• 제목/요약/키워드: Stripper

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간이 파인 블랭킹 금형의 개발을 통한 범용 유압 프레스에서의 원형 정밀진단 가공성 연구 (Development of Fine Blanking Die with Fluid Chamber and its Application to Procuction of Circular Blanks in a Hydraulic Press)

  • Kim, J.H.;Ryu, J.G.;Chung, W.J.
    • 한국정밀공학회지
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    • 제13권5호
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    • pp.157-163
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    • 1996
  • This paper is concered on the development of low-cost fine blanking die with two fluid chambers of which the pressure can be controlled by a hydraulic unit and its application to producting circular blanks in a conventional hydraulic press, not in a special triple-action press usually adopte in fine blanking operation. Four important working parameters affecting on the precision accuracy of products such as existence and position of Vee-ring, stripping force and counter punching force are primarily considered for experiments. Finite element analysis by suing ABAQUA software is approxi- mately made for blanking of circular specimen with a flat stripper plate and then compared with experimental measurements. The the theoretical prediction of camber height which represents deflection of a dish-shaped specimen after blanking seems to give a qualitatively good agreement. It is shown through experiments the the camber height decreases with decreasing stripping force and also with increasing counter punching force, but particularly depending on the latter much more than the former.

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Utilizing Advanced Pad Conditioning and Pad Motion in WCMP

  • Kim, Sang-Yong;Chung, Hun-Sang;Park, Min-Woo;Kim, Chang-Il;Chang, Eui-Goo
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2001년도 추계학술대회 논문집 Vol.14 No.1
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    • pp.171-175
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    • 2001
  • Chemical mechanical polishing(CMP) process has been widely used to planarize dielectrics and metal, which can apply to employed in integrated circuits for sub-micron technology. Despite the increased use of CMP process, it is difficult to accomplish the global planarization of free-defects in inter level dielectrics and metal. Especially, defects like (micro-scratch) lead to severe circuit failure, and affects yield. Current conditioning method - bladder type, orbital pad motion- usually provides unsuitable pad profile during ex-situ conditioning near the end of pad life. Since much of the pad wear occurs by the mechanism of bladder type conditioning and its orbital motion without rotation, we need to implement new ex-situ conditioner which can prevent abnormal regional force on pad caused by bladder-type and also need to rotate the pad during conditioning. Another important study of ADPC is related to the orbital scratch of which source is assumed as diamond grit dropped from the strip during ex-situ conditioning. Scratch from diamond grit damaged wafer severely so usually scraped. Figure 1 shows the typical shape of scratch damaged from diamond. e suspected that intensive forces to the edge area of bladder type stripper accelerated the drop of Diamond grit during conditioning. so new designed Flat stripper was introduced.

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기계식 프레스에 의한 자동차 시트 리클라이너의 고정밀 플레이트 홀더 개발(I) : FCF 공법 적용 (Development of High Precision Plate Holder in Automotive Seat Recliner by Mechanical Press(I) : Application of FCF Method)

  • 김병민;최홍석;장명진;배재호;이선봉;고대철
    • 한국정밀공학회지
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    • 제25권7호
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    • pp.55-63
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    • 2008
  • Fine blanking is a process of press shearing which makes it possible to produce the thick sheet metal of the finished surface and the close dimensional accuracy over the whole material thickness in the single blanking operation. In this paper, a plate holder of automotive seat recliner is manufactured by FCF(Flow Control Forming) method using the conventional mechanical press instead of the fine blanking press. Main processes for manufacturing of the plate holder by FCF method are embossing, half blanking and trimming processes. Optimal clearance, stripper force and counter force to increase the dimensional accuracy of the plate holder have been investigated by FE-analysis. As a result of FE-analysis, the clearance for both embossing and half blanking processes was -2%t and the forces of stripper and counter were 25ton and 15ton, respectively. After manufacturing the plate holder by FCF method, the measured dimensional characteristics have been compared with the required specifications as the final product. Although the dimensional accuracy of the plate holder manufactured by FCF method was a little inferior to that by fine blanking process, it was satisfactory in a general sense.

