Every year, 1.1 million tons of rice-hull are produced in South Korea by the by-product in pounding rice. But they has mainly been utilized as a fuel, agricultural compost and moisture proofs. So, it's very valuable to use waste rice-hull for activated carbon manufacture. SiO2 content was the highest among inorganics in rice-hull. Therefore, the SiO2 extraction experiments were carried out under the various conditions of pH 9 to 14, reaction time from 2 to 24 hrs and various temperature of 20 to 100℃. The results showed that increase in pH and temperature enhanced SiO2 extraction from the carbonized rice-hull. The surface area of the carbonized rice-hull indicating activated carbon adsorption capacity was very small as 178∼191 m2/g at first. However, it was increased to 610∼675 m2/g when extracted in alkali solution at 100℃. When the mixing rate of carbonized rice-hull and NaOH was 1:1.5, iodine No. and surface area of activated rice-hull during 10 min at 700℃ were 1,650 mg/g and 1837 m2/g, respectively. Subsequently, an activated carbon with specific surface area of 1,300∼1,900m2/g was manufactured in a short contact time of 10∼30 min with a mixing rate of 1:1.5 in carbonized rice-hull and NaOH, and iodine No. and specific surface area increased as the amount of SiO2 removal increased.
Required characteristics of poly-Si TFT's are investigated for the implementation of analog circuits to be integrated on System-on-Glass (SoG). Matching requirements on resistor values, threshold voltage and mobility of poly-Si TFT's are derived as a function of the resolution of display system. Effective mobility of poly-Si TFT's required for the realization of source driver is analyzed for various panel sizes.
태양전지용 실리콘은 주로 반도체급 실리콘 제조공정에서 발생하는 규격외 실리콘을 사용하여 왔다. 태양전지의 보급 활성화를 위해서는 보다 저렴한 정제 공정의 개발이 필요하다. 태양전지용 실리콘을 위한 저비용이면서 효율적인 방법은 금속급 실리콘을 정제하여 고순도화하는 것이다. 본 연구에서는 금속급 용융 실리콘 중의 Fe를 제거하기 위해 고주파 유도로 중에서 일방향 응고를 실시하였다. 실험조건과 실험결과를 유효 편석계수, Scheil 식 및 Peclet 수로 평가하였다. 시료의 하강속도가 감소함에 따라 불순물의 매크로 편석과 잉곳의 순도가 증가하였다. 이러한 결과는 시료의 하강속도 감소에 따른 유효 편석계수의 감소에 의한 것으로 생각된다.
리튬이차 박막전지로서, 실리콘 첨가(0, 2, 6, 10, 20㏖%)에 따른 주석 산화물 박막을 기판온도 30$0^{\circ}C$, Ar:O$_2$=7:3으로 R.F. magnetron sputtering법으로 제조하였다. 실리콘의 함량이 증가함에 따라, Si-O 결합량이 증가하고 Sn-O 결합량은 감소하였다. 적정량의 실리콘 첨가는 주석의 산화상태를 감소시켜 비가역성을 줄이고 충방전 동안 주석의 부피변화를 막아 사이클 특성이 향상되는 결과를 보여주었다. 6㏖% Si를 첨가한 주석 산화물 박막은 100사이클동안 700mAh/g의 용량을 가지는 가장 좋은 사이클 특성을 나타내었다.
Permalloys were successfully fabricated by melt drag casting in the present study, and their microstructure and consequent magnetic properties have been investigated as a function of Si content. In order to understand the relationship between magnetic properties and Si content, microstructure and texture were observed and phase analysis were performed by TEM. The effective permeability went through a maximum value at $2\%$ Si and then decreased with increasing Si content. Increasing Si content enlarged grain size, which resulted in improvement of permeability. However, over-added Si caused the formation of $Ni_3Fe$ order phase so that $5\%$ Si added permalloys had the smallest permeability.
Prodigiosin is a natural red pigment with algicidal activity against Cochlodinium polykrikoides, a major harmful red-tide microalga. To increase the yield of prodigiosin production by Hahella chejuensis KCTC 2396, significant medium components were determined using a two-level Plackett-Burman statistical design technique. Among 12 components included in basal medium, $NaHCO_3$, ${Na}_{2}{SiO}_{3}$, ${NH_4}{NO_3}$, ${Na}_{2}{SO}_{4}$ and $CaCl_2$ were determined to be important for prodigiosin production. The medium formulation was finally optimized using a Box-Behnken design as follows: 1% sucrose; 0.4% peptone; 0.1 % yeast extract; and (g/l): NaCl, 20.0; ${Na}_{2}{SO}_{4}$, 9.0; $CaCl_2$, 1.71; KCl, 0.4; and (mg/l): ${H_3}{BO_3}$, 10.0; KBr, 50.0; NaF, 2.0; $NaHCO_3$, 45.0; ${Na}_{2}{SiO}_{3}$, 4.5; ${NH_4}{NO_3}$, 4.5. The predicted maximum yield of prodigiosin in the optimized medium was 1.198 g/l by the Box-Behnken design, whereas the practical production was 1.495 g/l, which was three times higher than the basal medium (0.492 g/l).
In this paper, the current status of manufacturing technologies for GaAs/Si solar cell were revived and provied new MOCVD. In the manufacturing process of GaAs/Si solar cells and an experiment to get the high efficiency GaAs solar cells, we must investigate the optimum growth conditions to get high quality GaAs films on Si substrates by MOCVD. The GaAs on Si substrates has been recognized as a lightweight alternative to pure substrate for space applicaton. Because its density is less the half of GaAs or Ge.So GaAs/Si has twofold weight advantage to GaAs monolithic cell. The theoretical conversion efficiecy limit of tandem GaAs/Si solar cell is 32% under AM 0 and $25^{\circ}C$ condition. It was concluded that the development of cost effective MOCVD technologies shoud be ahead GaAs solar cells for achived move high efficiency III-V solar cells involving tandem structure.
Diamond-like carbon(DLC) thin films with interlayer were deposited on silicon substrate using a reactive sputtering method. The thermal stability of the films was investigated by annealing the films for 1hr in air in the range of 100 to $500^{\circ}C$. The $I_D/I_G$ ratio increased with increasing temperature as related to the $sp^3-to-sp^2$transition. Accordingly, G-position shifting started from $150^{\circ}C$ in the DLC films and from $270^{\circ}C$ in the a-Si/DLC films. Moreover, in the case of the a-Si/DLC films the film still observed even after annealing at $500^{\circ}C$. The thermal stability of the reactive sputtered DLC films appeared to be improved by the a-Si interlayer.
We have designed a new structures of Junction Field Effect Transistor(JFET) using SILVACO simulation to improve electrical properties and process reliability. The device structure and process conditions of Si control JFET(Si JFET) were determined to set cut off voltage and drain current(at Vg=0 V) to -0.46 V and $300\;{\mu}A$, respectively. Among many design parameters influencing the performance of the device, the drive-in time of p-type gate is presented most predominant effects. Therefore we newly designed SiGe JFET, in which SiGe layers were placed above and underneath of Si-channel. The presence of SiGe layer could lessen Boron into the n-type Si channel, so that it would be able to enhance the structural consistency of p-n-p junction. The influence of SiGe layer could be explained in conjunction with boron diffusion and corresponding I-V characteristics in comparison with Si-control JFET.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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