A homogeneous and stable ZnO sol was prepared by dissolving the zinc acetate dihydrate(Zn(CH$_3$COO)$_2$$.$2H$_2$O) in solution of isopropanol((CH$_3$)$_2$$.$CHOH) and monoethanolamine(MEA:H$_2$NCH$_2$CH$_2$OH). ZnO thin films were prepared by sol-gel spin-coating method and investigated for c-axis preferred orientation and physical properties with preheating temperature. The c-axis growth had a difference as increaing preheating temperature. ZnO thin film preheated at 275$^{\circ}C$ and post-heated at 650$^{\circ}C$ was highly oriented along the (002) plane. After preheating at 200∼300$^{\circ}C$ and post-heating at 650$^{\circ}C$, the transmittance of ZnO thin films by UV-vis. measurement was over 85% in visible range and exhibited absorption edges at about 370 nm. The optical band gap energy was obtained about 3.22 eV, The photoluminescence emission characteristics of ZnO thin film preheated at 275$^{\circ}C$ and post-heated at 650$^{\circ}C$ was found to orange emission(620 nm, 2.0 eV) by PL measurement, which revealed the possibility for application of inorganic photoluminescence device.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2013.02a
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pp.336-336
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2013
Zinc oxide (ZnO) based transparent oxide semiconductors have been studied due to their high transmittance and electrical conductivity. Pure ZnO have unstable optical and electrical properties at high temperatures but doped ZnO thin films can have stable optical and electrical properties. In this paper, transparent oxide semiconductors of Y-doped ZnO thin films prepared by sol-gel method. The ionic radius of $Y^{3+}$ (0.90 A) is close to that of $Zn^{2+}$ (0.74 A), which makes Y suitable dopant for ZnO thin films. The Sn-doped ZnO thin films were deposited onto quartz substrates with different atomic percentages of dopant which were Y/Zn = 0, 1, 2, 3, 4, and 5 at.%. These thin films were pre-heated at $150^{\circ}C$ for 10 min and then annealed at $500^{\circ}C$ or 1 h. The structural and optical properties of the Y-doped ZnO thin films were investigated using field-emission scanning electronmicroscopy (FE-SEM), X-ray diffraction (XRD), UV-visible spectroscopy, and photoluminescence (PL).
$MO-SiO_2$ (M = Zn, Sn, In, Ag, Ni) binary silica gels were synthesized by sol-gel method and their structural change with the kind of metal ions was characterized by XRD, FT- IR and $^{29}$Si-NMR. Although X-ray analysis showed partial recrystallization of $AgNO_3$ in $Ag-SiO_2$gel, crystalline phase formed by the bonding between metal ion and the silica matrix didn't appear in all $MO-SiO_2$ gels. The FT-IR analysis showed that Zn, Sn and in partially formed Si-O-M bonding in silica matrix and made an shift of absorption peak to by Si-O-Si symmetrical vibration. In addition, $^{29}Si-NMR$ studies showed that Zn, Sn and In didn't affect sol-gel process of silica and were linked with non-bridging oxygen of the linear silica structure, which formed imperfect network because of low temperature sol-gel process. Ag and Ni make a role of catalysis on sol-gel process, resulting in densifying the silica network structure.
Cheon, Min Jong;Kim, Soaram;Nam, Giwoong;Yim, Kwang Gug;Kim, Min Su;Leem, Jae-Young
Korean Journal of Metals and Materials
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v.49
no.7
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pp.583-588
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2011
$Cd_xZn_{1-x}O$ thin films were grown on quartz substrates by using the sol-gel spin-coating method. The mole fraction, x, of the $Cd_xZn_{1-x}O$ thin films was controlled from 0 to 1 by changes in the content ratio of the cadmium acetate dehydrate [$Cd{(CH_3COO)}_2{\cdot}2H_2O$] and zinc acetate dehydrate [$Zn{(CH_3COO)}_2{\cdot}2H_2O$]. The effects of the mole fraction on the morphological, structural, and optical properties of the $Cd_xZn_{1-x}O$ thin films were investigated by scanning electron microscopy (SEM), X-ray diffraction (XRD), and UV-visible spectroscopy. The $Cd_xZn_{1-x}O$ thin films exhibited the polygonal surface morphology and their grain size was increased ranging from 42.1 to 63.9 nm with the increase in the mole fraction. It was observed that the absorption bandgap of the $Cd_xZn_{1-x}O$ thin films decreased from 3.25 to 2.16 eV as the mole fraction increased and the Urbach energy ($E_U$) values changed inversely to the optical bandgap of the $Cd_xZn_{1-x}O$ thin films.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2006.11a
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pp.305-306
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2006
Ga-doped and Al-doped ZnO thin films were fabricated via a sol-gel technique and electrical and optical properties of the films were investigated. Film deposition was performed by spin coating at 4000 rpm for 30 s on $SiO_2$ glass substrate FE-SEM was used to obtain the surface morphology images and the film thickness Four-point probe and UV-VIS spectrophotometer were used to measure the sheet resistance and the optical transparency, respectively.
