• 한국광학회지
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• 제17권1호
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• pp.54-59
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• 2006

본 논문에서는 집적 광학 광도파로 소자 기술을 적용하여 생화학 물질의 성분을 정밀하게 측정 가능한 광소자로서 폴리머 광도파로와 브래그 격자를 이용하는 구조를 최초로 제안하였다. 유효굴절률법과 전송행렬법을 이용하여 최적의 감도를 가지는 브래그 격자 광도파로를 설계하였으며 코아와 하부 클래딩의 굴절률이 각각 1.540, 1.430인 폴리머를 이용하여 코아 두께가 $3{\mu}m$ 인 구조의 반전립 광도파로를 제작하였다. 코아 층까지 완성된 도파로 위에 레이저 빔 간섭계와 플라즈마 에칭을 이용하여 격자를 형성한 뒤 격자표면에 20 nm 두께의 Au층을 증착하고 칼릭사린(calixarene) 단분자층을 만들어 바이오센서를 제작하였다. 제작된 광센서를 이용하여 PBS(phosphate bufferedsaline) 용액에 함유된 $K^+$의 농도에 따라 브래그 반사픽이 단파장으로 이동하는 것을 관찰할 수 있었다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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• pp.463-463
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• 2012

ITRS (international technology roadmap for semiconductors)에 따르면 MOS(metal-oxide-semiconductor)의 CD (critical dimension)가 45 nm node이하로 줄어들면서 poly-Si/$SiO_2$를 대체할 수 있는 poly-Si/metal gate/high-k dielectric이 대두된다고 보고하고 있다. 일반적으로 high-k dielectric를 식각시 anisotropic 한 식각 형상을 형성시키기 위해서 plasma를 이용한 RIE (reactive ion etching)를 사용하고 있지만 PIDs (plasma induced damages)의 하나인 PIED (plasma induced edge damage)의 발생이 문제가 되고 있다. PIED의 원인으로 plasma의 direct interaction을 발생시켜 gate oxide의 edge에 trap을 형성시키므로 그 결과 소자 특성 저하가 보고되고 있다. 그러므로 본 연구에서는 이에 차세대 MOS의 high-k dielectric의 식각공정에 HDP (high density plasma)의 ICP (inductively coupled plasma) source를 이용한 원자층 식각 장비를 사용하여 PIED를 줄일 수 있는 새로운 식각 공정에 대한 연구를 하였다. One-monolayer 식각을 위한 1 cycle의 원자층 식각은 총 4 steps으로 구성 되어 있다. 첫 번째 step은 Langmuir isotherm에 의하여 표면에 highly reactant atoms이나 molecules을 chemically adsorption을 시킨다. 두 번째 step은 purge 시킨다. 세 번째 step은 ion source를 이용하여 발생시킨 Ar low energetic beam으로 표면에 chemically adsorbed compounds를 desorption 시킨다. 네 번째 step은 purge 시킨다. 결과적으로 self limited 한 식각이 이루어짐을 볼 수 있었다. 실제 공정을 MOS의 high-k dielectric에 적용시켜 metal gate/high-k dielectric CMOSFETs의 NCSU (North Carolina State University) CVC model로 구한 EOT (equivalent oxide thickness)는 변화가 없으면서 mos parameter인 Ion/Ioff ratio의 증가를 볼 수 있었다. 그 원인으로 XPS (X-ray photoelectron spectroscopy)로 gate oxide의 atomic percentage의 분석 결과 식각 중 발생하는 gate oxide의 edge에 trap의 감소로 기인함을 확인할 수 있었다.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제38권6호
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• pp.390-397
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• 2001