LCD 제조공정에서의 폐용매 분리처리를 위한 공정 설계 (Design of Waste Solvent Treatment Process from LCD Manufacturing Process)

  • 윤문규;이문용
    • 청정기술
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    • 제14권4호
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    • pp.275-280
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    • 2008
  • 연구에서는 LCD 제조 공정에서 배출되는 스트리퍼와 디벨로퍼 혼합 폐액(SD폐액)과 스트리퍼 폐수의 효과적 분리 및 처리를 위한 가능한 기술로서 추출공정과 증류공정의 기술적/경제적 타당성을 검토하였다. SD폐액과 스트리퍼 폐수의 추출분리를 위한 용매로 $CHCl_3$가 여러 가지 관점에서 가장 적절한 용매로 확인되었다. 또한 SD폐액 분리 회수를 위한 공정으로서 추출공정과 증류공정의 두 가지 공정에 대하여 정밀 전산모사를 수행한 결과 $CHCl_3$를 이용한 추출분리공정이 단순증류공정보다 6배 정도 에너지 소요비용이 적게 소요됨을 확인할 수 있었다.

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GTL 공정에서 아민 수용액을 이용한 이산화탄소 제거공정의 전산모사에 대한 연구 (A Simulation Study on the Carbon Dioxide Removal Process Using Aqueous Amine Solution in the GTL Process)

  • 조정호;이지환
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제12권7호
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    • pp.3334-3340
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    • 2011
  • 본 연구에서는 GTL (Gas To Liquids) 파일럿 공정의 설계를 위한 아민 수용액을 이용한 이산화탄소 제거공정에 대한 전산모사를 수행하였다. 이산화탄소 제거를 위한 용매로써 30wt% DEA(diethanol amine) 수용액을 사용하였으며, 공정 배열은 흡수탑과 탈거탑의 2기의 column을 사용하였다. 전산모사를 위해서 Invensys사의 PRO/II with PROVISION 9.0을 사용하였으며 열역학 모델식으로는 amine special package내의 Kent-Eisneberg 모델식을 사용하였다. 전산모사를 통해서 이산화탄소 제거공정에 대한 열 및 물질수지를 도출하였으며, 흡수탑과 탈거탑에 대한 충진탑의 직경과 높이를 산출하였다.

폐솔더 박리액으로부터 확산투석법에 의한 질산의 회수 (Recovery of Nitric Acid from Waste Solder Stripper by Diffusion Dialysis)

  • 류승형;김태영;안낙균;강명식;안재우;안종관
    • 자원리싸이클링
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    • 제24권5호
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    • pp.33-39
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    • 2015
  • 음이온 교환막을 이용한 확산투석에 의해 폐솔더 박리액으로부터 질산을 효율적으로 회수하기 위한 기초 연구를 실시하였다. 우선 모의용액 실험의 경우 유속, 유속비, 질산농도, 금속이온 종류 및 농도 등이 질산 회수율에 미치는 영향을 조사하였다. 유속이 증가함에 따라 질산 회수율은 감소하였고 급액에 대한 순수의 유속비(W/F)가 증가할수록 질산 회수율은 증가하여 유속비가 1.5이상에서 약 99%의 질산 회수율을 보였다. 급액중 질산용액의 농도가 증가함에 따라 3.0 M 까지는 산회수율이 증가 하였으나 3.0 M 이후로는 회수율은 점차 낮아 졌다. 확산투석막을 통과하는 금속이온의 투과율은 Pb, Na, Cu순 이었고, Fe과 Sn은 투과되지 않았다. 실제 폐솔더액을 사용하여 유속 $0.9L/hr-m^2$, W/F = 1.3 으로 확산 투석을 실시한 결과 약 94%의 질산 회수율을 얻을 수 있었다.

중온혐기성소화조에서 외부 $CO_2$ Stripping을 이용한 In-situ 고순도 메탄회수 공정 개발 (In-situ Methane Enrichment System Coupled with External $CO_2$ Stripper in Mesophilic Anaerobic Digestion)

  • 강호;정지현;임선애;이혜미
    • 대한환경공학회지
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    • 제34권3호
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    • pp.155-161
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    • 2012
  • 본 연구에서는 고순도 메탄을 회수하기 위해서 Plug Flow Reactor와 External $CO_2$ Stripper를 결합한 중온 Methane Enhancement System을 개발하였다. 반응조 운전인자로서 알칼리도와 Leachate 순환율(LRR, Leachate Recycle Rate)이 바이오가스의 조성과 생성량 및 TVS 제거효율에 미치는 영향을 규명하였다. 고순도 메탄회수 공정 운전결과 OLR 2 g TVS/L-d, 알칼리도 4 g/L as $CaCO_3$, Leachate 순환율 3 v/v-d일 때 평균 94%의 높은 메탄함량을 나타내 고순도 메탄회수를 위한 최적조건임이 밝혀졌다. 이때 1일 반응조 단위 부피당 0.71부피의 메탄이 생성되었으며, TVS 제거율은 79%로서 Control Reactor의 94% 수준을 달성하였다.