Kim, Yong-Hoon;Park, Sung-Kyu;Oh, Min-Suk;Kim, Kwang-Ho;Han, Jeong-In
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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2009.10a
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pp.1002-1004
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2009
Solution-processed indium-gallium-zinc-oxide thin-film transistors were fabricated by sol-gel method. By a combinatorial study of InGaZnO multi-component system, optimum molar ratio of In, Ga, and Zn has been selected. By adjusting the In:Ga:Zn molar ratio, TFTs with field-effect mobility of 0.5 ~ 1.5 $cm^2$/V-s, threshold voltage of -5 ~ 5 V, and subthreshold slope of 1.5 ~ 2.5 V/decade were achieved.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.18
no.2
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pp.72-75
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2008
Zinc oxide (ZnO) thin films were prepared by a sol-gel method. The structural and electrical properties were investigated by varying drying and annealing temperatures. The thin films were coated (250 nm) by spin-coating method on glass substrates. The optimum drying temperature of ZnO thin films was 300$^{\circ}C$ where the resistivity was the lowest and the preferred c-axis orientation was the highest. The annealing was carried out in air and inert atmospheric conditions. The degree of the preferred c-axis orientation was estimated. The highest preferred c-axis orientation was recorded at 600$^{\circ}C$. The preferred c-axis orientation and grain growth resulted in the mobility enhancement of the ZnO thin films, and the lowest resistivity was 0.62${\Omega}{\cdot}cm$ at 600$^{\circ}C$.
Transparent conducting aluminum-doped ZnO thin films were deposited using a sol-gel process. In this study, the important deposition parameters were investigated thoroughly to determine the appropriate procedures to grow large area thin films with low resistivity and high transparency at low cost for device applications. The doping concentration of aluminum was adjusted in a range from 1 to 4 mol% by controlling the precursor concentration. The annealing temperatures for the pre-heat treatment and post-heat treatment was $250^{\circ}C$ and 400-$600^{\circ}C$, respectively. The SEM images show that Al doped and undoped ZnO films were quite uniform and compact. The XRD pattern shows that the Al doped ZnO film has poorer crystallinity than the undoped films. The crystal quality of Al doped ZnO films was improved with an increase of the annealing temperature to $600^{\circ}C$. Although the structure of the aluminum doped ZnO films did not have a preferred orientation along the (002) plane, these films had high transmittance (> 87%) in the visible region. The absorption edge was observed at approximately 370 nm, and the absorption wavelength showed a blue-shift with increasing doping concentration. The ZnO films annealed at $500^{\circ}C$ showed the lowest resistivity at 1 mol% Al doping.
Kim, Gyeong-Tae;Kim, Gwan-Ha;Kim, Jong-Gyu;U, Jong-Chang;Kim, Chang-Il
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2007.06a
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pp.320-320
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2007
Nowadays, ZnO thin films are investigated as transparent conductive electrodes for use in optoelectronics devices including flat displays, thin films transistors, solar cells because of their unique optical and electrical properties. For the use as transparent conductive electrodes, a film has to have low resistivity, high absorption in the ultra violent light region and high optical transmission in the visible region. Different technologies such as electron beam evaporation, chemical vapor deposition, laser evaporation, DC and RF magnetron sputtering and have been reported to produce thin films of ZnO with adequate performance for applications. However, highly transparent and conductive doped-ZnO thin films deposited by a metal-organic decomposition method have not been reported before. In this work, the effect of dopant concentration, heating treatment and annealing in areducing atmosphere on the structure, morphology, electrical and optical properties of ZnO thin films deposited on glass substrates by a Sol-gel method are investigated.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2003.03a
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pp.178-178
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2003
II-Ⅵ족 반도체 중에서 넓은 밴드갭을 가지는 ZnO에 Mn 이온을 doping할 경우 Tc가 상온보다 높을 것이라는 이론적 계산이 2000년 Science에 발표되었다. 이후 ZnO에 전이금속 이온을 doping하여 상온에서도 강자성을 나타내는 자성 반도체 (DMS)를 만들기 위한 연구가 활발히 진행되고 있다. Co-doped ZnO 박막은 PLD로 증착하였을 경우 Tc가 상온보다 높으나 재현성이 낮은 것으로 알려져 있었다. 그러나 최근 sol-gel 방법을 이용하여 Co-doped ZnO 박막을 제조하면 강자기 특성의 재현성을 높일 수 있다는 결과가 보고되었다. 이에 본 연구에서는 sol-gel 방법을 사용하여 여러 조성의 Co-doped ZnO 박막을 합성한 후 이들의 자성 특성을 검토하였다. 이러한 결과를 바탕으로 Co-doped ZnO 박막에서 강자성 발현의 근원을 규명하고자 (ⅰ) 조성에 따른 Co-doped ZnO의 Raman peak과 EXAFS peak의 변화를 측정하여 구조적 특성과 ZnO 내에서의 Co 이온의 상태를 분석하였으며, (ⅱ) Hall 효과 실험으로 carrier density를 측정함으로써 Fermi 준위에서의 파수 벡터의 크기를 산출하고자 하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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