GIDL(Gate-Induced Drain-Leakage)을 줄일 수 있는 새로운 구조의 ESD(Elevated Source Drain) MOSFET을 제안하고 분석하였다. 제안된 구조는 SDE(Source Drain Extension) 영역이 들려진 형태를 갖고 있어서 SDE 임플란트시 매우 낮은 에너지 이온주입으로 인한 저활성화(low-activation) 효과를 방지 할 수 있다. 제안된 구조는 건식 식각 및 LAT(Large-Angle-Tilted) 이온주입 방법을 사용하여 소오스/드레인 구조를 결정한다. 기존의 LDD MOSFET과의 비교 시뮬레이션 결과, 제안된 ESD MOSFET은 전류 구동능력은 가장 크면서 GIDL 및 DIBL(Drain Induced Barrier Lowering) 값은 효과적으로 감소시킬 수 있음을 확인하였다. GIDL 전류가 감소되는 원인으로는 최대 전계의 위치가 드레인 쪽으로 이동함에 따라 최대 밴드간 터널링이 일어나는 곳에서의 최대 전계값이 감소되기 때문이다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2000년도 제18회 학술발표회 논문개요집
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• pp.64-64
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• 2000

Since its discovery in 1991, the carbon nanotube has attracted much attention all over the world; and several method have been developed to synthesize carbon nanotubes. According to theoretical calculations, carbon nanotubes have many unique properties, such as high mechanical strength, capillary properties, and remarkable electronical conductivity, all of which suggest a wide range of potential applications in the future. Here we report the synthesis in the catalytic decomposition of acetylene at ~65 $0^{\circ}C$ over Ni deposited on SiO2, For the catalyst preparation, Ni was deposited to the thickness of 100-300A using effusion cell. Different approaches using porous materials and HF or NH3 treated samples have been tried for synthesis of carbon nanotubes. It is decisive step for synthesis of carbon nanotubes to form a round Ni particles. We show that the formation of round Ni particles by heat treatment without any pre-treatment such as chemical etching and observe the similar size of Ni particles and carbon nanotubes. Carbon nanotubes were synthesized by chemial vapour deposition ushin C2H2 gas for source material on Ni coated Si substrate. Ni film gaving 20~90nm thickness was changed into Ni particles with 30~90nm diameter. Heat treatment of Ni fim is a crucial role for the growth of carbon nanotube, High-resolution transmission electron microscopy images show that they are multi-walled nanotube. Raman spectrum shows its peak at 1349cm-1(D band) is much weaker than that at 1573cm-1(G band). We believe that carbon nanotubes contains much less defects. Long carbon nanotubes with length more than several $\mu$m and the carbon particles with round shape were obtained by CVD at ~$650^{\circ}C$ on the Ni droplets. SEM micrograph nanotubes was identified by SEM. Finally, we performed TEM anaylsis on the caron nanotubes to determine whether or not these film structures are truly caron nanotubes, as opposed to carbon fiber-like structures.

• 한국진공학회지
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• 제7권2호
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• pp.88-93
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• 1998

본 연구에서는 기계-화학적 연마(Chemical-Mechanical-Polishing: CMP)공정을 이용 하여 게이트 전극을 가지는 실리콘 전계방출 소자를 제작하였으며, 또한 그 전자방출 특성 을 분석하였다. 실리콘 전계방출 소자를 제작하기 위해 실리콘을 두단계로 이루어진 건식식 각과 산화공정으로 팁을 뾰족하게 만들었으며, 게이트를 형성하기 위하여 고 선택비를 가지 는 CMP공정을 사용하였으며, 연마 시간과 연마 압력의 변화로 게이트 높이와 개구의 직경 을 쉽게 조절할 수 있었다. 또한, CMP공정시 발생되는 디싱(dishing)문제를 산화막 마스킹 을 사용함으로 해결하여 자동 정렬된 게이트전극의 개구를 깨끗하게 형성할 수 있었다. 제 작된 에미터의 높이와 팁끝의 반경은 각각 1.1$\mu$m, 100$\AA$정도이며, 제작된 2809개의 팁 어 레이로 80V의 게이트전압에서 31$\mu$A의 방출전류를 얻을 수 있었다.

