Journal of Dental Rehabilitation and Applied Science
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v.33
no.2
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pp.71-79
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2017
Purpose: Ni-Cr alloy does not contain Beryllium, causing the metal compound to form oxides in the furnace but by using Titanium as a chemical catalyst the forming of the oxides can be controlled, and by controlling the impurities formed on the metal surface, the possibility of the Ni-Cr alloy bond strength being increased can be analysed. Materials and Methods: Titanium was used as a chemical catalyst in the porcelain for the oxidation of beryllium-free metal (Ni-Cr) alloy. The T1 group, which does not use Titanium power as a chemical catalyst is a reference model for comparison. The T2 group and T3 group used 10 g and 20 g of Titanium power, respectively. They are fabricated to observe the shear bond strength and surface properties. There was no significance when One-way ANOVA analysis/Tukey Honestly Significant Difference Test was conducted for statistical analysis among groups (P > 0.05). Results: Results of measuring the three-point flexural bond strength of the Ni-Cr alloy and thickness of the oxide film. Experiment T3 using 20 g Titanium chemical catalyst: $39.22{\pm}3.41MPa$ and $6.66{\mu}m$, having the highest bond strength and thinness of oxide film. Experiment T2 using 10 g Titanium chemical catalyst: $34.65{\pm}1.39MPa$ and $13.22{\mu}m$. Experiment T1 using no Titanium chemical catalyst: $32.37{\pm}1.91MPa$ and $22.22{\mu}m$. Conclusion: The T2 and T3 experiments using Titanium chemical catalyst showed higher bond strength for the Ni-Cr alloy and lower thickness of oxide film than experiment T1, and the titanium catalyst being able to increase bond strength was observed.
A variety of composite powders having different aluminum and carbon contents are prepared using various organic solvents having different amounts of carbon atoms in unit volume as ball milling agents for titanium and aluminum ball milling. The effects of substrate temperature and post-heat treatment on the texture and hardness of the coating are investigated by spraying with this reduced pressure plasma spray. The aluminum part of the composite powder evaporates during spraying, so that the film aluminum content is 30.9 mass%~37.4 mass% and the carbon content is 0.64 mass%~1.69 mass%. The main constituent phase of the coating formed on the water-cooled substrate is a non-planar α2 phase, obtained by supersaturated carbon regardless of the alloy composition. When these films are heat-treated at 1123 K, the main constituent phase becomes γ phase, and fine Ti2AlC precipitates to increase the film hardness. However, when heat treatment is performed at a higher temperature, the hardness is lowered. The main constitutional phase of the coating formed on the preheated substrate is an equilibrium gamma phase, and fine Ti2AlC precipitates. The hardness of this coating is much higher than the hardness of the coating in the sprayed state formed on the water-cooled substrate. When hot pressing is applied to the coating, the porosity decreases but hardness also decreases because Ti2AlC grows. The amount of Ti2AlC in the hot-pressed film is 4.9 vol% to 15.3 vol%, depending on the carbon content of the film.
Journal of the Korean Applied Science and Technology
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v.34
no.4
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pp.705-716
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2017
In this study, Indium-Titanium hydroxide particle with 0.5, 1.0, 1.5 wt% of $TiO_2$ were synthesized by sol process and adding the base, ITiO(Indium Titanium Oxide) particles were obtained by gelling at $200^{\circ}C$ and $500^{\circ}C$. The ITiO particle's size with gel process at $200^{\circ}C$ was smaller than ITiO particle's size with gel process $500^{\circ}C$. The ITiO particle with gel process at $200^{\circ}C$ was used to fabricate dense ITiO target. ITiO targets with 0.5, 1.0, 1.5 wt% of $TiO_2$ were fabricated and used to obtain ITiO thin films onto glass by sputtering. Among those sputtered ITiOs' thin films, ITiO thin film with 0.4 % of $O_2$ and 0.5 wt% of $TiO_2$ showed the lowest specific resistance, highest charge mobility and lowest carrier concentration. It was found the light transmittance of the ITiO film were increased highly compared to light transmittance of ITO (Indium Tin Oxide) thin film over Infrared wavelength ranges.
