• 대한전자공학회논문지
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• 제26권6호
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• pp.30-37
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• 1989

Silane($SiH_4$), methane($CH_4$), diborane(B_2H_6)그리고 phosphine($PH_3$)을 이용하여 rf글로방전분해법으로 PIN형 a-SiC:H/a-Si:H 이종접합 태양전지를 제작하였다. $SnO_2/ITO$층 형성치 태양전지의 효율은 ITO 투명전극만의 경우보다 1.5% 향상되었다. 제작조건은 P층의 경우 $CH_4/SiH_4$의 비를 5로 하고 두께는 $100{\AA}$이었다. I층은 P층위에 증착하였으나 진성이 아니고 N형에 가깝다. 이 I층을 진성으로 바꾸기 위해서 0.3ppm의 $B_2H_6$를 $SiH_4$에 혼합하여 5000${\AA}$증착했다. 또한 N층은 $PH_4/SiH_4$의 비를 $10^{-2}$로 하여 $400{\AA}$ 증착시켰다. 그 결과 입사강도가 15mW/$cm^2$일 때 개방전압 $V_{oc}=O'$단락전류밀도 $J_{sc=14.6mA/cm^2}$, 충진율 FF=58.2%, 그리고 효율 ${eta}=8.0%$를 나타내었다. 빛의 반사에 의한 손실을 감소시키기 위하여 $MgF_2$를 유리기판위에 도포하였다. 이에 의한 효율은 0.5% 향상되어 전체적인 효율은 8.5%였다.

• 한국세라믹학회지
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• 제29권1호
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• pp.48-52
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• 1992

Indium tin oxide (ITO) layers are of considerable interest on account of the combination of properties they provide high electrical conductivity, high infrared reflection with high solar energy transmission, high transmission in the visible range. We are concerned about the variation of the spectral transmittances and sheet resistances as the thickness of SiO2-ZrO2 barrier layer and ITO layers and heat treating conditions are changed. Transmittances and reflectivities were studied by measuring UV-VIS-NIR-, FT-IR spectroscopy. ITO films are crack free, homogeneous and of polycrystalline cubic structure. The microstructure of good ITO films shows a narrow grain size distribution and mean value of 100 nm. The selectivity of absorbing properties is improved by increasing the thickness of ITO films. The increase of sheet resistance of ITO films are due to the increase in the reaction between films and glass substrate.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제29권6호
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• pp.359-364
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• 2016

NiO serves as a window layer for Si photoelectric devices. Due to the wide energy bandgap of NiO, high optical transparency (over 80%) was achieved and applied for Si photoelectric devices. Due to the high the high mobility, the heterojunction device (Al/n-Si/$SiO_2$/p-NiO/ITO) provide ultimately fast photoresponses of rising time of $38.33{\mu}s$ and falling time of $39.25{\mu}s$, respectively. This functional NiO layer would provide benefits for high-performing photoelectric devices, including photodetectors and solar cells.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1997년도 하계학술대회 논문집 C
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• pp.1491-1493
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• 1997

In this study, Sol-Gel derived $Ba_{0.7}Sr_{0.3}TiO_3$ (BST(70/30)) thin films were investigated. The stock solution of BST were fabricated and spin-coated on the Pt/Ti/$SiO_2$/Si and ITO/glass substrates. The coated specimen were dried at $300^{\circ}C$ and finally annealed at $650{\sim}750^{\circ}C$. To analyse crystallization condition and microstructural morphology for different substrates, XRD, and SEM analysis were processed. In the BST(70/30) composition. dielectric constant and loss characteristics measured at 1kHz were 173, 0.01% for Pt/Ti/$SiO_2$/Si substrates and 181, 0.019% for ITO/glass substrates, respectively.

• 한국세라믹학회지
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• 제44권3호
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• pp.137-141
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• 2007

$La_{2}O_{3}-TiO_{2}-SiO_{2}$ glass, a type that could not obtained so far by the conventional melting method, was prepared successfully using a sol gel process. Glass derived with the sol-gel process has compositions of $5La_{2}O_{3}-5TiO_{2}-90SiO_{2},\;5La_{2}O_{3}-10TiO_{2}-85SiO_{2}$, and $5La_{2}O_{3}-20TiO_{2}75SiO_{2}$. The UV-visible absorption edge of all glass compositions was below 400 nm. The measured density is in the range of 2.55-2.89, and was nearly identical to the calculated density and the refractive index of the glasses derived from the sol-gel ranges from 1.545 to 1.645. The molar additive coefficient of $TiO_{2}$ measured in this ternary system is lower than the calculated value, while the value of $La_{2}O_{3}$ is higher.

