In this paper the stress and strain behaivor in near homogeneous isotropic matrix of metal like steel was studied roll forming of thin steel sheet for cylindrical pipe. Analytical results reveals a body which is on the area of square thickness along and perpendicular to the width of thin steel sheet is in the state of plane strain during roll forming. As a result construction of analytical method for calculating deformation load and stably deformed length along the width of strained steel sheet was established. Also loads applied during roll forming were analyzed using two typical thin steel sheet 12.3m thick steel sheet with 42.5kg /mm2 yield strength of pipe and 5.3mm thick steel sheet with 32.5kg/mm2 yield strength of pipe. Through this analysis applicability of the analytical method for deformation load during roll forming of cylindrical thin steel pipe was evaluated with a study of necessary production technology for roll forming and design technology for roll forming machine.
In this paper, the stress and strain behavior in near homogeneous isotropic matrix of metal like steel was studied during roll forming of thin steel sheet for cylindrical pipe. Analytical result reveals a body which is on the area of square thickness along and perpendicular to the width of thin steel sheet is in the state of plane strain during roll forming. As a result, construction of analytical method for calculating deformation load and stably deformed length along the width of strained steel sheet was established. Also, loads applied during roll forming were analyzed using two typical thin steel sheets. 12.3mm thick steel sheet with 42.5kg/㎟ yield strength of pipe and 5.3mm thick steel sheet with 32.5kg/㎟ yield strength of pipe. Through this analysis, applicability of the analytical method for deformation load during roll forming of cylindrical thin steel pipe was evaluated with a study of necessary production technology for roll forming and design technology for roll forming machine.
In fatigue life prediction, it is important that fatigue life is affected by crack closure phenomenon in thin sheet Al alloy. In this research, we attempt to (1)analyze the characteristics of fatigue crack propagation in constant loading condition for thin sheet Al 2024-T3 alloy which is generally used in transportation structures, (2)identify the crack closure phenomenon in thin sheet comparing experimental results of thin and thick sheet specimen under same fatigue loading condition. In using the fatigue related material constants from these fatigue crack propagation analysis, we attempt to (3)operate the fatigue life estimating process with considering crack closure phenomenon and (4)analyze the experimental and prediction results of fatigue life in thin sheet Al alloy.
The exact estimation of the ductile crack growth in a thin sheet would be needed in part of the commercial transport aircraft industry fields. A 2-dimensional elastic plastic finite element analysis was carried out to simulate a stable crack extension in a thin sheet 2024 aluminium alloy. Two kinds of crack modeling were used to evaluate curves of the stable crack extension. And then CTOA(crack tip opening angle) and CTED(crack tip energy density) were calculated in order to determine whether they can be used as useful crack extension criterions in a thin sheet. Results indicate that stable crack extension behaviors were simulated well and CTED is more admirable even though CTOA also is reasonable as a criterion for a stable crack extension in a thin 2024 aluminium alloy sheet.
In characteristics of fatigue crack propagation, it is important that fatigue life is affected by crack closure phenomenon in thin sheet Al alloy. The purpose of this paper is to analyze the characteristics of fatigue crack propagation in constant loading condition for sheet Al 2024-T3 alloy of two sort of thickness and identify the difference of fatigue life in thin sheet specimen comparing experimental results of thin sheet specimen and relatively thick sheet specimen under same fatigue loading condition. In applying fatigue related material constants from fatigue crack propagation analysis, we attempt to operate the fatigue life estimating process of thin sheet specimen by modified Paris‘ law considering crack closure phenomenon and analyze the experimental and prediction results of fatigue life in thin sheet Al alloy.
Sheet aluminum alloys have been used in manufacturing of machine structures. In fatigue crack propagation behavior of thin sheet aluminum alloys, it is important that fatigue crack growth rate is affected by crack closure phenomenon. In this work, we analyzed the characteristics of fatigue crack propagation behavior in experiment of constant stress condition for thin sheet Al 2024-T3 alloys, and identified the retardation behavior of crack growth by comparing experimental results of thin and thick plate specimen. We attempt to operate the fatigue life estimating process using the fatigue related material constants from referred fatigue crack propagation analysis. And we analyzed the experimental and prediction results of fatigue life of thin sheet aluminum alloy in order to identify the relation between retardation behavior of fatigue crack growth and crack closure phenomenon.
