• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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• pp.851-854
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• 2008

In order to reduce the manufacturing cost of TFT LCDs and cut down an amount facilities invested, there are many LCD panel makers contributes to convert the current Five-mask manufacturing process into the noble Four-mask fabrication process. We optimized the slit mask to improve the poor process reliability.

• 한국정밀공학회지
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• 제27권8호
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• pp.84-90
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• 2010

In focused ion beam (FIB) fabrication processes the ion beam intensity with Gaussian profile has a drawback for high resolution machining. In this paper, the fabrication method to modify the beam profile at substrate using silt mask is proposed to increase the machining resolution at high current. Slit mask is utilized to block the part of beam and transmit only high intensity portion. A nano manipulator is utilized to handle the silt mask. Geometrical analysis on fabricated profile through silt mask was conducted. By utilizing proposed method, improvement of machining resolution was achieved.

• 천문학회보
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• 제43권1호
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• pp.68.4-69
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• 2018

GMACS is one of the instruments for the Giant Magellan Telescope (GMT) which will provide wide field, multi-object, moderate resolution spectroscopy of faint targets. KHU (Kyung Hee University) is in charge of control software of GMACS. As a first step, the Slit Mask Exchange Mechanism Prototype (SMEM-P) will be used as a preliminary example to make development process between electronics and high level software. Recently, we have developed a sample program to communicate with low level devices via EtherCAT. It is expected to be a mockup design for software and control system of GMACS. In this poster, we show the development process and test operation results of control software for SMEM-P.

• 한국광학회지
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• 제16권6호
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• pp.508-515
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• 2005

MEMS 공정을 이용한 굴절렌즈 제작을 위하여, 슬릿 패턴을 갖는 마스크를 이동시키며 노광을 하는 가변 속도 이동식 마스크에 의한 노광 방법을 제안하였다. 감광제 면이 굴절렌즈의 곡면을 이루려면 감광제의 위치에 따른 노광 에너지의 분포를 조절해야 한다. 마스크의 패턴 형태와 이동 속돈 방향에 따라 감광제의 위치에 따른 노광 에너지의 분포를 이론적으로 분석하였으며, 감광제 박막에 임의의 곡면을 갖는 굴절렌즈 형상을 형성할 수 있음을 실험적으로 확인하였다. $100 {\mu}m$ 이상의 후막 감광제를 이용하거나, 혹은 곡면 형상을 갖는 얇은 감광제 형상을 마스크로 하여 이온식각을 수행하여 수백 ${\mu}m$ 정도의 최대높이를 갖는 렌즈 곡면형상을 제작 할 수 있었다.

• Korean Chemical Engineering Research
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• 제44권5호
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• pp.513-519
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• 2006

본 연구에서는 유리(glass)와 석영(quartz)을 재질로 사용하여 MEMS(micro-electro mechanical systems) 공정을 통해 전기영동(electrophoresis)을 위한 microchip을 제작하였다. UV 광이 실리콘(silicon)을 투과하지 못하는 점에 착안하여, 다결정 실리콘(polycrystalline Si, poly-Si) 층을 채널 이외의 부분에 증착시킨 광 차단판(optical slit)에 의해 채널에만 집중된 UV 광의 신호/잡음비(signal-to-noise ratio: S/N ratio)를 크게 향상시켰다. Glass chip에서는 증착된 poly-Si 층이 식각 마스크(etch mask)의 역할을 하는 동시에 접합표면을 적절히 형성하여 양극 접합(anodic bonding)을 가능케 하 였다. Quartz 웨이퍼에 비해 불순물을 많이 포함하는 glass 웨이퍼에서는 표면이 거친 채널 내부를 형성하게 되어 시료용액의 미세한 흐름에 영향을 미치게 된다. 이에 따라, HF와 $NH_4F$ 용액에 의한 혼합 식각액(etchant)을 도입하여 표면 거칠기를 감소시켰다. 두 종류의 재질로 제작된 채널의 형태와 크기를 관찰하였고, microchip electrophoresis에 적용한 결과, quartz과 glass chip의 전기삼투 흐름속도(electroosmotic flow velocity)가 0.5와 0.36 mm/s로 측정되었다. Poly-Si 층에 의한 광 차단판의 존재에 의해, peak의 S/N ratio는 quartz chip이 약 2배 수준, glass chip이 약 3배 수준으로 향상되었고, UV 최대흡광 감도는 각각 약 1.6배 및 1.7배 정도 증가하였다.

• 천문학회보
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• 제44권2호
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• pp.79.3-79.3
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• 2019

GMACS is one of the first light instruments for the Giant Magellan Telescope (GMT). The development of GMACS control software follows Agile software development process, and the design of the software is based on the Unified Model Language (UML). In this poster, we present the architecture of the GMACS software and the development processes. As an example of the software development, we show the software of the Slit Mask Exchange Mechanism Prototype (SMEM-P) which is part of the GMACS Device Control Package (DCP).