Titanium dioxide films $(TiO_2)$ doped cobalt transition metal were prepared on titanium metal by water spray pyrolysis technique. Micro-morphology, crystalline structure, chemical composition and binding state of sample groups were evaluated using field emission scanning microscope(FE-SEM), X-ray diffractometer(XRD), Raman spectrometer, X-ray photoelectron spectrometer(XPS). $TiO_2$ films of rutile structure were predominately formed on all sample groups and $Ti_2O_3$ oxide was coexisted on the surface of cobalt doped-sample groups. The optical absorption peaks measured by using UV-VIS-NIR spectrophotometer were observed at specific wavelength region in sample groups doped cobalt ion. This result could be analyzed by introducing crystal field theory.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.16
no.3
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pp.346-351
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2016
Titanium dioxide ($TiO_2$) films are deposited by atomic layer deposition (ALD) using titanium isopropoxide (TTIP) and $H_2O$ as precursors. The operating instructions for the ALD equipment are described in detail, along with the settings for relevant parameters. The thickness of the $TiO_2$ film is measured, and thereby, the deposition rate is quantitatively estimated to verify the linearity of the deposition rate.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2003.10a
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pp.59-59
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2003
In recent, various functional coatings on artificial tooth implants have been conducted to enhance the bonding strength between implants and bones. Despite of these efforts, some previous reports argued that an adhesion strength between titanium implant and the final coatings like hydroxyapatite(HA) is weaker than the strength between coating and bone. In order to increase the adhesion force between the final coating and implant surface, TiN/DLC based functionally graded coating, which has higher mechanical strength than the titanium implant, was applied as a middle layer between titanium implant and final coating. Particularly we finally coated a biocompatible hydroxyapatite film on the DLC layer and examined the mechanical properties. As a result, TiN/DLC based functionally graded coating showed the higher adhesion strength compared with hydroxyapatite single layer coating on the titanium implant.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.372-372
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2007
Titanium oxide nanotube arrays were fabricated by the anodization of pure titanium thin film deposited at $500^{\circ}C$ on silicon substrates. The titania nanotubes were grown by anodization in nonaqueous-base electrolytes at different potentials between 5 V and 30 V. $TiO_2$ nanotube array with a small pore diameter of 40 nm and long titanium oxide layer of $4\;{\mu}m$ was obtained. The $TiO_2$ nanotube array was used as a porous electrode for quartz crystal microbalance (QCM). Nanoporous morphology of electrode will increase the sensitivity of microbalance.
The purpose of this study was to improve the properties of epoxy resin using titanium oxide nanoparticles. The effects of particle weight fraction, dispersion agent, and curing agents with different molecular weights on the thermal and mechanical properties of titanium-oxide-reinforced epoxy resin were investigated. In addition, the effect of the particle dispersion condition on the mechanical properties of nanocomposites was studied. As a result, it was found that the glass transition temperature of film-shaped nanocomposites decreased with an in-crease in the nanoparticle content. Because nanoparticles interrupted the cross linkage between the epoxy resin and the amine curing agent, the cross-link density of the epoxy became lower and led to a decrease in $T_g$ in the nanocompo-sites. The tensile strength and modulus in film-shaped nanocomposites also increased with the particles content. But in the case of dog-bone-shaped nanocomposites, the values were not similar to the trend for the film-shaped nanocompo-sites. This was probably a result of the different nanoparticles dispersions in the epoxy resins resulting from the respective-thicknesses of the film and dog-bone-shaped samples.
In this study, we investigate the photovoltaic performance of transparent conductive indium tin oxide (ITO), titanium-doped indium oxide (ITiO), and fluorine-doped tin oxide (FTO) films. ITO and ITiO films are prepared by radio frequency magnetron sputtering on soda-lime glass substrate at $300^{\circ}C$, and the FTO film used is a commercial product. We measure the X-ray diffraction patterns, AFM micrographs, transmittance, sheet resistances after heat treatment, and transparent conductive characteristics of each film. The value of electrical resistivity and optical transmittance of the ITiO films was $4.15{\times}10^{-4}\;{\Omega}-cm$. The near-infrared ray transmittance of ITiO is the highest for wavelengths over 1,000 nm, which can increase dye sensitization compared to ITO and FTO. The photoconversion efficiency (${\eta}$) of the dye-sensitized solar cell (DSC) sample using ITiO was 5.64%, whereas it was 2.73% and 6.47% for DSC samples with ITO and FTO, respectively, both at 100 mW/$cm^2$ light intensity.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.6
no.2
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pp.263-274
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1996
Titanium dioxide ($TiO_{2}$) film has been widely used as anti-reflection coating for solar cells but not as masking oxide for metallisation and diffusion of impurities. In this paper we have investigated the properties of $TiO_{2}$ for possible incorporation into solar cell processing sequence. Thus the use of a spray deposition system to form the $TiO_{2}$ film and the characterisation of this film to ascertain its suitability to solar cell processing. The spray-on $TiO_{2}$ film was found to be resistant to all the chemicals used in conjunction with solar cell processing. The high temperature anealing (in oxygen ambient) of the spray-on $TiO_{2}$ film resulted in an increased refractive index, which indicated the growth of an underlying thin film of $SiO_{2}$ film for the passivation of silicon surface which would reduce the recombination activities of the fabricated device. Most importantly, the successful incorporation of the $TiO{2}$ film will lead to the reduction of the many high temperature processing steps of solar cell to only one.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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