• 한국진공학회지
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• 제8권4B호
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• pp.565-571
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• 1999

In this study, high-density plasma etching characteristics of ITO(indium tin oxide) films used for transparent electrode in dispaly devices were investigated. Plasma diagnostic and surface analysis tools were used to understand etch reaction mechanism. The etch rate of ITO was increased by the increase of reactive radicals such as H and $CH_3$ with the addition of moderate amount of $CH_4$ to Ar. However, the addition of excess amount of $CH_4$ decreased possibly due to the increased polymer formation on the ITO surface being etched. The increase of source power and bias boltage increased ITO etch rates but it decreased selectivities over under-layers $(SiO_2, Si_3N_4)$. The increase of working pressure up to 20mTorr also increased ITO etch rates, however the further increased of the pressure decreased ITO etch rates. From the analysis of XPS, a peak related to the polymer of hydrocarbon was observed on the etched ITO surface especially for high $CH_4$ conditions and it appears to affect ITO etch rates.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2003년도 하계학술대회 논문집 C
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• pp.1553-1555
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• 2003

Coatings on glass with highly transparent conducting oxide films(TCOs) are performed mostly by using indium tin oxide(ITO). This Oxide material is very common for applications where both high electrical conductivity. Photovoltaic cells, transparent electrical heater, selective optical filter, and a optical transmittance are essential. In this study, ITO thin films were deposited on $SiO_2$/soda-line glass plates by a dc magnetron sputtering technique. The crystallinity and electrical properties of the films were investigated by X-ray diffraction(XRD), atomic force microscopy(AFM) scanning and 4-point probe. The optical transmittance of ITO films in the range of 300-800nm were measured with a spectrophotometer. As a result, we obtained polycrystalline structured ITO films with (222), (400), and (440) peak. Transmittance of all the films were higher than 90% in the visible range.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2001년도 하계학술대회 논문집 B
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• pp.1309-1311
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• 2001

본 논문은 Substrate의 온도를 $200(^{\circ}C)$로 유지하며 진공 저항 가열 증착법을 이용하여 ITO/Si 태양전지를 제작한 후 그 전기적 특성을 조사하였다. 전지의 단락전류와 개방전압의 열처리 온도의존성은 약 $450(^{\circ}C)$이상부터 증가하여 $650(^{\circ}C)$부근에서 최대치를 나타내었다. 단락전류와 열처리 시간과의 관계에서는 증착 시간이 15분 정도에서 최대치를 나타내었다. 일정한 태양에너지 조도 하에서 $SnO_2$의 성분비율을 높여감에 따라 전지의 개방전압과 단락전류는 다소 감소한 후 일정한 값으로 안정되는 경향을 나타내었다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2001년도 학술대회 논문집 전문대학교육위원
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• pp.40-42
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• 2001

본 논문은 Substrate의 온도를 200[$^{\circ}C$]로 유지하며 진공 저항 가열 증착법을 이용하여 ITO/Si 태양전지를 제작한 후 그 전기적 특성을 조사하였다. 전지의 단락전류와 개방전압의 열처리 온도의존성은 약450[$^{\circ}C$]이상부터 증가하여 650[$^{\circ}C$]부근에서 최대치를 나타내었다. 단락전류와 열처리 시간과의 관계에서는 증착시간이 15분 정도에서 최대치를 나타내었다. 일정한 태양에너지 조도 하에서 $SnO_2$의 성분비율을 높여감에 따라 전지의 개방전압과 단락전류는 다소 감소한 후 일정한 값으로 안정되는 경향을 나타내었다.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2002년도 하계학술발표회
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• pp.200-201
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• 2002

투명 전도막은 높은 광 투과도와 전기 전도도를 동시에 가지는 물질로서 TFT-LCD, 태양 전지 등 다양한 산업에 응용되고 있다(1). 투명 전도막 중에서 가장 많이 사용되는 물질은 In$_2$O$_3$에 Sn을 첨가한 인듐 주석 산화물(ITO)이나 투명 전도막 응용 산업의 발전에 따라 더 높은 광 투과도와 전기 전도도, 우수한 에칭 특성 및 매끄러운 표면 상태를 동시에 가지면서 저온 제작이 가능하여 ITO의 성질을 능가하는 우수한 신규 투명 전도막 개발이 요구되고 있다. (중략)