We investigated the sheet resistance properties of tungsten nitride thin films deposited by RF and DC sputtering system. It deposited at various conditions that determine the sheet resistance. The properties of the sheet resistance of these films were measured under various conditions. Sheet resistance analysed under the flow rate of the argon gas and contents of nitrogen from nitrogen-argon gas mixtures. We found that these sheet resistance were largely depend on the temperature of substrate, gas flow rate and RF power. Very high and low sheet resistance of tungsten films obtained by DC sputtering. As the increase of contents of nitrogen gas obtained from nitrogen-argon gas mixture, tungsten nitride thin films deposited by the reactive DC sputtering and the sheet resistance of these films were increased.
Ni(75 wt.%)-Cr(20 wt.%)-Al(3 wt.%)-Mn(4 wt.%)-Si(1 wt.%) alloy thin films were prepared using the DC magnetron sputtering process by varying the sputtering conditions such as power, pressure, substrate temperature, and post-deposition annealing temperature in order to fabricate a precision thin film resistor. For all the thin film resistors, sheet resistance, temperature coefficient of resistance (TCR), and crystallinity were analyzed and the effects of sputtering conditions on their properties were also investigated. The oxygen content and TCR of Ni-Cr-Al-Mn-Si resistors were decreased by increasing the sputtering pressure. Their sheet resistance, TCR, and crystallinity were enhanced by elevating the substrate temperature. In addition, the annealing of the resistor thin films in air at a temperature higher than $300^{\circ}C$ lead to a remarkable rise in their sheet resistance and TCR. This may be attributed to the improved formation of NiO layer on the surface of the resistor thin film at an elevated temperature.
It has increased several decades in the field of Indium Tin Oxide (ITO) transparent thin film, However, a major problem with this ITO thin film application is high cost compared with other transparent thin film materials[1]. So far, in order to overcome this disadvantage, we show that a transparent ITO/Ag/i-ZnO multilayer thin film electrode would be more cost-effective and it has not only highly transparent but also conductive properties. The aim of this research has therefore been to try and establish how ITO/Ag/i-ZnO multilayer thin film would be more effective than ITO thin film. Herein, we report the properties of ITO/Ag/i-ZnO multilayer thin film by using optical spectroscopic method and measuring sheet resistance. At a certain total thickness of thin film, sheet resistance of ITO/Ag/i-ZnO multilayer was drastically decreased than ITO layer approximately $40{\Omega}/{\Box}$ at same visible light transmittance. (minimal point $5.2{\Omega}/{\Box}$). Tendency, which shows lowly sheet resistive in a certain transmittance, has been observed, hence, it should be suitable for transparent electrode device.
We investigated the optical and electrical characteristics of ITO/Ag/ITO (IAI) 3-layer thin films prepared by using RF/DC sputtering. To measure the thickness of all thin film samples, we used scanning electron microscopy. As a function of Ag thickness we characterized the optical transmittance and sheet resistance of the IAI samples by using UV-Visible spectroscopy and Hall measurement system, respectively. While the thickness of both ITO thin films in the 3-layered IAI samples were fixed at 50 nm, we varied Ag layer thickness in the range of 0 nm to 11 nm. The optical transmittance and sheet resistance of the 3-layered IAI thin films were found to vary strongly with the thickness of Ag film in the ITO (50 nm)/Ag(t0)/ITO (50 nm) thin film. For the best transparent conducting oxide (TCO) electrode, we obtained a 3-layered ITO (50 nm)/Ag (t0 = 8.5 nm)/ITO (50 nm) that showed an avrage optical transmittance, AVT = 90.12% in the visible light region of 380 nm to 780 nm and the sheet resistance, R□ = 7.24 Ω/□.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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