Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.08a
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pp.240-240
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2011
투명전도성 산화물 박막은 넓은 밴드갭을 가지고 있으며 금속 도핑에 따라서 낮은 저항과 높은 투과도를 가지고 있다. 이러한 투명전도성 산화물 박막은 광학 디바이스, 유기광전자 디바이스(OLED) 및 태양전지 등 다양한 분야에 응용이 되고 있다. 또한 이러한 투명전도성 산화물 박막중에서도 AZO 박막은 실리콘 태양전지의 전극으로 사용이 되며, 이를 식각하여 다양한 모양을 가지는 박막으로 성장시킬 경우 빛의 산란 및 포집 효과에 의해서 태양전지의 current density를 증가시키는 요인이 된다. 본 연구에서는 AZO 박막을 RF magnetron sputtering법을 이용하여 유리 기판위에 성장하였다. 또한, 성장된 AZO 박막은 염산, 질산, 황산, 인산, 초산 등의 다양한 산성용액을 이용하여 식각을 하였다. 그 결과 식각률은 식각용액의 농도 및 pH에 따라서 다양한 변화를 보였으며, 식각된 AZO 박막은 실리콘 태양전지에 응용이 가능할 것으로 기대된다.
Kim, Jun-Dong;Yun, Ju-Hyeong;Ji, Sang-Won;Park, Yun-Chang;Anderson, Wayne A.;Han, Seok-Gyu;Kim, Yeong-Guk;Kim, Jae-Hyeon;Anderson, Wayne A.;Lee, Jeong-Ho;Lee, Jun-Sin
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.90-90
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2011
Transparent conducting oxide (TCO) films have been intensively utilized in the electric applications, such as, displays, lightings and solar cells due to the good electric conductivity with an excellent transmittance of the visible light. We, herein present an excellent Al-doped ZnO film (AZO), which has been fabricated by co-sputtering method. An as-deposited AZO film had an optical transmittance of 84.78% at 550 nm and a resistivity of $7.8{\times}10^{-3}{\Omega}cm$. A rapid annealing process significantly improved the optical transmittance and electrical resistivity of the AZO film to 99.67% and $1{\times}10^{-3}{\Omega}cm$, respectively. The fabricated AZO film was fabricated for a metal-semiconductor-metal (MSM) structure. The AZO film-embedding MSM device was highly responsive to a UV light.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2018.06a
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pp.56-56
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2018
Transparent conductive oxides (TCOs) have attracted attention due to their high electrical conductivity and optical transparency in the visible region. Consequently, TCOs have been widely used as electrode materials in various electronic devices such as flat panel displays and solar cells. Previous studies on TCOs focused on their electrical and optical performances; there have been numerous attempts to improve these properties, such as chemical doping and crystallinity enhancement. Recently, due to rapidly increasing demand for flexible electronics, the academic interest in the mechanical stability of materials has come to the fore as a major issue. In particular, long-term stability under bending is a crucial requirement for flexible electrodes; however, research on this feature is still in the nascent stage. Hydrogen-incorporated amorphous In-Sn-O (a-ITO) thin films were fabricated by introducing hydrogen gas during deposition. The hydrogen concentration in the film was determined by secondary ion mass spectrometry and was found to vary from $4.7{\times}10^{20}$ to $8.1{\times}10^{20}cm^{-3}$ with increasing $H_2$ flow rate. The mechanical stability of the a-ITO thin films dramatically improved because of hydrogen incorporation, without any observable degradation in their electrical or optical properties. With increasing hydrogen concentration, the compressive residual stress gradually decreased and the subgap absorption at around 3.1 eV was suppressed. Considering that the residual stress and subgap absorption mainly originated from defects, hydrogen may be a promising candidate for defect passivation in flexible electronics.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.40
no.3
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pp.144-148
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2007
To prepare the transparent electrode for electronic devices such as flat panel or flexible displays, solar cells, and touch panels; tin doped $In_2O_3$ (ITO) films with low resistivity and a high transparency were fabricated using a facing target sputtering (FTS) system at the various oxygen gas flow rate. The carrier concentration and mobility of ITO films were measured by Hall Effect measurement. And the transmittance was measured using the UV-VIS spectrometer. As a result, we can obtain the ITO thin films prepared at 10% oxygen gas flow ratio, thickness 150 nm with transmittance 85% and resistivity $8.1{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ and surface roughness 5.01 nm.
