$SF_6$ 와 $SF_6-N_2$ 가스를 이용한 텅스텐 박막의 플라즈마 식각에 관한 연구
(A Study on Plasma Etching of Tungsten Thin Films using $SF_6$ and $SF_6-N_2$ gases)
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- 센서학회지
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- 제8권3호
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- pp.291-297
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- 1999