KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications
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제5C권3호
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pp.111-114
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2005
Organic monolayers were fabricated onto Au(l l l) substrate by self-assembly method using dipyridinium. Also, organic single molecule in the organic monolayers was selected to measure the current-voltage (I-V) curves by using the ultrahigh vacuum scanning tunneling microscopy (UHV-STM). The organic molecule used in the experiment was dipyridinium dithioacetate, which contains thiol functional group and can be self-assembled easily onto Au(l l l) substrate. The concentration of dipyridinium dithioacetate for self-assembly procedure was I [mM/L]. To confirm the formation of self-assembled mono layers (SAMs), the differences of thickness of the self-assembled organic monolayers were observed by using an ellipsometer, and the morphology and I-V curves of the SAMs were investigated by using UHV-STM. The applied voltages were from -2 [V] to +2 [V], temperature was 300 [K]. The vacuum for measuring current of the organic single molecule was 6 $\times$ 10$^{-8}$ [Torr]. As a result, properties of the negative differential resistance (NDR) in constant voltage were found.
Self-assembled monolayers(SAM) of microspheres such as silica and polystyrene(PS) beads have found widespread application in photonic crystals, sensors, and lithographic masks or templates. From a practical viewpoint, setting up a high-throughput process to form a SAM over large areas in a controllable manner is a key challenging issue. Various methods have been suggested including drop casting, spin coating, Langmuir Blodgett, and convective self-assembly(CSA) techniques. Among these, the CSA method has recently attracted attention due to its potential scalability to an automated high-throughput process. By controlling various parameters, this process can be precisely tuned to achieve well-ordered arrays of microspheres. In this study, using a restricted meniscus CSA method, we systematically investigate the effect of the processing parameters on the formation of large area self-assembled monolayers of PS beads. A way to provide hydrophilicity, a prerequisite for a CSA, to the surface of a hydrophobic photoresist layer, is presented in order to apply the SAM of the PS beads as a mask for photonic nanojet lithography.
Rabbani, Mohammad Mahbub;Yeum, Jeong Hyun;Kim, Jungsoo;Nam, Dae-Geun;Oh, Weontae
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제15권5호
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pp.257-261
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2014
Multilayered CdTe/PSS films were prepared by the electrostatic self-assembly method in an aqueous medium. Positively-charged cadmium telluride (CdTe) nanoparticles and anionic polyelectrolyte, poly (sodium 4-styrene sulfonate) (PSS) were assembled alternately in order to build up a multilayered film structure. A linear proportion of absorbance to the number of bilayers suggests that an equal amount of CdTe was adsorbed after each dipping cycle, which resulted in the buildup of a homogenous film. The binding energies of elements (Cd and Te) in multilayered CdTe/PSS film shifted from those of the CdTe nanoparticles in the pure state. This result indicates that the interfacial electron densities were redistributed by the strong electrostatic interaction between the oppositely-charged CdTe and PSS. Electrochemical properties of the multilayered CdTe/PSS films were studied in detail by cyclic voltammetry (CV).
Frictional characteristics of mesoporous $SiO_2$ thin films were evaluated with different pore sizes. The films were manufactured by sol-gel and self-assembly methods to have a porous structure. The pores on the surface may play as the outlet of wear particle and the storage of lubricant so that the surface interactions could be improved. The pores were exposed on the surface by chemical mechanical polishing (CMP) or plasma-etching after forming the porous films. The ball-on-disk tests with mesoporous $SiO_2$ thin films on glass specimen were conducted at sliding speed of 15 rpm and a load of 0.26 N. The results show considerable dependency of friction on pore size of mesoporous $SiO_2$ thin films. The friction coefficient decreased as increasing the pore size. CMP process was very useful to expose the pores on the surface.
A new method is introduced to build up organic/organic multilayer films composed of cationic poly(allylamine hydrochloride) (PAH) and negatively charged poly (sodium 4-styrenesulfonate) (PSS) using the spinning process. The adsorption process is governed by both the viscous force induced by fast solvent elimination and the electrostatic interaction between oppositely charged species. On the other hand, the centrifugal and air shear forces applied by the spinning process significantly enhances desorption of weakly bound polyelectrolyte chains and also induce the planarization of the adsorbed polyelectrolyte layer. The film thickness per bilayer adsorbed by the conventional dipping process and the spinning process was found to be about 4 ${\AA}$ and 24 ${\AA}$, respectively. The surface of the multilayer films prepared with the spinning process is quite homogeneous and smooth. Also, a new approach to create multilayer ultrathin films with well-defined micropatterns in a short process time is Introduced. To achieve such micropatterns with high line resolution in organic multilayer films, microfluidic channels were combined with the convective self-assembly process employing both hydrogen bonding and electrostatic intermolecular interactions. The channels were initially filled with polymer solution by capillary pressure and the residual solution was then removed by the .spinning process.
