Block copolymers spontaneously assemble into various nanoscale structures such as spheres, cylinders, and lamellar structures according to the relative volumn ratio of each macromolecular block and their overall molecular weights. The self-assembled structures of block copolymer have been extensively investigated for the applications such as nanocomposites, photonic crystals, nanowires, magnetic-storage media, flash memory devices. However, the naturally formed nanostructures of block copolymers contain a high density of defects such that the practical applications for nanoscale devices have been limited. For the practical application of block copolymer nanostructures, a robust process to direct the assembly of block copolymers in thin film geometry is required to be established. To exploit self-assembly of block copolymer for the nanotechnology, it is indispensible to fabricate defect-free self-assembled nanostructure over an arbitrarily large area.
The technique for in situ simultaneous measurements of IR-RAS and QCM, which has been developed for investigation of corrosion in gaseous environments, was employed to study the effects of an extremely thin water layer on the corrosion rate. An evaporated copper film on a QCM element was exposed to air containing water vapor and $SO_2$, and time-resolved IR-RAS spectra were measured and mass gains were simultaneously followed with QCM. The tested ranges of relative humidity (RH) and concentration of $SO_2$ were 60% - 90% and 1 - 20 ppm, respectively. On the basis of 2D-IR analysis, the corrosion products were determined to be Chevreul's salt ($CuSO_3Cu_2SO_3{\cdot}2H_2O$) and $CuSO_4{\cdot}5H_2O$. By constructing curves of the relations between band intensities of IR spectra and mass gains of QCM for the corrosion products, the time variations in each product were determined from spectral experiments on copper plates. The thicknesses of physically adsorbed water layers in course of the corrosion process were also determined from water band intensities. The results showed that the thickness of the physically adsorbed water layer increased with increase in RH, and it also increased with increase in accumulation of corrosion products. The latter is probably due to the capillary effect of the corrosion products.
The mechanisms of selective oxidation of intercritically annealed CMnAl TRIP steels in a Continuous Galvanizing Line (GCL) were studied by cross-sectional observation of the surface and sub-surface regions by means of High Resolution Transmission Electron Microscopy (HR-TEM). The selective oxidation and nitriding of an intercritically annealed CMnAl TRIP steel in a controlled dew point 10%$H_2+N_2$ atmosphere resulted in the formation of c-xMnO.$MnO_2$ (1${\leq}$x<3) and c-xMnO.$Al_2O_3$ ($x{\geq}1$) particles on the steel surface. Single crystal c-xMnO.$SiO_2$ ($2{\leq}x{\leq}4$) oxide particles were also observed on the surface. A thin film of crystalline c-xMnO.$SiO_2$ (2${\leq}$x<3) and c-xMnO.$Al_2O_3$ ($x{\geq}1$) was present between these particles. In the sub-surface region, internal oxidation, nitriding and intermetallic compound formation were observed. In the first region, large crystalline c-xMnO.$SiO_2$ ($1{\geq}x{\geq}2$) and c-xMnO.$Al_2O_3$ ($x{\geq}1$) oxides particles were present. In the second region, c-AlN particles were observed, and in a third region, small $MnAl_x$ (x>1) intermetallic compound particles were observed.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers B
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v.35
no.11
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pp.1133-1137
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2011
A novel technique for the fabrication of a glass micropipette-based thermal sensor was developed utilizing inexpensive thermocouple materials. Thermal fluctuation with a resolution of ${\pm}0.002$ K was measured using the fabricated thermal probe. The sensors comprise unleaded low-melting point solder alloy (Sn) as a core metal inside a borosilicate glass pipette coated with a thin film of Ni, creating a thermocouple junction at the tip. The sensor was calibrated using a thermally insulated calibration chamber, the temperature of which can be controlled with a precision of ${\pm}0.1$ K and the thermoelectric power (Seebeck coefficient) of the sensor was recorded from 8.46 to $8.86{\mu}V$/K. The sensor we have produced is both cost-effective and reliable for thermal conductivity measurements of micro-electromechanical systems (MEMS) and biological temperature sensing at the micron level.
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers A
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v.36
no.1
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pp.37-42
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2012
LIFT (laser-induced forward transfer) is an advanced laser processing method used for selectively transferring micron-sized objects. In our study, this process was applied in order to deposit solder balls in microsystem packaging processes for electronics. Locally melted solder paste could be transferred to a rigid substrate using laser pulses. A thin glass plate with a solder cream layer was used as a donor film, and an IR laser pulse (wavelength = 1070 nm) was used to transfer a micron-sized solder ball to the receptor. Mass balance and energy balance were applied to analyze the shape and temperature profiles of the solder paste drops. The transferred solder bumps had measured diameters of 30-40 ${\mu}m$ and thicknesses of 50 ${\mu}m$ in our experiment. The limits and applications of this method are also presented.