• 복식
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• 제22권
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• pp.263-276
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• 1994

The achievement of notable social reoforms attained during the period of 19th and 20th centuries needlessly speaking remodelded the social environmental into several different patterns such as :1) high industrialization 2) propensity to consume 3) up graded overall social stands. Accordingly the industrial world of the but-tons too established the mess production syhstem by breaking from convention of hand-craft work of 17th century. The raw materials used in the production line on buttons during the 20th century are almost all-kind of materials one can possibly named including cheap plastic which enabled production lines to produce cheaper but higher productivities of the buttons being produced, The design (incused design) used in the 19-20h centuries are : men landscape, sports features, birds, livestocks, bugs, or geomatric features, tec, 1, The classification o f the buttons by materials Techniques shapes colors marking (Incused design) used in the productionof buttons in the England United States of America Laska Italy france Denmark Japan and India are categolizzed as : natural raw materials and syntetical resines. 1) Of the natural raw materials used are : Matal Enamel Iodine Agate, Coral, Green jade(Jasper) Granite, Wood, Ivory, Horn and bone etc. 2) The sythetical resin used in the button in-dustries are : Artificial jewell glass Acrylic material Styroform Celluloid and Nylon etc. 2. The thecnique quoted in producing buttons are hand craft work inlay work precision casting press mosic dye etching, processing, engraving and embossed carving etc. 3. The major designs used in the buttons in -dustries are : Round shape however elliptical column angular and edge shape often used. 4. The colors used are : The multi-colors were highly used than mono-colored materials such as : Adjoining Color and Contrast Color. The highest consideration to be considered in choosing the colors for the buttons are harmonization and matching factor with the garment or dresses to be wore. 5. The major design(incused design) on the buttons are embodiment and the design were also used in order of abstractive-combination abstractive with has offers much surprising. The button industries during the 19th and 20th centuries were not only the determination factors those can judge the value of self-pride of Nation and which were far beyond the in-dustrial arts in those days but also highly refelected and influenced by cultural sense ideology and self-pride of the Nation of those period. The followings are details of the role of the buttons categolized in the order of functional ornamental and symbolical aspects : 1. The functional role : The functional role of the buttons were simply designed for dress how-ever the buttons beyond from this role of function now a days. 2. The ornamental role : The ornamental role of he button beyond from this role of the button were effectuated by : 1) shape materials colors 2) technique locations size and design (incused design) 3) The ramaterials used for buttons shall not be over looked because it is highly depends on the taste sense and combination of harmony with the garment to be wore. 4) The color of the buttons are made well contrasted with the color of garments just as in the case of other artistical area such as matchs with the color of garment of contrast with brigtness of colors contrasted as complementary color and so and so. 5) The technique being adoped are: precision casting press handcraft inlay work etching mosic etc,. Since the buttons are no longer a simple catching devise used to fasten together the different part of the dress but now it has formed own and occupied the independent role in the garment or dresses location can be de-termined and varying depending on the ideas of designers. The size of the buttons has no specific limits, However the variation has widely dependined on the entire circumperence rhythm contrast harmonization of the garments. 3. The symbolical role : Since the button is no longer a just a simple devise for catching and fastening device used fastening together the different part of the garments but now were built a independent area as major part of the Garment and well reflected all kinds of occupations political background cultural as-pect etc. on the buttons. The design of buttons in the western circles are more simplified but they are polished looks and their techniques of manufacturing are comination of both machanis and handcraft. The colors used in the buttons are pretty well harmonized with garment(dress). Almost all kind of materials can be used in the but-tons however materials used in the buttons are : Bone of livestocks ivory, turtle shell are no longer used because the prevention of cruely of animal. On the contraly the level of buttons indus-try of Korea is far to reach and catch up with the level of western circles. It is highly suggested therefore the but-tons industrial field of Republic of Korea shall place and encouragement in producing beter industrial environment of the buttons based on the traditional and cultural aspect of republic of Korea to produce both manufacturing of qulified and best designed and colored buttons.

