Growth Behavior and Thermal Stability of CoSi2 Layer on Poly-Si Substrate Using Reactive Chemical Vapor Deposition (반응성 CVD를 이용한 다결정 실리콘 기판에서의 CoSi2 layer의 성장거동과 열적 안정성에 관한 연구)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.13 no.1
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- pp.1-5
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- 2003