This study examined the effects of rapid thermal annealing (RTA) on the physical and chemical characteristics of thin silver (Ag) layers on SiO2 coated metal foils. Ag layers were annealed at various temperatures of the range between 150 ℃ and 550 ℃ for 20 min. The surface roughness and resistivity are increased at the annealing temperatures of 550 ℃. We also found that oxygen (O) and silicon (Si) atoms exist at the Ag film surface by using compositional analysis in the annealing temperatures of 550 ℃. The total reflectance is decreased with increasing temperature. These phenomena are due to an out-diffusion of Si atoms from SiO2 layers during the RTA annealing. The results offer the possibility of using it as a substrate for various flexible optoelectronic devices.
V-I characteristics of Fe(100)/MgO(100)/Cu-phthalocyanine (CuPc)/Co hybrid magnetic tunnel junctions were investigated at different temperatures. Fe(100) and Co ferromagnetic layers were separated by an organic-inorganic hybrid barrier consisting of different thickness of CuPc thin film grown on a 2 nm thick epitaxial MgO(100) layer. As the CuPc thickness increases from 0 to 10 nm, a bistable switching behavior due to strong charging effects was observed, while a very large magenetoresistance was shown at 77 K for the junctions without the CuPc barrier. This switching behavior decreases with the increase in temperature, and finally disappears beyond 240 K. In this work, high-potential future applications of the MgO(100)/CuPc bilayer were discussed for hybrid spintronic devices as well as polymer random access memories (PoRAMs).
In, Jang-Sik;Kim, Sang-Hoon;Kang, Jae-Yong;Tiwari, Ajay;Hong, Jong-Ill
Journal of Magnetics
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v.12
no.3
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pp.118-123
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2007
We have studied the effect of Au-Cu back layer system ${\sim}10{\AA}$ thick on the properties of a spin valve. The back layers were Cu, Au, co-sputtered $Cu_xAu_{1-x}$, laminated $[Au/Cu]_n$. and bi-layer [Au/Cu]. When Au was added to the Cu, the resistance of the spin valve abruptly increased most likely due to impurity scattering. The GMR values were not increased significantly for all the structures. In the case of co-sputtered $Cu_xAu_{1-x}$, the changes in the resistance, ${\Delta}R$, was increased at a composition of ${\sim}Au_{0.5}Cu_{0.5}$. This increase in ${\Delta}R$ is due to increase in the resistance and not from the enhanced spin-dependent scattering. The structural analyses showed that the orthorhombic $Au_{0.5}Cu_{0.5}$ was formed in the back layer instead of the face-centered tetragonal $Au_{0.5}Cu_{0.5}$ as we expected. Thermal annealing over $400^{\circ}C$ may be required to have face-centered tetragonal in the $10{\AA}$ thick ultra-thin film. In the case of a laminated or bi-layered back layer, the properties of the spin valve were improved, which may be attributed to the increase in the mean free path of conduction electrons.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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v.26
no.4
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pp.67-72
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1989
Room Temperature Plasma Nitridation of silicon was investigated as a new LOCOS (local oxidation of silicon) process in order to reduce the bird's beak length. In $N_2$ plasma formed by 100kHz, 400W AC power, a thin silicon nitride film (<100${\AA}$) was uniformly grown on a silicon substrate. SEM studies showed that the nitride layer formed by this method can effectively protect the silicon from oxidation and reduce the bird's beak length to $0.2{mu}m$ when 4000${\AA}$ field oxide is grown. This is a considerable improvement comparing with 0.7${mu}m,$ the bird's beak, for the conventional LOCOS process using a thick LPCVD nitride. No appreciable crystalline defect could be found around the bird's beak with SEM cross-section afrer Secco etch. Leakage current tests were carried out on the $N^+/P^-$ well and $P^+/N^-$ well diodes formed by this new LOCOS process. The electrical tests indicate that this new process has electrical properties similar or superior to those of the conventional LOCOS process.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.40
no.1
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pp.1-10
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2003
Device characteristics of the Metal-Ferroclecric-Semiconductor FET(MFSFET) are simulated in this study. The field-dependent polarization model and the square-law FET model are employed in our simulation. C-V$_{G}$ curves generated from our MFSFET simulation exhibit the accumulation, the depletion and the inversion regions clearly. The capacitance, the subthreshold and the drain current characteristics as a function of gate bias exhibit the memory windows are 1 and 2 V, when the coercive voltages of ferroelectric are 0.5 and 1 V respectively. I$_{D}$-V$_{D}$ curves are composed of the triode and the saturation regions. The difference of saturation drain currents of the MFSFET device at the dual threshold voltages in I$_{D}$-V$_{D}$ curve is 1.5, 2.7, 4.0, and 5.7 ㎃, when the gate biases are 0, 0.1, 0.2 and 0.3V respectively. As the drain current is demonstrated after time delay, PLZT(10/30/70) thin film shows excellent reliability as well as the decrease of saturation current is about 18 % after 10 years. Our simulation model is expected to be very useful in the estimation of the behaviour of MFSFET devices.T devices.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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