We present investigations of the surface micromachining for transparent glass substrate, e.g. soda lime glass using tightly focused 800nm Ti:sapphire femtosecond laser. In this study, experiment conditions such as laser intensity, scanning speed, focus position were controlled as variable parameters to decide optimal machining conditions. This study shows clearly that laser intensity and scanning speed are dominant factors for good surface morphology. Using the optimal conditions, grooves with 50${\mu}{\textrm}{m}$ line width were fabricated on glass substrate and their surface morphologies were investigated from SEM image.
한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.639-642
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2002
A new PDP barrier rib formation technique was investigated utilizing transparent soft maid made of silicon resin. Transparent soft mold was fabricated by pouring a silicone resin into the base mold made with photosensitive glass. The photosensitive barrier rib paste was coated on the glass substrate and dried in a 90 $^{\circ}C$ convection oven for 20min. The transparent soft mold was pressed on top of the semi-dry barrier rib layer and then irradiated with a UV lamp to a total dose of $900{\sim}1000mJ/cm^2$ The soft maid was then removed from the pressed barrier rib by winding up and fine pattern of barrier rib was obtained. The photosensitive barrier rib paste makes the demolding easy due to reduced interfacial forces and shrinking of paste materials.
한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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pp.632-634
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2002
Transparent dielectric layer having color-filter function in front panel for PDP(Plasma Display Panel) was successfully fabricated and characterized. Transparent dielectric layer in front panel was made of glass based on $PbO-SiO_2-B_2O_3$ ternary system. The change of properties with content variation of oxide colorants in transparent dielectric layer having color-filter function was systematically accessed. It was demonstrated that the optimized content of oxide colorants to parent glass could greatly increase up contrast ratio and color temperature without significantly degrading luminance.
This paper deals with the non contact optical sensor to measure the shape of transparent plates such as glass panel of LCD(Liquid Crystal Display). The conventional methods to obtain the shape or thickness of a transparent plates are contact type sensor such as LVOT(Linear Variable Differential Transformer). Due to the contact between the tip of the sensor and the surface of objects, the tip is abraded. In addition, the high temperature glass casting makes the size of sensor body changed. These reasons makes the sensor degraded. In this paper, to overcome these problem, we proposed a low cost noncontact optical sensor this is composed of the Hologram laser unit of a CD-Pickup and a plastic lens. To evaluate the performance of the proposed optical sensor, a series of experiments were performed for various measurement condition. Based upon observation of the experimental result, the developed sensor shows good result for measuring the shape of transparent plates.
소음 저감을 목적으로 설치되는 방음벽은 크게 흡음판과 방음판으로 나뉘며, 일조 및 경관을 저해하는 방음벽의 문제점을 해결하고자 투명 방음벽을 설치하는 것이 일반적 추세이다. 방음벽에 사용되는 투명 방음판의 소재는 여러 가지가 있으나 경우에 따라서는 황변현상과 재질변형 등으로 인해 투명도가 떨어지고 오염이 심해져 오히려 도시미관을 해하기도 한다. 따라서 이러한 단점을 보안하기 위하여 투명 방음판의 재질을 접합강화유리로의 대체가 가능하다. 본 논문은 메트로 지하철 고가교 상에서의 열차 유발진동에 따른 접합강화유리 방음판의 진동 및 풍하중에 의한 안전성을 분석하고, 접합강화유리 시스템 및 재료에 대한 휨능력 성능시험, 압축강도 및 탄성계수 시험, 충격시험 등을 수행하여 접합강화유리의 방음판으로서의 적정성을 평가하는 데 목적이 있다.
