 안경렌즈로 UV-A를 차단하였을 때 catalase와 SOD의 변성이 억제될 수 있는 지를 알아보았다. Catalase는 3시간 이상의 UV-A 노출에 의해 변성되기 시작하였다. 그러나, SOD는 6시간 이상 노출시에 변성이 되기 시작하였다. 99% 차단렌즈에 의해 3시간 동안의 UV-A 노출에 의한 catalase 변성을 완전히 억제할 수 있었다. 그러나 노출시간이 3시간보다 길어지거나 차단율이 99%보다 낮은 렌즈를 사용한 경우, 어느 정도까지는 변성 억제작용은 있었으나 완벽하게 변성을 억제하지는 못하였다. 비록 50% 차단율을 가진 렌즈는 UV-A에 대한 SOD의 변성에 대해 부분적인 억제 작용을 나타냈으나, 80% 및 99%의 차단율을 가진 안경렌즈는 UV-A에 의한 SOD의 변성을 완전히 억제하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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