Jung, Kyung-Young;Yoon, Woo-Jun;Park, Yong Bae;Berger, Paul R.;Teixeira, Fernando L.
ETRI Journal
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v.36
no.4
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pp.654-661
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2014
We develop accurate finite-difference time-domain (FDTD) modeling of polymer bulk heterojunction solar cells containing Ag nanoparticles between the hole-transporting layer and the transparent conducting oxide-coated glass substrate in the wavelength range of 300 nm to 800 nm. The Drude dispersion modeling technique is used to model the frequency dispersion behavior of Ag nanoparticles, the hole-transporting layer, and indium tin oxide. The perfectly matched layer boundary condition is used for the top and bottom regions of the computational domain, and the periodic boundary condition is used for the lateral regions of the same domain. The developed FDTD modeling is employed to investigate the effect of geometrical parameters of Ag nanospheres on electromagnetic fields in devices. Although negative plasmonic effects are observed in the considered device, absorption enhancement can be achieved when favorable geometrical parameters are obtained.
The nanoporous $F:SnO_2$ materials have been prepared through the controlled hydrolysis of fluoro(2-methylbutan-2-oxy)di(pentan-2,4-dionato)tin followed by thermal treatment at $400-550^{\circ}C$. The main IR features include resonances at 660, 620 and 540 cm-1. From the TG-DTG result, three main mass losses of 6.5, 13.3 and 3.8 at 81, 289 and $490^{\circ}C$ are observed between 50 and $650^{\circ}C$ yielding a final residue of 76.0%. The size of Sn $O_2$ nanoparticles rose from 5 nm to 10-12 nm as the temperature of thermal treatment is increased from 400 to $550^{\circ}C$.
ZnO/$SnO_2$:F bilayer films have been prepared by pyrosol deposition method to develop optimum transparent electrode for use in amorphous silicon solar cells. The solution for $SnO_2:F$ film was composed of $SnCl_4{\cdot}5H_2O,\;NH_4F,\;CH_3OH$ and HCl, and ZnO films have been deposited on the $SnO_2:F$ films by using the solution of $ZnO(CH_3COO){_2}{\cdot}2H_2O,\;H_2O\;and\;CH_3OH$. These films have been investigated the variation of electrical and optical properties under the hydrogen plasma exposure. The sheet resistance of the $SnO_2:F$ film was sharply increased and its transmittance was decreased with the blackish effect after plasma treatment. However, the ZnO/$SnO_2:F$ bilayer film was shown hydrogen plasma durability because the electrical and optical properties was almost unchanged more then 60 seconds exposure time.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.33
no.6
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pp.460-464
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2020
This study reports the fabrication and application of semitransparent Cu nanoparticle layers. Spin coating and subsequent drying of a Cu colloid solution were performed to deposit Cu nanoparticle layers onto Si and glass substrates. As the spin speed of the spin coating increases, the density of the nanoparticles on the substrate decreases, and the agglomeration of nanoparticles is suppressed. This microstructural variation affects the optical properties of the nanoparticle layers. The transmittance and reflectance of the Cu nanoparticle layers increase with increasing spin speed, which results from the trade-off between the exposed substrate area and surface coverage of the Cu nanoparticles. Since the glass substrates coated with Cu nanoparticle layers are semitransparent and colored, it is anticipated that the application of a Cu nanoparticle-dielectric bilayer structure to transparent solar cells will improve the cell efficiency as well as aesthetic appearance.