한국고분자학회 2006년도 IUPAC International Symposium on Advanced Polymers for Emerging Technologies
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pp.80-80
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2006
As the size scale of features continue to shrink in devices, the use of self-assembly, i.e. a "bottom up" approach, for device fabrication becomes increasingly important. Yet, simple self-assembly alone will not be sufficient to meet the increasing demands place on the registry of structures, particularly nanostructured materials. Several criteria are key in the rapid advancement and technology transfer for self-assembling systems. Specifically, the assembly processes must be compatible with current $^{\circ}{\infty}top\;down^{\circ}{\pm}$ approaches, where standard photolithographic processes are used for device fabrication. Secondly, simple routes must be available to induce long-range order, in either two or three dimensions, in a rapid, robust and reliable manner. Thirdly, the in-plane orientation and, therefore, ordering of the structures, must be susceptible to a biasing by an external, macroscopic means in at least one, if not two directions, so that individual elements can be accessed in a reliable manner. Block copolymers, specifically block copolymers having a cylindrical microdomain morphology, are one such material that satisfy many, if not all, of the criteria that will be necessary for device fabrication. Here, we discuss several routes by which these versatile materials can be used to produce arrays of nanoscopic elements that have high aspect ratios (ideal for templating and scaffolding), that exhibit long-range order, that give access to multiple length scale structuring, and that are amenable to being biased by macroscopic features placed on a surface.
한국고분자학회 2006년도 IUPAC International Symposium on Advanced Polymers for Emerging Technologies
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pp.350-350
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2006
We investigated, via atomic force microscopy and transmission electron microscopy, the effect of shear force on the interfacial morphology of a reactive bilayer polymer system composed of PS-mCOOH and PMMAGMA. It has been observed that in the absence of oscillatory shearing the roughness of the interface increased with reaction period, while at large values of ${\gamma}_{0}\;and\;{\omega}$ it became less than that observed in the absence of oscillatory shearing. This observation may be attributable to the possibility that oscillatory shearing might have hindered the diffusion of polymer chains, which are located away from the interface, to the interface of the layers. However, the effect of ${\gamma}_{0}\;and\;{\omega}$ on the roughness of the interface of (PS-mCOOH)/(PMMA-GMA) bilayer is found to be quite different.
The DNA chips are devices associating the specific recognition properties of two DNA single strands through hybridization process with the performances of the microtechnology. In the literature, the "Gene chip" or "DNA chip" terminology is employed in a wide way and includes macroarrays and microarrays. Standard definitions are not yet clearly exposed. Generally, the difference between macro and microarray concerns the number of active areas and their size, Macroarrays correspond to devices containing some tens spots of 500$\mu$m or larger in diameter. microarrays concern devices containing thousnads spots of size less than 500$\mu$m. The key technical parameters for evaluating microarray-manufacturing technologies include microarray density and design, biochemical composition and versatility, repreducibility, throughput, quality, cost and ease of prototyping. Here we report, a new method in which minute particles are arranged in a random fashion on a chip pattern using random fluidic self-assembly (RFSA) method by hydrophobic interaction. We intend to improve the stability of the particles at the time of arrangement by establishing a wall on the chip pattern, besides distinction of an individual particle is enabled by giving a tag structure. This study demonstrates the fabrication of a chip pattern, immobilization of DNA to the particles and arrangement of the minute particle groups on the chip pattern by hydrophobic interaction.ophobic interaction.
An, Minshi;Hong, Jong-Dal;Cho, Kyung-Sang;Lee, Eun-Sung;Choi, Jae-Young
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제29권3호
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pp.623-626
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2008
Spin-coating electrostatic self-assembly (SCESA) is utilized to fabricate a single layer of carboxylic-acid-coated Pd nanoparticles (NPs) (D??5 nm) on an oppositely charged surface. The packing density of a NP monolayer formed on a rotating solid substrate (3000 rpm) was examined with regards to various parameters, including the particle concentration, the pH, and the ionic strength of the solution. Initially, the packing density grew exponentially with increases in the particle concentration, up to a maximum value (of 8.4 ´ 1011/cm2) at 1.2 wt%. The packing density was also found to increase drastically as the pH decreased and the ionic strength of the solution increased; these trends can be attributed to a reduction in the interparticle repulsions among the NPs in the solution and on the substrate. The best result of this study was achieved in a 1.2 wt% solution at pH 8; under these conditions, an NP monolayer with the highest density (namely, 1.6 ´ 1012/cm2) was obtained.
We report a novel patterning method for a homo-polymeric poly(3-hexylthiophene) (P3HT) nanofilm particularly capable of strong adhesion to a $SiO_2$ surface. An oxidized silicon wafer substrate was micro-contact printed with n-octadecyltrichlorosilane (OTS) monolayer, and subsequently its negative pattern was selfassembled with three different amino-functionalized alkylsilanes, (3-aminopropyl)trimethoxysilane (APS), N- (2-aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxy silane (EDAS), and (3-trimethoxysilylpropyl) diethylenetriamine (DETAS). Then, P3HT nanofilms were selectively grown on the aminosilane pre-patterned areas via the vapor phase polymerization method. To evaluate the adhesion, patterning, and the film itself, the PEDOT nanofilms and SAMs were investigated with a $Scotch^{(R)}$ tape test, contact angle analyzer, ATR-FT-IR, and optical and atomic force microscopes. The evaluation showed that the newly developed all bottom-up process can offer a simple and inexpensive patterning method for P3HT nanofilms robustly adhered to an oxidized Si wafer surface by the mediation of $FeCl_3$ and amino-functionalized alkylsilane SAMs.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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