• 대한치과보철학회지
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• 제48권1호
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• pp.8-15
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• 2010

연구 목적: 본 연구에서는 자가부식 접착제를 이용한 즉시 상아질 봉쇄 (immediate dentin sealing; IDS)와 지연 상아질 봉쇄 (delayed dentin sealing; DDS)에서 상아질 접착제의 결합강도를 비교하고 즉시 상아질 봉쇄에서 접착제 표면의 오염물을 제거하기 위해 사용되는 air abrasion이 상아질에 대한 미세 인장 결합강도에 어떠한 영향을 주는지에 대해 평가하였다. 연구 재료 및 방법: 1개월 이내에 발거된 사람의 건전한 대구치 30개를 6개의 군으로 분리하였고 상아질 접착제로는 자가부식 접착제 Clearfil SE bond (Kuraray, Okayama, Japan)를 사용하였다. 군분류는 치관부를 삭제하여 상아질을 노출시킨 후 즉시 접착제를 도포하고 복합레진 Filtek Z250 (3M ESPE, St Paul, MN, USA)을 충전한 군을 대조군 (Control), 노출된 상아질에 즉시 상아질 접착제를 도포하고 2주 후 재차 접착제를 도포해 복합레진과 같이 광중합하는 즉시 상아질 봉쇄군 (IDS), 상아질 노출 후 상아질 접착을 즉시 시행하지 않고 2주 후 상아질 접착과 복합레진의 충전을 시행하는 지연 상아질 봉쇄군 (DDS)으로 분류하였다. 그후Control군에 air abrasion을 시행한 군을 C-A, IDS군에 air abrasion을 시행한 군을 IDS-A군, DDS군에 air abrasion을 시행한 군을DDS-A군으로 세분화하였다. Control군과 C-A을 제외한 모든 군은 2주간 Fermit을 이용한 임시수복기간을 두었으며 대조군과 실험군 모두 미세인장 결합강도 실험 전 24시간동안 증류수에 보관 후 미세인장 결합강도를 측정하였다. 측정된 미세인장 결합강도는 one-way ANOVA를 이용하여 비교 분석하였으며 유의차가 있는 경우 Scheffe test를 이용한 사후검증을 시행하였다. 결과: 1. 자가부식 상아질 접착제인 Clearfil SE bond를 치아 삭제 직후 상아질 접착을 시행하고 2주간 임시수복 기간을 거친 후 접착제를 재도포하고 복합레진을 수복한 군과 치아삭제 후 2주간의 임시수복기간을 거친 후 상아질 접착을 시행하고 복합레진을 수복한 군 사이에 상아질-레진 간 미세인장 결합강도는 유의한 차이가 없었다 (P>.05). 2. 자가부식 상아질 접착제인 Clearfil SE bond를 상아질 접착 시행 전 $50{\mu}m$ 크기의 aluminum oxide particle로 air abrasion 처리하는 것은 상아질-레진 간 미세인장 결합강도에 유의한 영향을 주지 않았다 (P>.05).

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제36권4호
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• pp.280-289
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• 2011

연구목적: 본 연구의 목적은 다양한 소수성을 지닌 최신 상아질 접착시스템과 저수축 silorane 레진의 미세인장결합강도를 평가하는 것이다. 연구 재료 및 방법: 36개의 갓 발치된 제3대구치를 이용했다. Low-speed diamond saw를 사용하여 교합면에 평행하게 치관을 잘라 middle dentin을 노출시켰다. 치아를 무작위로 9 group으로 나눴다. Silorane self-etch adhesives (SS), SS + phosphoric acid etching (SS + pa), Adper Easy bond (AE), AE + Silorane system bonding (AE + SSb), Clearfil SE bond (CSE), CSE + SSb, All-Bond 2 (AB2), AB2 + SSb, All-Bond 3 (AB3). 접착제를 적용한 후에 Filtek LS (3M ESPE)를 2 mm씩 3회 적층충전하였다. 각 층은 40s씩 광중합하였다. 0.8 mm ${\times}$ 0.8 mm stick을 Micro Tensile Tester로 1 mm/min cross-head speed의 인장력을 가하였다. 파절양상를 관찰하기 위해 광학현미경을 이용하였다. 5가지 접착제의 소수성정도를 결정하기위해 water sorption test하였다. 결과: silorane 레진과 5가지 접착제의 ${\mu}TBS$: SS, 23.2 ${\pm}$ 6.9 MPa; CSE, 19.4 ${\pm}$ 4.4 MPa; AB3, 30.3 ${\pm}$ 4.0 MPa; AB2와 AE, no bond. Additional layering of SSb: CSE + SSb, 26.2 ${\pm}$ 10.3 MPa; AB2 + SSb, 33.9 ${\pm}$ 7.3 MPa; AE + SSb, no bond. 높은 ${\mu}TBS$는 cohesive failure와 관련있었다. SS는 낮은 가장 낮은 water sorption을 보였고 다음으로 AB3, AE, CSE, AB2 순서였다. AE는 가장 높은 용해도를 나타냈고 다음으로 CSE, AB2였다. 결론: 접착제의 소수성이 증가할수록, silorane 레진의 접착강도도 증가하였다. 비전용접착제 위에 silorane adhesive bonding을 layering하는 것은 AB2 + SSb 그룹에서만 결합강도를 유의하게 증가시켰다. AB3는 SS와 유사한 ${\mu}TBS$ & water sorption을 나타냈다. 따라서 AB3는 siloran resin을 접착시키는데 SS를 대체할만한 경쟁력있는 접착제이다.