Haechan Kim;Hyungmin Kim;Seongmin Shin;Kyunghwan Kim;Jeongsoo Hong
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.37
no.2
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pp.169-174
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2024
In this study, the structural, electrical, and optical properties of AZO films of various thicknesses are compared. The AZO films were deposited on a glass substrate by FTS (Facing-Target-Sputtering) This research was conducted to find the optimal thickness for Transparent Conductive Oxide (TCO). AZO has suitable properties for TCO such as low resistivity, and high transmittance. Thin films of all thicknesses showed a transmittance of over 80% in the visible light region and electrical properties improved as thickness increased. It was confirmed that the film of 300 nm thick had the best performance due to its low resistivity, and uniform surface. This research is expected to help find optimal conditions in various fields where TCO is used, such as solar cells, displays, and sensors in the future.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.08a
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pp.259-259
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2011
염료감응형 태양전지(Dye-Sensitized Solar Cells:DSSC)는 환경 친화적이며, 저가의 공정에 대한 가능성으로 기존의 고가의 결정질 실리콘 태양전지의 경제적인 대안으로 각광을 받고 있다. 최근 염료감응형 태양전지는 투명 전도성 산화막(Transparent Conducting Oxide : TCO)으로 사용되는 Fluorine Tin Oxide (FTO)가 증착된 유리기판 위에 주로 제작된다. FTO는 낮은 비저항과 가시광선 영역에서 높은 투과도를 가지는 우수한 전기-광학적 특성을 갖지만, 비교적 공정이 까다로운 Chemical Vapor Deposition (CVD)법으로 제조하며, 전체 공정비용의 60%를 차지하는 높은 생산단가로 인해 현재 FTO를 대체할 재료개발 연구가 활발히 진행되고 있다. 그 중 ZnO (Zinc Oxide)는 우수한 전기-광학적 특성과 비교적 저렴한 가격으로 새로운 TCO로써 주목받고 있다. ZnO는 넓은 energy band gap (3.4 [eV])의 육방정계 울자이트(hexagonal wurtzite) 결정 구조를 가지는II-VI족 n형 반도체 물질이며, III족 금속원소인 Al, Ga 및 In 등의 불순물을 첨가하면 TCO로서 우수한 전기-광학적 특성과 안정성을 나타낸다. 이들 물질중 $Zn^{2+}$ (0.060 nm)의 이온반경과 유사한 $Ga^{2+}$0.062 nm) 이온이 ZnO의 격자반경을 최소화 시킬 수 있다는 장점으로 최근 주목 받고 있다. 하지만 Ga-doped ZnO (GZO)의 경우 DSC에 사용되는 루테늄 계열의 산성 염료 하에 장시간 두면 표면이 파괴되는 문제가 발생하며, $TiO_2$ paste를 Printing 후 열처리하는 과정에서도 박막의 파괴가 발생할 수 있다. 이를 방지하기 위해 $TiO_2$ Blocking Layer를 GZO 투명전극 위에 증착하였다. 또한, $TiO_2$ Blocking Layer를 적용한 GZO 박막을 전면전극으로 이용하여 DSC를 제작하여 효율을 확인하였다. 2wt%의 $Ga_2O_3$가 도핑된 ZnO 박막은 20mTorr 400$^{\circ}C$에서 Pulsed Laser Deposition (PLD)에 의해 성장되었고, $TiO_2$박막은 Ti 금속을 타겟으로 이용하여 30mTorr 400$^{\circ}C$에서 증착되었다. Scanning electron microscopy (FE-SEM)을 이용한 박막 분석 결과 $TiO_2$가 증착된 GZO 박막의 경우 표면 파괴가 일어나지 않았다. Solar Simulator을 이용하여 I-V특성 측정결과 상용 FTO를 사용한 DSC 수준의 효율을 나타내었다. 이에 따라 Pulsed Laser Deposition을 이용해 제작된 GZO 기판은 $TiO_2$ Blocking Layer를 이용하여 표면 파괴를 방지할 수 있었으며, 이는 향후 염료감응형 태양전지의 투명전극에 적용 가능 할 것으로 판단된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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