플라즈마 화학증착법을 이용한 $\alpha$ -Si:H박막의 제조
(Deposition of $\alpha$ -Si:H thin films by PECVD method)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 1991년도 추계학술대회 논문집
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- pp.63-67
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- 1991
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