An electrorheological fluid (ERF) is typically a suspension of semi-conducting solid particles dispersed in an insulating carrier fluid, and shows a dramatic change in rheological properties when an external electric field is applied. This rapid and reversible change in flow properties has potential application in many electronically controlled mechanical devices, but the development of efficient devices and optimal materials for ERF is still hindered by incomplete understanding of the fundamental physical mechanisms involved. In recent years there have been considerable advances In relating microstructural models to the rheological behaviour, and these will form the basis of this review. Results of the theoretical calculations and simulations will be compared to the key experimental evidence available. An overview of the fundamental physical concepts behind electrorheological fluid behaviour will also be presented.
SAW와 반도체가 상호작용할 때 발생되는 횡음전전압을 이용하여 반절연 GaAs 웨이퍼 표면의 에너지 갭, 엑시톤, 얕은 준위 트랩, 깊은 준위 트랩, 어닐링 후의 형반전, $EL_2$ 준위의 준안정 상태 그리고 Cr이 첨가된 2인치 GaAs 웨이퍼의 전자 농도 분포를 비파괴적으로 측정평가 하였다. 또한 SAW를 발진기를 이용한 반도체 표면성질의 측정을 새로이 시도하고 이의 실용성을 밝혔다.
Single crystal $AgGaSe_2$ layers were grown on thoroughly etched semi-insulating GaAs(100) substrate at $420^{\circ}C$ with hot wall epitaxy (HWE) system by evaporating $AgGaSe_2$ source at $630^{\circ}C$. The crystalline structure of the single crystal thin films was investigated by the photoluminescence and double crystal X-ray diffraction (DCXD). The temperature dependence of the energy band gap of the $AgGaSe_2$ obtained from the absorption spectra was well described by the Varshni's relation, $E_g(T)=19501 eV-(879{\times}10^{-4} eV/K)T^2/(T+250 K)$.
The stochiometric mixture of evaporating materials for the $ZnIn_2S_4$ single crystal thin film was prepared from horizontal furnace. To obtain the $ZnIn_2S_4$ single crystal thin film. $ZnIn_2S_4$ mixed crystal was deposited on throughly etched semi-insulating GaAs(100). In the Hot Wall Epitaxy(HWE) system. From the photocurrent spectrum by illumination of perpendicular light on the c-axis of the $ZnIn_2S_4$ single crystal thin film, we have found that the values of spin orbit splitting ${\Delta}So$ and the crystal field splitting ${\Delta}Cr$ were 0.0148 eV and 0.1678 eV at $10_{\circ}K$, respectively.
We measured photoreflectance spectrum characteristics of InGaAs grown by MBE method on semi-insulating GaAs. The PR signal splitting of substate and epilayer was observed. The band gap energy was about 1.40 eV. It make to 8 meV difference when it is fitted by Pan's equation. The reason is stress on the interface, which is due to lattice mismatch between epilayer and substate . We became to know that reason influence crystalline on growing sample. In InGaAs epilayer, temperature dependency is low. The efficiency of photo absorption is high and activate over 200K. In this case when it is annealed at $400^{\circ}C$ below growing temperature, PR signal splitting is remarkable and crystalline is inhanced.
Benyahia, Djalal;Kubiszyn, Lkasz;Michalczewski, Krystian;Keblwski, Artur;Martyniuk, Piotr;Piotrowski, Jozef;Rogalski, Antoni
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제16권5호
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pp.695-701
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2016
Be-doped GaSb layers were grown on highly mismatched semi-insulating GaAs substrate (001) with $2^{\circ}$ offcut towards <110> at low growth temperature, by molecular beam epitaxy (MBE). The influence of Be doping on the crystallographic quality, surface morphology, and electrical properties, was assessed by X-ray diffraction, Nomarski microscopy, and Hall effect measurements, respectively. Be impurities are well behaved acceptors with hole concentrations as high as $9{\times}10^{17}cm^{-3}$. In addition, the reduction of GaSb lattice parameter with Be doping was studied.
한국결정성장학회 1999년도 PROCEEDINGS OF 99 INTERNATIONAL CONFERENCE OF THE KACG AND 6TH KOREA·JAPAN EMG SYMPOSIUM (ELECTRONIC MATERIALS GROWTH SYMPOSIUM), HANYANG UNIVERSITY, SEOUL, 06월 09일 JUNE 1999
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pp.129-157
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1999
Low-dislocation-density large-diameter GaAs single crystals with low-residual-strain have been strongly required. We have developed dislocation-free 3-inch Si-doped GaAs crystals for photonic devices [1], and low-dislocation-density low-residual-strain 4-inch to 6-inch [2, 3] semi-insulating GaAs crystals for electronic devices by Vertical Boat (VB) technique. We confirmed that VB substrates with low-residual-strain have higher resistance against slip-line generation during MBE process. VB-GaAs single crystals show uniform radial profile of resistivity reflecting to the flat solid-liquid interface during the crystal growth. Uniformity of micro-resistivity of VB-GaAs substrate is much better than that of the LEC-GaAs substrate, which is due to the low-dislocation-density of VB-GaAs single crystals.
Single crystal $ZnIn_2S_4$ layers were grown on a thoroughly etched semi-insulating GaAs(100) substrate at $450^{\circ}C$ with the hot wall epitaxy (HWE) system by evaporating the polycrystal source of $ZnIn_2S_4$ at $610^{\circ}C$ prepared from horizontal electric furnace. The crystalline structure of the single crystal thin films was investigated by the photoluminescence and double crystal X-ray diffraction (DCXD). The carrier density and mobility of single crystal $ZnIn_2S_4$ thin films measured with Hall effect by van der Pauw method are $8.51\times10^{17}$ electron/$cm^{-3}$, 291 $cm^2$/v-s at 293 K, respectively.
Single crystal $AgGaSe_2$ layers were grown on thoroughly etched semi-insulating GaAs(100) substrate at 420 $^{\circ}C$ with hot wall epitaxy (HWE) system by evaporating $AgGaSe_2$ source at 630 $^{\circ}C$. The crystalline structure of the single crystal thin films was investigated by the photoluminescence and double crystal X-ray diffraction (DCXD). The carrier density and mobility of single crystal $AgGaSe_2$ thin films measured with Hall effect by van def Pauw method are $9.24\times10^{16}cm^{-3}$ and 295 $cm^2/V{\cdot}s$ at 293 K, respectively.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제6권3호
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pp.210-224
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2006
A new analytical model for the static I-V characteristics of GaAs MESFET’s under optically controlled conditions in both linear and saturation region is presented in this paper. The novelty of the model lies in characterizing both photovoltaic (external, internal) and photoconductive effects. Deep level traps in the semi insulating GaAs substrate are also included in this model. Finally, effect of backgate voltage on I-V characteristics is explained analytically for the first time in literature. Small signal parameters of GaAs MESFET are derived under both dark and illuminated conditions. Some of the results are compared with reported experimental results to show the validity of the proposed model. Since accurate dc modeling is the key to accurate ac modeling, this model is very useful in the designing of photonic MMIC’s and OEIC’s using GaAs MESFET.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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