복합 증류계의 제어 (Control of complex distillation configuration)

  • 한명완;박선원
    • 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
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    • 제어로봇시스템학회 1993년도 한국자동제어학술회의논문집(국내학술편); Seoul National University, Seoul; 20-22 Oct. 1993
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    • pp.742-748
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    • 1993
  • The dynamics and control of two complex column configurations (sidestream column with stripper; prcfractionater/sidestream column configuration), which are multivariable interacting and nonlinear, have been studied. A new control scheme developed by Hanand Park(1993) to deal with the nonlinear and multivariable nature of distillation processes has been applied to these complex distillation configurations. The control scheme incorporates a nonlinear wave model into a generic model control framework. An observer based on the nonlinear wave model is used to determine the profile positions of distillation column sections. The control scheme enables tight control of the profile position of each column section that leads to fast stabilization of product compositions.

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유틸리티 절감을 위한 미반응 스티렌 모노머 회수공정의 설계 (Process Design for Recovery of Unreacted Styrene Monomer for Utility Saving)

  • 봉주영;나수진;이광순
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제55권1호
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    • pp.54-59
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    • 2017
  • ABS 중합공정 중 잔류 모노머 회수 공정의 유틸리티 사용량 절감을 위한 공정의 개선을 수행하였다. ABS 폴리머 생산 과정 중 잔류 모노머 회수 공정은 제품의 품질 향상을 위해 반드시 필요하다. 잔류 모노머의 회수를 위한 다양한 방식이 있으나, 본 연구에서 대상으로 한 것은 스팀 스트리핑 공정이다. 기존의 스팀 스트리핑은 많은 양의 스팀과 냉각수가 사용되고 있으나, 본 연구를 통해 유틸리티 사용을 절감하는 새로운 방안을 찾고자 하였다. 스트리핑 후 모노머와 함께 배출되는 스팀의 잠열을 진공상태의 수증기로 회수하고, 압축으로 온도를 상승시켜 스트리핑 스팀으로 재사용하도록 함으로써 스팀의 사용을 획기적으로 절감하였다. 또한 모노머 최종 회수 과정에서 발생되는 물을 모노머 응축에 냉각수로 활용함으로써 용수에 대한 사용량도 감소 시킬 수 있었다.

PLVA 방법을 활용한 PR Stripper의 성능 향상과 HDI-PR 표면의 내력 변화 연구 (Improvement of PR Stripper Efficient and Change of Surface Hardness for HDI-PR Used by PLVA Method)

  • 김수인;이창우
    • 한국진공학회지
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    • 제17권6호
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    • pp.544-548
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    • 2008
  • 반도체 공정에서 가장 많은 시간과 비용을 차지하는 공정 중 하나는 Photoresist strip 공정이다. 따라서 보다 빠르게 PR의 strip 공정을 단축하기 위한 연구가 계속 진행중에 있다. 하지만 기존 사용중인 strip용액을 대체하기 위한 물질을 찾는 것은 많은 비용을 수반한다. 본 연구에서는 PR의 strip 시간을 최대한 단축시키고 PR strip 잔여물의 빠른 제거를 위하여 기존 공정에서 사용 중인 strip 약액을 플라즈마에 의하여 활성화하는 방법(Plasma Liquid-Vapor Activation: PLVA)으로 PR strip 시간을 최대한 줄이는 방법에 대한 연구를 진행하였으며, 활성화된 strip용액이 더욱 빠른 strip율 성능을 나타내는 것을 확인하였다. 또한 PR strip에서 이온에 의한 영향을 받은 HDI-PR (high dose implanted photoresist)은 기존 strip용액으로 제거가 불가능하였다. 하지만 본 연구에서 제시한 PLVA 방법으로 활성화된 용액에서는 그 가능성을 확인하였고, 이러한 PLVA방법에 대한 물리적 연구를 위하여 HDI-PR 표면 내력의 변화를 측정하였다. 그 결과 PLVA 처리 전 후 HDI-PR의 표면 내력에 큰 변화를 확인하였다.