본 논문은 로이유리(Low emissivity glass) 표면에 증착되어 있는 금속박막의 전도 특성을 이용하여 발열유리(Heatable glass)를 제작하는 방법에 대해 제안한다. 로이유리의 발열량은 로이유리 표면저항에 의한 주울(Joule) 열에 의존하므로 소재의 표면저항을 측정함으로써 예측 및 설계가 가능하다. 본 연구에서는 저방사층이 11nm인 소프트로이유리 시료에 각 50mm 간격으로 은(Ag) 전극을 형성시키고, 4단자법으로 면저항을 측정하여 로이유리의 소비전력과 발열량을 예측한 후에, 제작 및 실험을 통해 발열성능을 확인하였다. 기존의 발열유리 제작방법은 크게 두 가지로 일반유리(Normal glass)에 니크롬(Nichrome) 열선을 삽입하는 방법과, 일반유리에 전도성 투명박막을 증착하는 방법이 있다. 니크롬 열선 삽입 방식은 발열성능은 우수하나 유리 고유의 투명성을 저해하고, 전도성 투명박막을 증착하는 방법은 투명성은 양호하나 공정이 복잡하여 실용성이 저하된다. 본 논문에서는 주로 건축물의 단열효과 향상을 위해 사용되는 로이유리를 이용하여 로이유리 전면에 코팅되어 있는 전도성 금속박막에 레이저 빔을 조사하여 원하는 발열성능을 가지는 발열유리를 제작하는 방법을 제안한다. 제안된 방법은 기존의 니크롬 열선을 삽입하는 방법에 비해 투명성이 양호하고, 전도성 투명박막을 증착하는 방법에 비해 제작과정이 보다 수월함을 확인하였다. 아울러, 레이저를 조사하여 로이유리의 표면 박막을 패터닝(Patterning) 하는 형태에 따른 발열특성의 비교와 로이유리에 적합한 레이저 출력조건을 제시하고자 한다.
Park, Ji-Su;Han, Sun-Mi;Hwang, Jong-Hee;Kim, Chang-Yeul;Choi, Duck-Kyun
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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pp.1229-1232
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2005
We report the method of preventing the grey color of Bi based glass frits caused by reduction of $Bi_2O_3$. To prevent reduction of $Bi_2O_3$, we controlled the melting temperature. Low melting temperature reduces the reduction of $Bi_2O_3$ and that makes clarity transparent glass cullets. After firing, glass frits that melted at lower temperature showed better transparency. To prevent the browning, we used some additives like CuO, $CeO_2$, CoO and $TiO_2$. The colors of glass cullets were varied according to additives. After firing, dielectric layer contained additives showed better transparency than the one without additives. In the point of reaction between dielectric layer and Ag electrode, CuO was the most effective additive in preventing the yellowing.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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pp.1103-1107
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2005
Single-crystal silicon thin films on glass (SOG) and on fused-quartz (SOQ) were prepared using wafer bonding and hydrogen-induced layer transfer. Thinfilm transistors (TFTs) were subsequently fabricated. The high-temperature processed SOQ TFTs show better device performance than the low-temperature processed SOG TFTs. Tensile and compressive strain was measured respectively on SOQ and SOG. Consistent with the tensile strain, enhanced electron effective mobility was measured on the SOQ TFTs.
Glass was fabricated using refused coal ore obtained from the Dogye coal mine in Samcheok. We additionally used soda ash and calcium carbonate to make a glass with the chemical composition of soda-lime glass, and we also used white, brown, and green glass cullet to make various kinds of colored glass. Transparent glass was fabricated by melting batch materials including refused coal ore at $1550^{\circ}C$ for 1 hr in an electrical furnace. The light transmittance and color chromaticity were measured by a UV/VIS/NIR spectrometer. Transparent glass with a light transmittance of over 80% was fabricated using normal refused coal ore and white glass cullet. Various kinds of colored glass with a light transmittance of 30-80% were fabricated using refused coal ore and brown or green glass cullet. The light transmittance of the mixed color glass samples, fabricated using normal refused coal ore and brown glass cullet and green glass cullet, indicated 30-47%, a relatively low value, in the condition of a cullet ratio of 20-50%. The characteristics of the color chromaticity of the glass samples were indicated in a chromaticity diagram by x-coordinates, y-coordinates, Y (lightness). The values of x-coordinates and y-coordinates were moved with a regular directional property according to the kind and amount of glass cullet. Therefore, we concluded that refused coal ore can be used for raw materials of color glass products like art glass and glass tile.
We studied surface texture-etching of glass substrate by using reactive ion etching process with various working pressure (0.7~9.0 mT). With the increase in the pressure, a haze parameter, which means diffusive transmittance/total transmittance, was increased in overall wavelength regions, as measured by spectrophotometer. Also, atomic force microscopy (AFM) study also showed that the surface topography transformed from V-shaped, keen surface to U-shaped, flattened surface, which is beneficial for nanocrystalline silicon semiconductor growth with suppressing defective crack formation. The texture-etched ZnO:Al combined with textured glass exhibited pronounced haze properties that showed 60~90 % in overall spectral wavelength regions. This promising optical properties of double textured, transparent conducting substrate can be widely applied in silicon thin film photovoltaics and other optoelectronic devices.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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