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제33권2호
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• pp.141-147
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• 2008

본 연구의 목적은 나노리터 수준의 물 흐름을 계측할 수 있는 장치를 개발하고, 상아질의 물 투과성을 측정하여 치아과민증 치료제와 상아질 접착제의 상아세관 밀폐효과를 알아보고자 하였다. 본 연구에서 제작한 미세흐름 측정장치는 첫째, 물의 흐름을 감지하는 모세관과 광 센서부, 둘째 물의 흐름을 추적하는 서보모터와 구동부, 셋째, 모터의 회전을 측정하여 물의 이동량으로 변환하는 엔코더와 컴퓨터 기록장치 등 세 부분으로 구성되어 있다. 본 장비를 이용하여 교합 면이 절단되어 노출된 상아질의 물 투과도와 치아과민증 치료제인 BisBlock과 자가부식형 상아질접착제인 Clearfil SE bond의 상아질 밀폐효과를 측정하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. 나노리터 수준의 물 흐름을 측정할 수 있는 장치를 제작하였고, 이를 이용하여 상아질의 물 투과도를 측정할 수 있었다. 2. 삭제 후 노출 연마된 상아질은 0.84 - 15.2 nL/s의 물 투과도를 보였고 Oxalate 제재인 BisBlock 이나 자가부식형 접착제 Cleafil SE bond 적용 시 투과도가 39.8 - 89.6% 감소하였다.

• 대한소아치과학회지
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• 제35권3호
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• pp.509-515
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• 2008

현대 사회에서 증가하고 있는 산성 음료의 소비는 치아 부식의 원인으로 주목받고 있다. 이에 본 연구에서는 산성 음료와 산부식 용액, 산성 음료 적용 후 칫솔질, 산성 음료 적용 후 우유, 타액, Tooth $Mousse^{(R)}$ 의 적용이 치아 법랑질 표면 재광화에 미치는 영향을 평가하기 위해 사람 소구치의 치관 시편을 제작하여 각각을 적용시킨 후 scanning electron micrograph (SEM)를 촬영한 결과 다음과 같은 결과를 얻었다. 1. Coca-Cola와 Chilsung-Cider의 산도는 FineEtch 37과 self-etching primer인 $Tyrian^{TM}SPE$의 산도보다 높았다. 2. Coca-Cola, Chilsung-Cider, FineEtch 37, $Tyrian^{TM}SPE$를 적용한 후 촬영한 SEM 사진에서 법랑질 표면의 부식된 양상을 비교한 결과 Coca-Cola와 Chilsung-Cider의 산부식 정도가 나머지 둘의 산부식 정도보다 낮은 양상을 보였다. 3. Coca-Cola, Chilsung-Cider를 적용한 후 우유, 타액, Tooth $Mousse^{(R)}$를 적용시키고 촬영한 SEM 결과 모두 비슷한 양상을 보였으며 이는 부식된 법랑질 표면보다 덜 부식된 양상을 보였다. 4. Coca-Cola를 적용시킨 다음 칫솔질한 후와 Coca-Cola, 타액, 칫솔질의 순서로 적용한 후 촬영한 SEM 결과, 타액을 적용시킨 법랑질의 표면이 덜 부식된 양상을 보였다.